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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 b{X,0a{*  
~%.<rc0  
培训大纲 *SP@`)\D  
xb6y=L  
01 OpticStudio 软件功能介绍; cviPCjM  
02 材料库、镜头库介绍； ]!% p21e  
03 如何定义新材料； #H8% BZyV  
04 如何使用镜头库；		 :U>[*zE4&  
23 柯勒照明综合设计实例； l:Hm|9UZ  
24 投影系统设计 Xu[(hT6  
25 集光系统设计； MTyBG rs(  
o'#ow(X  
26 暗盒系统介绍；
#Cy9E"lP  
05 像差理论介绍； uC2-T5n'  
06 Zemax 里像差分析图谱； +c&oF,=}!P  
07 优化; a%FM)/oI|T  
08 局部优化		 !t.*xT4W  
27 分析工具应用； APR"%(xD#  
28 寻找最佳非球面 L+GVB[@3Y  
29 曲率套样板； L'A>IBrz  
%]U'   
30 镜头匹配工具；
 -9f+O^x  
09 全局优化； D=>[~u3H  
10 锤形优化； &-e@Et`Pg  
11 优化函数架构技巧； ,\]`X7r  
12 单透镜优化实例		 B)!ty"  
31 Zemax 公差分析功能介绍; Tl/!Dn  
32 加工误差、装配误差； [p:mja.6y  
33 灵敏度分析; /O*4/  
34 反灵敏度分析;
C]- !u Ly  
13 双胶合优化实例； 45 \W%8  
14 热分析及衍射光学元件的使用; GE S_|[Q  
15 实例设计及分析； _Qh :*j!  
16 MTF		 D~^P}_e.  
35 蒙特卡罗分析; k1h>8z.Tg  
@Q%9b)\\  
36 公差评价标准； O~udlVn<6  
37 公差操作数； t5M"M{V  
38 补偿变量的使用；
9P 7^*f:E  
17 双高斯镜头设计及优化； ?D?l dg  
18 像质评价与图像模拟； Fk4T>8q2;  
19 坐标变换； G*y! Q  
20 坐标断点面的使用技巧		 kWZ@v+Mk3  
39 单透镜公差分析； kM JA#{<  
:4\=xGiY  
40 库克镜头公差分析； mD"[z}r)  
41 分析报告查看说明； X?B\+dq  
42 公差脚本的使用；
q RbU@o.3  
21 序列模式棱镜建模； ,qz:(Nr  
.{8?eze[m  
22 扫描反射镜设计实例；		 f_m~_`m  
43 镜头出图、CAD 出图； Z !81\5  
44 小结及答疑
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FpYeuH%  
培训信息 x)0''}E~  
  • #-<n@qNg[  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • 7.W$6U5  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • />0 Bm`A  
    培训形式：线上培训
  • ;i>(r;ZM  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 j0.E!8Ae{  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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