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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 [l;9](\8O  
6I,^4U  
培训大纲 !JZ)6mtlr  
(of=hzT^?  
01 OpticStudio 软件功能介绍; P+tnXT>nE  
02 材料库、镜头库介绍； >hg?!jMjrr  
03 如何定义新材料； "P4#Q_  
04 如何使用镜头库；		 \F_~?$  
23 柯勒照明综合设计实例； 07L >@Gf  
24 投影系统设计 R $vo  
25 集光系统设计； TL%2?'G  
AF-4b*oB  
26 暗盒系统介绍；
{*EA5;  
05 像差理论介绍； pDW4DF:`(  
06 Zemax 里像差分析图谱； ,MH9e!  
07 优化; 6pyLb3[e  
08 局部优化		 njO5 YYOu  
27 分析工具应用； kB41{Y -  
28 寻找最佳非球面 sn.Xvk%75  
29 曲率套样板； u 3&9R)J1  
_0Mt*]L }  
30 镜头匹配工具；
Mp8BilH-T  
09 全局优化； K x7'm1  
10 锤形优化； tvh)N{j  
11 优化函数架构技巧； i+`N0!8lY  
12 单透镜优化实例		 }E?{M~"<  
31 Zemax 公差分析功能介绍; Tnw0S8M  
32 加工误差、装配误差； $:v!*0/  
33 灵敏度分析; eVDO]5?  
34 反灵敏度分析;
|2oCEb1  
13 双胶合优化实例； z: x|;Ps!  
14 热分析及衍射光学元件的使用; [QC|Kd^#  
15 实例设计及分析； q-3,p.  
16 MTF		 ^Q)&lxlxpx  
35 蒙特卡罗分析; hrLPy V:  
:BIgrz"Jz  
36 公差评价标准； '"# W!p  
37 公差操作数； dd$}FlT  
38 补偿变量的使用；
$Tc"7nYu  
17 双高斯镜头设计及优化； s>i`=[qFc  
18 像质评价与图像模拟； Uc j eB  
19 坐标变换； I-=H;6w7  
20 坐标断点面的使用技巧		 *^]lFuX\&E  
39 单透镜公差分析； JYE[ 1M  
'?WKKYD7N  
40 库克镜头公差分析； `%PU_;Y5Q  
41 分析报告查看说明； C(t >ZR  
42 公差脚本的使用；
Het5{Yb.  
21 序列模式棱镜建模； 7hg)R @OC  
.{pc5eUf  
22 扫描反射镜设计实例；		 K6C@YY(  
43 镜头出图、CAD 出图； 3&'u7e  
44 小结及答疑
5*Wo/%#q  
H<hFA(M  
培训信息 WH@CH4WM  
  • T B!z:n  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • 6*!R'  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • Q db~I#}m'  
    培训形式：线上培训
  • 3,x|w  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • R~=_,JUW  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
8IX:XDEQ  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • xEX"pd  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
>= G{.H  
【备注】 -d|Q|zF^x  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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