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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学!Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ~Z ~v  
QR">.k4QJ  
培训大纲 `imWc "'Ej  
)s9',4$eK<  
01 OpticStudio 软件功能介绍; dx,=Rd5'  
02 材料库、镜头库介绍; 1ZJQs6  
03 如何定义新材料; \#'TNmS  
04 如何使用镜头库;
"7d-z<^n  
23 柯勒照明综合设计实例; d/74{.  
24 投影系统设计  ySbqnw'  
25 集光系统设计; jxgj,h"}9`  
$3X-r jQtW  
26 暗盒系统介绍;
L5IbExjV  
05 像差理论介绍; U Q@7n1  
06 Zemax 里像差分析图谱; qpJ{2Q  
07 优化; pbHsR^  
08 局部优化
xw<OLWW  
27 分析工具应用; fWGOP~0  
28 寻找最佳非球面 k#}g,0@  
29 曲率套样板; ]=73-ywn]  
IgL_5A  
30 镜头匹配工具;
WqrgRpM{  
09 全局优化; k;dXOn  
10 锤形优化; v=I|O%  
11 优化函数架构技巧; ftk%EYT;  
12 单透镜优化实例
_U| 7'^|  
31 Zemax 公差分析功能介绍; XH7xT@  
32 加工误差、装配误差; "k$JP  
33 灵敏度分析; K3GSOD>  
34 反灵敏度分析;
D~K;~nI  
13 双胶合优化实例; rAQF9O[  
14 热分析及衍射光学元件的使用; $mA5@O~C5\  
15 实例设计及分析; )<4_:  
16 MTF
\ u+xa{b|  
35 蒙特卡罗分析; Zt3}Z4d  
o**yZ2  
36 公差评价标准; FZpKFsPx  
37 公差操作数; io4A>>W==/  
38 补偿变量的使用;
2_QN&o ~h  
17 双高斯镜头设计及优化; m:Go-tk  
18 像质评价与图像模拟; '_+9y5  
19 坐标变换; *HM?YhR  
20 坐标断点面的使用技巧
|`yZIY_  
39 单透镜公差分析; O,V9R rG  
T&"i _no*  
40 库克镜头公差分析;  ZC^C  
41 分析报告查看说明; \[wCp*;1}  
42 公差脚本的使用;
?Ce#BwQ>  
21 序列模式棱镜建模; Md; /nJO~{  
y@ek=fT%4  
22 扫描反射镜设计实例;
farDaS[\VY  
43 镜头出图、CAD 出图; _.18z+  
44 小结及答疑
@fn6<3  
U Lmg$T&  
培训信息 \X}8 q  
  • !#D=w$@r:  
    主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • DhKr;e  
    培训主题:Zemax 成像设计
  • #'o7x'n^  
    培训形式:线上培训
  • V`a+Hi<P\  
    培训时间:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
  • KAA3iA@>+  
    培训费用:¥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式:扫码报名
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电话:027-87878386
W5DbFSgB  
【备注】 =LH}YUmd  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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