首页
->
登录
->
注册
->
回复主题
->
发表主题
光行天下
->
讯技光电&黉论教育
->
JCMSuite应用—衰减相移掩模
[点此返回论坛查看本帖完整版本]
[打印本页]
infotek
2022-04-02 09:45
JCMSuite应用—衰减相移掩模
在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示:
?M!Mb-C[
F t/yPv
#1*#3p9UL
=mR~\R( I
掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。
3LGX ^J<f
Drm#z05i[g
由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。
mi[t1cN)=
Jq>rA
相位分布如下图所示:
8tfM,.]_i
}uZ/^_U.
n(I,pF
1WjNF i
相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差:
-t]3 gCLb
88Nx/:#Y*
W(pq_H'
查看本帖完整版本: [--
JCMSuite应用—衰减相移掩模
--] [--
top
--]
Copyright © 2005-2024
光行天下
蜀ICP备06003254号-1
网站统计