| infotek |
2022-03-17 09:22 |
基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术
作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark V|$PO
Qa3 译:讯技科技股份有限公司 \y]K]iv 校:讯技科技股份有限公司 J:Qx5;b;
}X^MB 书籍概况: L-C^7[48= 3Z=yCec] Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 D5snaGss9a 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /pPH D] 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 J
3C^tV h72/03! 书籍目录 a*U[;( cK u[4D{ 1 引言 ng!cK<p 2 光学薄膜基础 #]tDxZ]
6 2.1 一般规则 85q/|9D 2.2 正入射规则 ]Z8u0YtM) 2.3 斜入射规则 }RI_k&; 2.4 精确计算 GyN|beou 2.5 相干性 jgIG";:Q 3 Essential Macleod的快速预览 9$;5J 4 Essential Macleod的特点 $sda'L5^p 4.1 容量和局限性 TZt;-t` 4.2 程序在哪? Cd
2<r6i 4.3 数据文件 R P<M 4.4 设计规则 v#%rjml[ 4.5 材料数据库和目录库 e,_Sj(R8 4.5.1 材料数据库及导入材料 vu\W5M 4.5.2 材料目录库 `y.4FA4"8 4.5.3 导出材料数据 D5@=#/?* 4.6 常用单位 &AJkYh 4.7 插值 *m+FMyr 4.8 材料数据的平滑 1bCE~,tD 4.9 一般文档编辑规则 x-CjxU3 4.10 设计文档 DX>LB$dy? 4.10.1 公式 -6kX?sNl)X 4.10.2 更多关于膜层厚度 t,|Apl] 4.10.3 沉积密度 *pa hZiO 4.10.4 性能计算 ?j.a>{ 4.10.5 保存设计和性能 -EP1Rl`\ 4.10.6 默认设计 92<+ug = 4.11 图表 Yp;Z+!!UZ 4.11.1 合并曲线图 /g{*px| 4.11.2 自适应绘制 2[+.*Ef 4.11.3 动态参数图 ~
O#\$u 4.11.4 3D绘图 e72Fz#<q 4.12导入和导出 >ceC8"}J5M 4.12.1 剪贴板 l%"DeRp,/ 4.12.2 不通过剪贴板导入 Z%3CmKdeF 4.12.3 不通过剪贴板导出 Eb[;nk? 4.13 背景(Context) n!/0yR2S 4.14 扩展公式 - 生成设计 #RR;?`,L} 4.15 生成Rugate |> STb\ 4.16 参考文献 )y*&&q
5 在Essential Macleod中建立一个Job ?YL JXq 5.1 Jobs ,FzkGB# 5.2 创建一个新的Job SqPqL<,e 5.3 输入材料
%lnkD5 5.4 设计数据文件夹 \{ EVRRXn 5.5 默认设计 oqF?9<Vgc, 6 细化和合成 &!X<F, 6.1 最优化导论 _D{A`z 6.2 细化 dfdK%/' $( 6.3 合成 wz`% (\ 6.4 目标和评价函数 _dd! nU\A| 6.4.1 目标输入 3 k/E$wOj 6.4.2 目标关联 . J O3# 6.4.3 特殊的评价函数 md+pS"8o; 6.5 膜层锁定和关联 Lf5zHUH 6.6 优化技术 A)]&L`s 6.6.1 单纯形 }qECpKa0 6.6.1.1单纯形参数 M@{?#MkS% 6.6.2 Optimac MN2i0!+ 6.6.2.1 Optimac参数 >JE+j= 6.6.3 模拟退火算法 GbQi3% 6.6.3.1退火参数 J"AR3b@,$? 6.6.4 共轭梯度 cgrSd99. 6.6.4.1共轭梯度参数 g8MW6Y 6.6.5 拟牛顿法 rt*x[5< 6.6.5.1 拟牛顿法参数: 2(DhKHrF 6.6.6 针形合成 .?6p~ 6.7 我应该使用哪种技术? xS1n,gTA 6.7.1 细化 &B(z**+9 6.7.2 合成 NRtH?&7 6.8 参考文献 `YqtI/-w 7 导纳图和其他工具 $f3 IO#N 7.1 介绍 3XQa%|N( 7.2 导纳变换 ulsU~WW7r 7.2.1 四分之一波长规则 ?P0b/g 7.2.2 导纳轨迹图 e1W9"&4>G{ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 _rYW|*cIF 7.4 全介质抗反射膜的应用 $}WT"K 7.5 对称周期结构 J;_4
3eS 7.6 参考文献 4aOz=/x2 8.典型的镀膜实例 aNu.4c/5 8.1 单层抗反射膜 ]4H)GWHKg 8.2 1/4-1/4抗反射膜 N0w?c 5> 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 HZ'rM5Kq 8.4 W-膜层 ,A` |jF 8.5 V-膜层 95'+8*YCY 8.6 高折射基底V-膜层 mh}D[K=~% 8.7 高折射率基底b V-膜层 }
KyoMs 8.8 1/4-1/4高折射率基底 Nksm&{=6S 8.9 四层抗反射膜 %.=}v7&<z 8.10 Reichert抗反射膜 ~4~r 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 myfTztJ 8.12 宽波段6层抗反射膜 ( 5!'42 8.13 宽波段8层抗反射膜 nUj`#% 8.14 宽波段25层抗反射膜 l3Zi]`@r 8.15 四层2-1 增透膜 fPD.np} 8.16 1/4波长堆栈 X,w X)9]J 8.17 陷波滤光器 u1X^#K$nu' 8.18 Rugate nvndgeSy 8.19 消偏振分光片1 f9K7^qwkiz 8.20 消偏振分光片2 Q O =5Q 8.21 消偏振立体分光片 ?:$
q~[LY 8.22 消偏振截止滤光片 q{&c?l*2 8.23 偏振立体分光片1 ~o_JZ: 8.24 偏振立体分光片2 14'\@xJMM 8.25 缓冲层 aC}\`.Kb 8.26 红外截止滤光片 -6DRX 8.27 21层长波通过光片 ^ELZ35=qZ 8.28 49层长波通滤光片 fr(Ja; 8.29 55层长波通滤光片 hdw.S`~}% 8.30 宽带通滤光片 Zm0VaOT $I 8.31 诱导透射滤光片 =?C < | |