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2022-03-17 09:22 |
基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术
作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark Q>}2cDl 译:讯技科技股份有限公司 *E>.)B i 校:讯技科技股份有限公司 iY[+Ywh
$<@\-vYvr@ 书籍概况: -ML6d&cm &Y|Xd4: Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $KV&\Q3\0 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 PsjbR 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,cTgR78' Ob +9W 书籍目录 x
FJg LDT(]HJ 1 引言 ]rd/;kg.S 2 光学薄膜基础 /z."l!u6 2.1 一般规则 .;/L2Jv 2.2 正入射规则 `%K`gYhG1 2.3 斜入射规则 ux2013C_ 2.4 精确计算 0V,Nv9!S 2.5 相干性 yFIy`9R 3 Essential Macleod的快速预览 A(6xg)_XQ 4 Essential Macleod的特点 C.a5RF0 4.1 容量和局限性 I\P Bu$Ww 4.2 程序在哪? @B1{r|-<^ 4.3 数据文件
{E9v`u\ 4.4 设计规则 O0~vf[i]; 4.5 材料数据库和目录库 l4'~}nn(Y 4.5.1 材料数据库及导入材料 _v5t<_^N 4.5.2 材料目录库 Aw^yH+ae 4.5.3 导出材料数据 Os),;W0w4 4.6 常用单位 -mNQ;zI1 4.7 插值 dT@UK^\ 4.8 材料数据的平滑 >O{7/)gS^ 4.9 一般文档编辑规则 -<f/\U 4.10 设计文档 kN9yO5h7 4.10.1 公式 J}g~uW 4.10.2 更多关于膜层厚度 ~&G4)AM 4.10.3 沉积密度 C?m,ta3 4.10.4 性能计算 Evu=M-? 4.10.5 保存设计和性能 M8W# io 4.10.6 默认设计 GKtS6$1d# 4.11 图表 `"y`AY/N 4.11.1 合并曲线图 <HoAj"xf 4.11.2 自适应绘制 2=*=^)FNI 4.11.3 动态参数图 Bt~s*{3$8 4.11.4 3D绘图 S)\8|ym6! 4.12导入和导出 \3Jq_9Xv 4.12.1 剪贴板 J%v5d*$. 4.12.2 不通过剪贴板导入 - V) R< 4.12.3 不通过剪贴板导出 n[k1np$7?6 4.13 背景(Context) M-9gD[m 4.14 扩展公式 - 生成设计 -e`;bX_N) 4.15 生成Rugate I@Z)<5Zf 4.16 参考文献 (i`(>I.(/ 5 在Essential Macleod中建立一个Job L/r{xS 5.1 Jobs >q( 5ir 5.2 创建一个新的Job x'`"iZO.t 5.3 输入材料 r2eQ{u{nX 5.4 设计数据文件夹 ai ftlY 5.5 默认设计 /A(NuB<Pq 6 细化和合成 uDG+SdyN@ 6.1 最优化导论 +$pJ5+v 6.2 细化 YB!!/ SX4 6.3 合成 ia{kab|_5 6.4 目标和评价函数 :$H!@n*/R 6.4.1 目标输入 !Tfij(91 6.4.2 目标关联 " ~$$ 6.4.3 特殊的评价函数 T0|H9>M 6.5 膜层锁定和关联 uEd,rEB> 6.6 优化技术 "E PD2,%S 6.6.1 单纯形 "DckwtG:% 6.6.1.1单纯形参数 d'zT:g 6.6.2 Optimac m6n hC 6.6.2.1 Optimac参数 k/`i6%F#m 6.6.3 模拟退火算法 960qvz! 6.6.3.1退火参数 #)74X%4( 6.6.4 共轭梯度 Yo2Trh 6.6.4.1共轭梯度参数 Y6eEGo"K.+ 6.6.5 拟牛顿法 rz6jx 6.6.5.1 拟牛顿法参数: :R+],m il 6.6.6 针形合成 Nlt4) 6.7 我应该使用哪种技术? Es;;t83p 6.7.1 细化 &BgU:R, 6.7.2 合成 \Hum }0[ 6.8 参考文献 <-)9>c:k 7 导纳图和其他工具 Ak=UtDN[ 7.1 介绍 ;nk@XFJ 7.2 导纳变换 ,L%p 7.2.1 四分之一波长规则 79tJV 7.2.2 导纳轨迹图 E~He~wHWe 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 M {x ie 7.4 全介质抗反射膜的应用 6FjVmje 7.5 对称周期结构 raQYn?[ 7.6 参考文献 >eo8 8.典型的镀膜实例 L?f qcW{ 8.1 单层抗反射膜 l<RfRqjw 8.2 1/4-1/4抗反射膜 qJMp1DC 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 h.b+r~u 8.4 W-膜层 tc/ jY]'32 8.5 V-膜层 E& ]_U$ 8.6 高折射基底V-膜层 4TJ!jDkox 8.7 高折射率基底b V-膜层 `Kp}s< 8.8 1/4-1/4高折射率基底 =g2\CIlVU6 8.9 四层抗反射膜 CjZ6NAHc 8.10 Reichert抗反射膜 rqC1 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 $K=z 8.12 宽波段6层抗反射膜 nO
[QcOf 8.13 宽波段8层抗反射膜 N7B}O*; 8.14 宽波段25层抗反射膜 m/N(%oMWB= 8.15 四层2-1 增透膜 ^K>pT}u 8.16 1/4波长堆栈 \[E-: 8.17 陷波滤光器 o}R|tOe 8.18 Rugate 2$Y3[$ 8.19 消偏振分光片1 H2]BMkum 8.20 消偏振分光片2 :+A;TV 8.21 消偏振立体分光片 j)@oRWL< 8.22 消偏振截止滤光片 EEg O 8.23 偏振立体分光片1 QQ|9>QP 8.24 偏振立体分光片2 I)uASfT$ 8.25 缓冲层 KqY>4tb 8.26 红外截止滤光片 Px#4pmz 8.27 21层长波通过光片 k`Y,KuBpM 8.28 49层长波通滤光片 G[B*TM6$ 8.29 55层长波通滤光片 iy9VruT< | |