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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 1)k))w9  
m.lNKIknQ  
培训大纲 ;M}bQ88  
3fBq~Q  
01 OpticStudio 软件功能介绍; smk0*m4  
02 材料库、镜头库介绍； _Hkc<j/e~  
03 如何定义新材料； v^KJU +  
04 如何使用镜头库；		 `.><$F  
23 柯勒照明综合设计实例； Av/|={i  
24 投影系统设计 xXLKL6F(\  
25 集光系统设计； ncihc$V<  
~PS%^zxyn  
26 暗盒系统介绍；
]Y, 7 X  
05 像差理论介绍； w}7`Vas9  
06 Zemax 里像差分析图谱； r Cmqq/hZ  
07 优化; ;/ p)vR  
08 局部优化		 *mBn''a"*  
27 分析工具应用； y<B "  
28 寻找最佳非球面 `t#C0  
29 曲率套样板； GfVMj7{  
/GCSC8T  
30 镜头匹配工具；
[?;oiEe.|  
09 全局优化； I /RvU,  
10 锤形优化； KA.@q AEB  
11 优化函数架构技巧； 0z\=uQ0  
12 单透镜优化实例		 b/E1v,/<  
31 Zemax 公差分析功能介绍; UlQ}   
32 加工误差、装配误差； tjYe82  
33 灵敏度分析; ox)/*c<  
34 反灵敏度分析;
WqwD"WX+w  
13 双胶合优化实例； ,P5HR+h  
14 热分析及衍射光学元件的使用; I7]45pF  
15 实例设计及分析； !07$aQYcd  
16 MTF		 V8&%fxn+  
35 蒙特卡罗分析; P`RM"'Om  
W5sVQ`S-  
36 公差评价标准； o$2fML  
37 公差操作数； l *pCG`@J#  
38 补偿变量的使用；
c-`&e-~XKL  
17 双高斯镜头设计及优化； 3",6 E(  
18 像质评价与图像模拟； vE{QN<6T  
19 坐标变换； T*LbZ"A  
20 坐标断点面的使用技巧		 %M~Ugv_4v  
39 单透镜公差分析； D*_ F@}=  
5tQffo8t  
40 库克镜头公差分析； -cJ(iz9!  
41 分析报告查看说明； vzy/Rq  
42 公差脚本的使用；
=OhhMAn  
21 序列模式棱镜建模； `s@1'IG;R_  
7?p%~j  
22 扫描反射镜设计实例；		 ZH.l^'(W  
43 镜头出图、CAD 出图； sp'q=^t  
44 小结及答疑
FVL0K(V(  
MI<hShc\  
培训信息 2<YHo{0BLS  
  • FL0[V,  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • -.:1nI  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • >>K) 4HYID  
    培训形式：线上培训
  • ?T?%x(]I  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • _MnMT9  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
  • : 8(~{<R  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
IjD: hR@  
【备注】 w QwY_ _  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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