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2022-05-31 09:23 |
光学工程仿真软件-FRED操作手册(上、下册)
光学工程仿真软件-FRED操作手册 全新改版(上) J/7u7_ v=Mz I#0L 本书中存在的不足之处,敬请读者不吝指正。 4vGbG:x T &*eOr
作者 讯技光电科技有限公司 0 r3N^_} 目 录 i n?T]} V*uEJ6T 第一章 FRED概述 1 _w%s(dzk 1.1 WHAT IS FRED? 1 vGyppm[0 1.2 FRED与传统软件之间有什么不同? 1 [Ekgft& 1.3 FRED名词术语 2 LOt#1Qv 1.4 FRED用户界面 7 6\mC$: F 第二章 光源 16 auoA 2.1 简易光源 16 ~,+[M- 2.1.1 简易光源的建立 16 yh$ ~*UV 2.1.2 复杂光源(简易光源对话框内) 17 oHRbAE^ 2.1.3 准直光源(平面波) 19 Xr)g 2.1.4 激光二极管光束(像散高斯) 22 04[)qPPS 2.1.5 激光光束(TEM00模式) 24 x"!#_0TT} 2.1.6 点光源 27 T/Ez*iQW 2.1.7 M2高斯光束 28 Y?e3B x7*b 2.1.8 相干光 32 cWc$yE' 2.2 复杂光源 49 [$H( CH` 2.2.1复杂光源的创建与编辑 49 IjgBa-o/V 2.2.2创建新的与编辑/查看复杂光源对话框 51 EyPy*_A 2.2.3光源位置类型 51 X)Ocn`| 2.2.3.1位图 51 ]q37 Hj 2.2.3.2格子平面(创建新的与编辑/查看复杂光源对话框) 54 14;Av{Xt 2.2.3.3六角形平面 55 BiI{8`M!$x 2.2.3.4 字符串光源 56 {AtfK>D 2.2.3.5光源文件的输入 58 ~.!?5(AH8z 2.2.3.6随机平面 60 f`bIQ 9R 2.2.3.6随机字符串 60 iiQ||P}5 2.2.3.7随机表面 62 W *|OOa' 2.2.3.8随机体积 63 P[6dTZ!\s 2.2.3.9 用户定义的光线 65 F^[M 2.2.4方向类型 68 e4 ?<GT 2.2.4.1像散焦距 68 L5TNsLx ( 2.2.4.2像散高斯光束 69 X%*brl$D 2.2.4.3焦点到/来自一点 70 dUUPhk0 2.2.4.4 多光源的角(平面波) 72 Q=MCMe 2.2.4.5 多光源的位置 73 >n#g9v K 2.2.4.6 角度范围内的随机方向(光线) 74 ByC1I.B` 2.2.4.7 球体内的随机方向(光线) 76 =/M$
<+ 2.2.4.8 单向 77 XC57];- 2.2.4.9 角度空间内构成六角形格子点的方向(光线) 79 Qdh"X^^ 2.2.4.10 构成线性格子点的方向(光线) 80 W[@"H1bVH 2.2.4.11 激光二极管光束方向 81 rZb_1E< 2.2.4.12根据强度分布的随机光线方向 82 R,fMZHAG 2.2.4.13 M2激光束方向 83 e=YO.HT 2.3 光源标签 84 AW]("pt 2.3.1 相干 84 0<6rU 2.3.2 位置/坐标 86 s}z(|IrH 2.3.3 偏振 88 ^?81.b|qb 2.3.4 位置/方向 89 K7n;Zb:BR 2.3.5 功率 93 n">?LN-DC 2.3.6 视觉效果 94 tP/GDC; 2.3.7 波长 96 FA<Z37: 2.4 切趾光源 99 _+0uju?o} 2.4.1 位置切趾 99 4UkP:Vz: 2.4.1.1振幅/相位掩模板 99 {[H4G,QK
2.4.1.1.2 掩膜板大小 101 pQ 4
%]Api 2.4.1.2 高斯切趾 101 Oct\He\. 2.4.1.3 R^n距离 104 S]Yu6FtWiO 2.4.1.4均匀 106 weTK#O0@v 2.4.2 方向切趾 108 Qu,)wfp~ 2.4.2.1 cos^n 或 sin^n 108 ?Xy w<fMQ 2.4.2.2逆朗伯 110 \1eKY^)2 2.4.2.3高斯 113 sPZV>Q:zY 2.4.2.4郎伯 115 g: H[#I 2.4.2.5取样(球形角) 118 (\[jf39e 2.4.2.6均匀 121 vr8J*36{ 2.4.3光线导入选项 123 (2hk < 2.4.4数字化光源光谱 123 vV\/pu8 2.4.5部分相干 125 N6-2*ES 2.4.6 场重新取样 125 t*ri`}a{v 2.4.7场重新取样(图形用户界面) 126 ?eYchVq 第三章 几何体议题与例子 128 !>"INmz 3.1 创建新曲面 129 x);?jxd 3.1.1 编辑/查看曲面 132 :7 s#5b 3.1.2 应用孔径,裁剪体与裁剪对象 134 PW~cqo B71 3.1.2.1裁剪体与裁剪对象 137 Q>#)LHX 3.1.2.2裁剪逻辑操作 139 KU8Cl>5 3.1.3 应用位置 149 XACEt~y 3.1.4 应用胶合 152 }(f,~?CP] 3.1.5 应用光栅 154 _s*uF_:3 3.1.6 曲面类型 161 k;AV;KWI' 3.1.7 应用可视化属性 164 c@"i? 3.1.8 应用曲面变形 166 3XYIb Xnk 3.1.9 材料 171 oIu,rjb 3.1.10 散射特性 173 D7n&9Z 3.1.11 辅助数据 180 EeF n{_ 3.2 ASAP™导入 180 l{%Op\ 3.3 CAD导入 182 {H"=PYR 3.4创建几何实体 186 7J)Hwl 3.4.1 透镜导入 187 b5iJm- 3.4.2 透镜及反射镜建立 190 =Un 6|] 3.4.3 从目录中插入棱镜 193 d}^:E 3.4.4 棱镜 196 }I'>r(K 3.4.5 元件基元 200 qH}62DP3 3.4.6 布尔运算 207 S^sW.(I 3.5 新自定义元件 211 ~O7cUsAi' 3.6 元件与自定义元件的比较 215 2EI m 3.7 方向余弦 216 t'_,9 3.8 IGES对象类型标号和标题 217 FC/>L 第四章 曲线与基于曲线的曲面 225 Qnu&GBM 4.1 曲线 226 V!aC#^ 4.2 曲面类型 234 a 7mKshY( 4.3 复杂曲面孔径:孔径曲线集合 239 RQ$o'U9A 4.4 曲线可视化 256 85d7IB{28 第五章 分析面及其实例 257 d$G%F $BTs 5.1 创建分析平面 258 C[/Uy 5.2 光线选择标准 267 mc[_>[m 5.3 粘附分析平面 271 lhvZ*[[<) 5.4 探测器实体 274 $SD@D6`lL 5.5 分析面尺寸 279 w7]p9B 第六章 材料设定与定义 280 k)4lX|}Vm 6.1 材料定义 281 ^.$r1/U 6.2 材料类型 284 Wb-'E%K 6.3 编辑/创建新取样材料 287 8^ ZM U{ 6.4 编辑/创建新模型材料 295 /%@RO^P 6.5 添加体散射 300 dA!fv`,6- 6.5.1 Henyey-Greenstein散射 301 MRY)m@*+6 6.5.2 脚本体散射 303 ?@uK s4 6.6 材料吸收特性 305 H9a3rA> 6.7 光线追迹胶合层 308 '\vmfp= 第七章 镀膜 310 CSg5i&A= 7.1 新建镀膜 311 =dw*B 7.2 应用光线控制和镀膜 318 e+=G-u5}- 7.3 编辑或创建新的一般取样镀膜 321 1'._SMP 7.4 编辑或创建新的薄膜层镀膜 330 Ia>th\_& 7.5 未镀膜(裸露)曲面 338 yl]Cm?8 7.6 编辑或创建新的偏光器/波片镀膜 342 Fq\`1Ee{ 7.7 取样镀膜(波长、R、T) 354 DB?PS^-2 7.8 1/4波单层镀膜 357 \crb&EgID 7.9 脚本镀膜 358 )T~ +>+t 8.1新建散射属性 360 MxvxY,~{0 8.2编辑/创建新散射模型 371 !6i 8.2.1散射模型 – ABg 371 mDt",#g
8.2.2散射模型 – 平滑黑色涂料 376 #Ew
eG^!# 8.2.3散射模型 – Harvey-Shack 381 j$ i8@] 8.2.4散射模型 – 朗伯型 388 \#*;H|U.x 8.2.5散射模型 – Mie 393 -,CndRKx 8.2.6散射模型 – 列表数据 404 'H-YFB$l 8.2.7散射模型 – K-系数 409 ba:du
|Ec 8.2.8散射模型 – Phong 413 [A OluS 8.2.9散射模型 – 薄片PSD 419 F v^80M=z 8.2.10散射模型 – 漫反射二项式 422 ng)yCa_Ny 8.2.11散射模型 – 漫反射多项式 424 x6cl(J} 8.2.12散射模型 – 扩展 Harvey Shack 426 >71w
#K 8.2.13散射模型 – 脚本散射 426 O5n]4)< 8.2.14散射模型 – 扩展脚本散射 430 aNf3 R; * 第九章 光线追迹属性 432 <:}AC{I 9.1 光线追迹控制 433 x?&xz; 9.2 默认光线追迹控制 440 WiCM,wDi 9.2.1默认光线追迹控制 – 允许全部 440 n'(n4qH2#s 9.2.2默认光线追迹控制 – 暂停全部 444 'C4Ll2 9.2.3默认光线追迹控制 – 反射光谱 448 thboHPml{ 9.2.4默认光线追迹控制 –透射光谱 452 k |aOUW 9.3 高级光线追迹 456 H"
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