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2022-03-17 09:22 |
基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术
作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark wrabyRjK 译:讯技科技股份有限公司 (|dPeix| 校:讯技科技股份有限公司 :\mRtVH
DKTD Z* 书籍概况: G)8ChnJa!m +>4^mE" \ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Hng!' 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 .9OFryo 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @ ICbKg: x~EKGoz3 书籍目录 gJh}CrU- Pr`s0J%m 1 引言 p0Gk j- 2 光学薄膜基础 3 "Yif 2.1 一般规则 (')(d
HHW 2.2 正入射规则 &+G;R 2.3 斜入射规则 +bUW!$G 2.4 精确计算 ;\x~ '@ 2.5 相干性 \DS^i`o)rY 3 Essential Macleod的快速预览 vr 4O8# 4 Essential Macleod的特点 =T4u":#N; 4.1 容量和局限性 vOe0}cR 4.2 程序在哪? 5,R`@&K3D 4.3 数据文件 @o&Ytd;i 4.4 设计规则 ;%Q&hwj 4.5 材料数据库和目录库 f?^S bp 4.5.1 材料数据库及导入材料 J(e7{aRJ9 4.5.2 材料目录库 B)6#Lp3 4.5.3 导出材料数据 (ND%} 4.6 常用单位 Xu6K%]i^ 4.7 插值 UOt8Q0)} 4.8 材料数据的平滑 # $~ oe" 4.9 一般文档编辑规则 ~RInN+N# 4.10 设计文档 5kn+
>{jh` 4.10.1 公式 ('4wXD]C 4.10.2 更多关于膜层厚度 ! Mo`^t 4.10.3 沉积密度 !y. $J< 4.10.4 性能计算 Y\(;!o0a 4.10.5 保存设计和性能 NAJVr}4f 4.10.6 默认设计 h/K@IAd 4.11 图表 ,{8v4b- 4.11.1 合并曲线图 Kam]Mn' 4.11.2 自适应绘制 c`jDW S 4.11.3 动态参数图 :u/mTZDi 4.11.4 3D绘图 7"cv|6y| 4.12导入和导出 J633uH}} 4.12.1 剪贴板 :gf;} 4.12.2 不通过剪贴板导入 2h q>T&8 4.12.3 不通过剪贴板导出 k>5 O`Y: 4.13 背景(Context)
"SR5wr 4.14 扩展公式 - 生成设计 Hb!6ZEmN% 4.15 生成Rugate 56{I`QjX 4.16 参考文献 ehT%s+aUw 5 在Essential Macleod中建立一个Job [s}/nu~U 5.1 Jobs ,{KCY[}| 5.2 创建一个新的Job $r79n- 5.3 输入材料 ?WHy0x20 5.4 设计数据文件夹 FN?3XNp. 5.5 默认设计 OipqoI2 6 细化和合成 d~Mg
vh' 6.1 最优化导论 AVFjBybu9 6.2 细化 !h: Q 6.3 合成 m@\ZHbq 6.4 目标和评价函数 ,S!w'0k|n 6.4.1 目标输入 *7RvHHf 6.4.2 目标关联 iM5vrz`n 6.4.3 特殊的评价函数 *||d\peQ 6.5 膜层锁定和关联 KOSQQf
o 6.6 优化技术 _| zBUrN 6.6.1 单纯形 SaO3zz@L 6.6.1.1单纯形参数 r}W2 Ak\ 6.6.2 Optimac
q3S+Y9L 6.6.2.1 Optimac参数 RH[+1z8 6.6.3 模拟退火算法 2"&)W dm 6.6.3.1退火参数 j@| `f((4 6.6.4 共轭梯度 X3B{8qx_> 6.6.4.1共轭梯度参数 ,.v7FM^gO 6.6.5 拟牛顿法 !w2gGy:I> 6.6.5.1 拟牛顿法参数: _^\$"nw 6.6.6 针形合成 98=la,^$ 6.7 我应该使用哪种技术? Z
cpmquf8L 6.7.1 细化 `hrQw)5?r 6.7.2 合成 b$-e\XB! 6.8 参考文献 Tlodn7%", 7 导纳图和其他工具 GoE
'L 7.1 介绍 ir[jCea, 7.2 导纳变换 VQxpN 1 7.2.1 四分之一波长规则 D7?C 7.2.2 导纳轨迹图 qp~gP 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 k;Fh4Hv 7.4 全介质抗反射膜的应用 X_?97iXjx 7.5 对称周期结构 .CbGDZ 7.6 参考文献 p#@Z$gTH`' 8.典型的镀膜实例 MGt]' } 8.1 单层抗反射膜 Vrp[r *V@E 8.2 1/4-1/4抗反射膜 \x+3f 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 uaw < 8.4 W-膜层 ||eAE) 8.5 V-膜层 7r
0,>
3" 8.6 高折射基底V-膜层 jH*)%n5,\ 8.7 高折射率基底b V-膜层 k6**u 8.8 1/4-1/4高折射率基底 d,cN( 8.9 四层抗反射膜 WsOi,oG@ 8.10 Reichert抗反射膜 +j[oE I`e 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 la^
DjHA$ 8.12 宽波段6层抗反射膜 :}q\tNY< 8.13 宽波段8层抗反射膜 i7Z=|& 8.14 宽波段25层抗反射膜 @pza>^wk 8.15 四层2-1 增透膜 u8vuwbra! 8.16 1/4波长堆栈 )S@jDaU< | |