首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> JCMSuite应用—衰减相移掩模 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2022-04-02 09:45

JCMSuite应用—衰减相移掩模

在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: 5{zXh  
b\7-u-   
b+'G^!JR  
}H?8~S =  
掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 G&0&*mp  
NS#qein~i  
由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 #-'=)l}i1A  
'/\@Mc4T  
相位分布如下图所示: Y:FV+ SI  
X8ev uN  
k*-_CO-h  
HyiuU`  
相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: Xf:CGR8_  
X9/V;!  
zpZlA_   
查看本帖完整版本: [-- JCMSuite应用—衰减相移掩模 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计