| infotek |
2022-05-26 09:28 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
Es'-wr\Hm 内容简介 rI0)F Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Fweh =v 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 iV?` i 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \!^i;1h0c3 此书也是Macleod先生生前的最后一部作品,非常有纪念收藏价值!有兴趣的可以联系我[attachment=112621] cMD RWh
IQ3n@
Z#-k.|} 目录 gyi)T?uS) Preface 1 8f?rEI\0GD 内容简介 2 pC*BA<?Rg 目录 i +XEjXH5K 1 引言 1 g<fDY6jt 2 光学薄膜基础 2 u3 ]Uxy 2.1 一般规则 2 m!<X8d[bD 2.2 正交入射规则 3 *(k%MTG 2.3 斜入射规则 6 ~|&="K4,: 2.4 精确计算 7 0 Tcz[$? 2.5 相干性 8 NEA_Plt 2.6 参考文献 10 BwC<rOU 3 Essential Macleod的快速预览 10 Q0pzW:=s] 4 Essential Macleod的特点 32 i90}Xyt 4.1 容量和局限性 33 aH%ZetLNJ 4.2 程序在哪里? 33 I> {!U$ 4.3 数据文件 35 0$tjNye 4.4 设计规则 35 ?VB#GJ0M9 4.5 材料数据库和资料库 37 Oe/6.h? 4.5.1材料损失 38 T^~)jpkw 4.5.1材料数据库和导入材料 39 =H[\%O~?b 4.5.2 材料库 41 CoU3S,;* 4.5.3导出材料数据 43 A2y6UzLYD 4.6 常用单位 43 eUt=n)*` 4.7 插值和外推法 46 +UzXN$73 4.8 材料数据的平滑 50 }sv!=^}BY3 4.9 更多光学常数模型 54 OU!nN>ln 4.10 文档的一般编辑规则 55 ~n
WsP}`n 4.11 撤销和重做 56 || [89G 4.12 设计文档 57 *C\(wL 4.10.1 公式 58 LfEvc2
v=g 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 czI{qi5N 4.10.3 沉积密度 59 3:lDL2 4.10.4 平行和楔形介质 60 EZ<80G 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ~\$=w10 4.10.4 性能 61 RlrZxmPV>O 4.10.5 保存设计和性能 64 6B#('gxO 4.10.6 默认设计 64 )u;JwFstX 4.11 图表 64 a9=> r 4.11.1 合并曲线图 67 `mzb(bE 4.11.2 自适应绘制 68 4qt+uNe! 4.11.3 动态绘图 68
9RQU? 4.11.4 3D绘图 69 QBoFpxh= 4.12 导入和导出 73 JWWYVl VC 4.12.1 剪贴板 73 FEF"\O|Q 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 }taLk@T 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ocF>LR%P 4.13 背景 77 IU|kNBo 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 (S|a 9# 4.15 生成Rugate 84 kn}zgSO 4.16 参考文献 91 oV9z(!X/ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
:Hk_8J 5.1 Jobs 92 DzC Df@TB" 5.2 创建一个新Job(工作) 93 C/G]v*MBQ 5.3 输入材料 94 nL+p~Hi 5.4 设计数据文件夹 95 CbOCk:,g5 5.5 默认设计 95 Q".g.k 6 细化和合成 97 i5"5&r7r 6.1 优化介绍 97 ydQ!4 6.2 细化 (Refinement) 98 R,Fgl2 6.3 合成 (Synthesis) 100 EyY],W1 Y 6.4 目标和评价函数 101 X4wH/q^ 6.4.1 目标输入 102 =A@>I0(7 6.4.2 目标 103 vT c7an6fy 6.4.3 特殊的评价函数 104 T|;@T^ 6.5 层锁定和连接 104 -#.< 12M 6.6 细化技术 104 oQT2S>cm^ 6.6.1 单纯形 105 *KJB>W%@uM 6.6.1.1 单纯形参数 106 7?J3ci\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 bO3GVc+S 6.6.2.1 Optimac参数 108 LL(|$}yW
6.6.3 模拟退火算法 109 7+nm31,<O 6.6.3.1 模拟退火参数 109 I{ ryD -! 6.6.4 共轭梯度 111
NF+<#*1 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 "3fBY\>a 6.6.5 拟牛顿法 112 "uKFOV?j& 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 @g-G
=Ba 6.6.6 针合成 113 2-dh;[4 6.6.6.1 针合成参数 114 >2b`\Q*< 6.6.7 差分进化 114 xJc$NV-JzK 6.6.8非局部细化 115 raE
Mm 6.6.8.1非局部细化参数 115 icgJ;Q 5 6.7 我应该使用哪种技术? 116 aD9q^EoEs 6.7.1 细化 116 ;3"@g]e 6.7.2 合成 117 sw;|'N$:< 6.8 参考文献 117 q.Jsf+ 7 导纳图及其他工具 118 P4k;O?y 7.1 简介 118 Pbn!KX~F~ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 yNCEz/4 7.2.1 四分之一波长规则 119 8(f:U@BS 7.2.2 导纳图 120 6na^]t~ncm 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 dJ
~Zr)> 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ""% A'TZ 7.5 斜入射导纳图 141 8'#/LA[uPe 7.6 对称周期 141 epg#HNP7^Y 7.7 参考文献 142 $q_R?Eay 8 典型的镀膜实例 143 J?&l*_m;t 8.1 单层抗反射薄膜 145 i"r!w|j 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 "m$3)7 $ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ?o*I9[Z) 8.4 W-膜层 148 PuL<^aJ 8.5 V-膜层 149 e6E?t[hEeS 8.6 V-膜层高折射基底 150 z6*<V5<7 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 J2VTo: In 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 A+getdr 8.9 四层抗反射薄膜 153 xQ4%e[/ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 #Sh < | |