| 探针台 |
2022-04-05 09:16 |
俄罗斯宣布研发X射线光刻机
光刻机是半导体行业的明珠,美国希望在这个领域牢牢掌握主动权,因此对中俄等均进行严格的限制和制裁,中国一直没有最先进的EUV光刻机,最近格科微引进的先进ArF光刻机也只是DUV的一种。而在俄乌冲突之际,昨天,美国更是对俄罗斯最大的芯片企业Mikron进行全方位制裁。近日,有消息称:俄罗斯将研发当前全球最先进的EUV光刻机,或许比ASML的EUV光刻机性能更先进。请看详情。 tzdh3\6F (K3eb 投资6.7亿卢布 ?$Ii_. IhPX/P 据报道,俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目,该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金(约合5100万元人民币)。研发的光刻机计划达到EUV级别,但技术原理完全不同,是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机。 L5A?9zum/! %
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'UA 广告“MIET已经在无掩模EUV光刻领域取得了进展,包括与国内其他科研机构和科学家团体联合开展的研究。该项目还将涉及 Zelenograd 公司 ESTO 和 Zelenograd 同步加速器,现在是国家研究中心库尔恰托夫研究所的技术储存综合体 (TNK) Zelenograd。 .fD%*- “基于在该国运行和发射的同步加速器,特别是在 TNK Zelenograd 的同步加速器以及国内等离子源的基础上,创造技术和设备,将使处理具有设计标准的半导体晶片成为可能28 nm、16 nm 及以下,”声明说。招标文件包含这项研究工作(研发)的要求。“无掩模X射线纳米光刻技术和正在开发的设备在国内和世界上都没有类似物。” <K
GYwLk 工贸部与 MIET 签订的合同价格为 6.7 亿卢布。 KIYs[0*k “我们谈论的是长期的研发工作,从好的方面来说,这应该在 15 年前就开始了,”关于这个项目的 Stimulus 杂志出版物的作者 Alexander Mechanik说。” sH /08Z -9~WtTaV.H 俄罗斯光刻机技术 ,'>O#kD
;eT+Ly|{ 目前,EUV光刻机全球只有ASML公司能够研发、生产,但它的技术限制也很多,俄罗斯计划开发全新的EUV光刻机,使用的将是X射线技术,不需要光掩模就能生产芯片。 m$}Jw< | |