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2022-05-26 09:28 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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内容简介 HQZJK82 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 AvVPPEryal 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 j];#=+ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Py`7)S 此书也是Macleod先生生前的最后一部作品,非常有纪念收藏价值!有兴趣的可以联系我[attachment=112621] nP&6i5s%
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E]Qd5l 目录 6W<Ig; Preface 1 rR4?*90vjj 内容简介 2 8UzF*gS 目录 i w7E#mdW 1 引言 1 kXWC
o6? 2 光学薄膜基础 2 ZcHd.1fXh 2.1 一般规则 2 (M?VB*sm0 2.2 正交入射规则 3 ~\*wt( o 2.3 斜入射规则 6 6<%b}q9Mo 2.4 精确计算 7 Z,-J
tl 2.5 相干性 8 ta@fNS4 2.6 参考文献 10 HXN. ,[ 3 Essential Macleod的快速预览 10 e6>[Z C 4 Essential Macleod的特点 32 q>s`G 4.1 容量和局限性 33 G?^w
< 4.2 程序在哪里? 33 @X2 zIFm 4.3 数据文件 35 9!PM1<p 4.4 设计规则 35 ujn7DBE" 4.5 材料数据库和资料库 37 Z6zLL 4.5.1材料损失 38 bZ#KfR 4.5.1材料数据库和导入材料 39 |.b&\ 4.5.2 材料库 41 610u!_- 4.5.3导出材料数据 43 (Z0.H3 4.6 常用单位 43 "!Nu A 4.7 插值和外推法 46 J vl-=~ 4.8 材料数据的平滑 50 v8 II=9 4.9 更多光学常数模型 54 |kF"p~s 4.10 文档的一般编辑规则 55 -
i{1h" 4.11 撤销和重做 56 g7w#;E 4.12 设计文档 57 J|@O4g 4.10.1 公式 58 E<p<"UjcCJ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 L<G6)'5W 4.10.3 沉积密度 59 9&HaEAme 4.10.4 平行和楔形介质 60 #<@_mbQ@|K 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 lmIphOUoIw 4.10.4 性能 61 NA YwuE-` 4.10.5 保存设计和性能 64 J[UTn'M8] 4.10.6 默认设计 64 [B^V{nUBc 4.11 图表 64 Bw<$fT` 4.11.1 合并曲线图 67 /GO((v+J 4.11.2 自适应绘制 68 MH]?:]K9V 4.11.3 动态绘图 68 +O1=Ao 4.11.4 3D绘图 69 J!"m{ 8- 4.12 导入和导出 73 DG=_E\"# 4.12.1 剪贴板 73 ti<;>P[4 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ]E*xn 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 3W[Ps?G 4.13 背景 77 _$mS=G( 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 X;{U? `b- 4.15 生成Rugate 84 >w1jfpQ@t$ 4.16 参考文献 91 eH 9-GGr 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 J=H8^4M 5.1 Jobs 92 AY]rQ:I 5.2 创建一个新Job(工作) 93 >`n)-8 5.3 输入材料 94 _AiGD 5.4 设计数据文件夹 95 [C3wjYi 5.5 默认设计 95 }]pO R&o 6 细化和合成 97 cr!s q.)s 6.1 优化介绍 97 v){X&HbP 6.2 细化 (Refinement) 98 r3YfY\ 6.3 合成 (Synthesis) 100 2bf#L?5g/ 6.4 目标和评价函数 101 3P*"$ fH 6.4.1 目标输入 102 V^\b"1X7N 6.4.2 目标 103 |vj!,b88n# 6.4.3 特殊的评价函数 104 R;w1& Z 6.5 层锁定和连接 104 =I$:-[( 6.6 细化技术 104 ?`B6I!S0[ 6.6.1 单纯形 105 WhL"-f 6.6.1.1 单纯形参数 106 &qV_|f; 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 3UcOpq2i\ 6.6.2.1 Optimac参数 108 !)OA7%3m 6.6.3 模拟退火算法 109 2!a~YT 6.6.3.1 模拟退火参数 109 tY?evsVgz 6.6.4 共轭梯度 111 {z# W- 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Z-i$KF 6.6.5 拟牛顿法 112 >;X^+JH!) 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 w.Kp[ 6.6.6 针合成 113 :5zO!~\
6.6.6.1 针合成参数 114 !Mk]% 6.6.7 差分进化 114 XOzZtt 6.6.8非局部细化 115 c+u) C%g 6.6.8.1非局部细化参数 115 Eqh&<]q 6.7 我应该使用哪种技术? 116 oX-h7;SD 6.7.1 细化 116 &wB?ks 6.7.2 合成 117 4hV~
ir 6.8 参考文献 117 WoWBZ;+U 7 导纳图及其他工具 118 GV
SVNT}I 7.1 简介 118 )eWg2w ] 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ld'Aaxl& 7.2.1 四分之一波长规则 119 H.TPKdVX 7.2.2 导纳图 120 Xx=.;FYk 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +'D
#VG 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 +C(/.X
Kz% 7.5 斜入射导纳图 141 4!< | |