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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 } =xI3;7  
;7wwY$PBH  
培训大纲 .<0=a|IAz  
CL EpB2_  
01 OpticStudio 软件功能介绍; f<) Ro$   
02 材料库、镜头库介绍； _+}-H'7=  
03 如何定义新材料； $hyqYp"/;  
04 如何使用镜头库；		 xcAF  
23 柯勒照明综合设计实例； d.L OyO  
24 投影系统设计 +p8qsT#7  
25 集光系统设计； J2)-cY5G  
YG-Z.{d5Z  
26 暗盒系统介绍；
H-;&xzAI  
05 像差理论介绍； AB/,S  
06 Zemax 里像差分析图谱； DN4fP-m-  
07 优化; =W;t@"6>2  
08 局部优化		 k, $I59  
27 分析工具应用； v; je<DT  
28 寻找最佳非球面 L`<T'3G  
29 曲率套样板； Mp]yKl  
8=lHUn9l  
30 镜头匹配工具；
HVtr,jg  
09 全局优化； deR$  
10 锤形优化； P@^z:RS*{  
11 优化函数架构技巧； \[@Q}k[  
12 单透镜优化实例		 CsJ)Z%4_  
31 Zemax 公差分析功能介绍; \f8P`oET~  
32 加工误差、装配误差； vgUhN_rK  
33 灵敏度分析; J- @o@!o  
34 反灵敏度分析;
ckH$E%j   
13 双胶合优化实例； +Q@/F~1@6@  
14 热分析及衍射光学元件的使用; Z/XM `Cy  
15 实例设计及分析； T#MA#H2  
16 MTF		 [0mFy) 6  
35 蒙特卡罗分析; ?Zc/upd:$N  
j|^-1X  
36 公差评价标准； 2N8rM}?90  
37 公差操作数； 5`1(}  
38 补偿变量的使用；
x.0k%H  
17 双高斯镜头设计及优化； %igFHh?  
18 像质评价与图像模拟； zhVa.r A  
19 坐标变换； FYx `o\  
20 坐标断点面的使用技巧		 Pg!;o= { M  
39 单透镜公差分析； PfwI@%2  
LUe>)eqw  
40 库克镜头公差分析； 1YF+(fk  
41 分析报告查看说明； el2*\(XT  
42 公差脚本的使用；
_IQU<Za  
21 序列模式棱镜建模； 4yJ*85e]  
Sleu#]-  
22 扫描反射镜设计实例；		 Dz"u8 f  
43 镜头出图、CAD 出图； reqfgNg  
44 小结及答疑
@2GhN&=  
d- Z+fz  
培训信息 t%]^5<+X58  
  • AF9[2AH=Y  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • =!pu+&I 9  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • 7/p J6>  
    培训形式：线上培训
  • 0Y38 T)k  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • =sUl`L+w,L  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 uv~qK:Nw(  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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