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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 #`)(e JF  
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培训大纲 "hsb8-  
2.l:O2<  
01 OpticStudio 软件功能介绍; sVOyT*GY  
02 材料库、镜头库介绍； G|!on<l&  
03 如何定义新材料； )v.=jup[  
04 如何使用镜头库；		 c9&xe"v  
23 柯勒照明综合设计实例； 0@%v1Oja  
24 投影系统设计 [D\k^h  
25 集光系统设计； >s<^M|S07  
/w}u3|L$  
26 暗盒系统介绍；
Jcrw#l8|C  
05 像差理论介绍； Y2~nBb  
06 Zemax 里像差分析图谱； OG>}M$ Ora  
07 优化; H" 3fT0  
08 局部优化		 8ap%?  
27 分析工具应用； y.< m#Zzt  
28 寻找最佳非球面 %5"9</a&G  
29 曲率套样板； DK: o]~n  
heV=)8  
30 镜头匹配工具；
D=-SO +  
09 全局优化； `T5W}p[6  
10 锤形优化； RwpdRBb  
11 优化函数架构技巧； <^5Z:n!q  
12 单透镜优化实例		 @~"h62=] -  
31 Zemax 公差分析功能介绍; 1cpiHZa  
32 加工误差、装配误差； qKr8)}h  
33 灵敏度分析; CTq&-l:f  
34 反灵敏度分析;
f Sa"%8%  
13 双胶合优化实例； i#vYyVr[  
14 热分析及衍射光学元件的使用;  Ac2n  
15 实例设计及分析； 2y;Skp  
16 MTF		 ix)M`F%P3  
35 蒙特卡罗分析; s@K4u^$A  
-"' j7t:  
36 公差评价标准； w"-Lc4t+  
37 公差操作数； 'h|DO/X~L  
38 补偿变量的使用；
gd`!tRcNY  
17 双高斯镜头设计及优化； ux vqMgR  
18 像质评价与图像模拟； W{6|tx)  
19 坐标变换； "K6&dk jY  
20 坐标断点面的使用技巧		 4;yKOQD|  
39 单透镜公差分析； MOQ*]fV:  
dxMOn  
40 库克镜头公差分析； R;uvkg[o  
41 分析报告查看说明； R;&AijS8  
42 公差脚本的使用；
'vbsvT  
21 序列模式棱镜建模； W$hx,VEy`  
ib#KpEk  
22 扫描反射镜设计实例；		 R3gdLa.  
43 镜头出图、CAD 出图； r*2+xDoEi  
44 小结及答疑
xr4 *{v  
`T@i.'X  
培训信息 /Kql>$I  
  • {Aw#?#GPW  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • |"ls\ 7  
    培训主题：Zemax 成像设计
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    培训形式：线上培训
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    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 !/'t5~x[  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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