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infotek 2022-04-25 09:40

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 {Ri6975  
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场景 XcFu:B  
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组件求解器 tS3!cO\  
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几何光学仿真 wvI}|c  
通过光线追迹 iw^"?:'%  
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结果:光线追迹 ZMEYF!j N  
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通过场追迹 %GigRA@no  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 s+9b.  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 u >.>hQ  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ^.>XDUO F  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 'ALe>\WO  
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