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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ~rn82an@G  
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培训大纲 `' 6]Z*  
CXA)Zl5#  
01 OpticStudio 软件功能介绍; {u9VHAXCf  
02 材料库、镜头库介绍； ; [dcbyu@  
03 如何定义新材料； G]q6Ika  
04 如何使用镜头库；		 E;-R<X5n  
23 柯勒照明综合设计实例； W0gaOew(^  
24 投影系统设计 q/%f2U%4:  
25 集光系统设计； 'lIT7MK  
]^aece t  
26 暗盒系统介绍；
;t*45  
05 像差理论介绍； `n5|4yaG~  
06 Zemax 里像差分析图谱； JNX7]j\  
07 优化; <=jE,6_|  
08 局部优化		 Z;??j+`Eo  
27 分析工具应用； i~l0XjQbs  
28 寻找最佳非球面 skZxR5v3~L  
29 曲率套样板； Kw-E%7gh4c  
^pZ(^  
30 镜头匹配工具；
\7("bB=  
09 全局优化； ,v)@&1Wh:  
10 锤形优化； Ij{{Z;o3  
11 优化函数架构技巧； ]S%qfna e1  
12 单透镜优化实例		 :ykQ[d`:|  
31 Zemax 公差分析功能介绍; 2ht<"  
32 加工误差、装配误差； 5=Gq d4&*  
33 灵敏度分析; Q[8L='E  
34 反灵敏度分析;
r7w&p.?  
13 双胶合优化实例； JH<q7Y6!y  
14 热分析及衍射光学元件的使用; PTL52+}/  
15 实例设计及分析； WR~uy|mX  
16 MTF		 3haY{CEr  
35 蒙特卡罗分析; HOu<,9?>Q  
r=qb[4HiV  
36 公差评价标准； f]o DZO%^  
37 公差操作数； e2/&X;2  
38 补偿变量的使用；
QLIm+)T  
17 双高斯镜头设计及优化； -+ $u  
18 像质评价与图像模拟； wIi(p5*  
19 坐标变换； ~v+& ?dg  
20 坐标断点面的使用技巧		 ("H:T?4Qs  
39 单透镜公差分析； Kw925@W  
DB%=/ \U  
40 库克镜头公差分析； u%h]k ,(E  
41 分析报告查看说明； =X-$k k  
42 公差脚本的使用；
`\O[9.B  
21 序列模式棱镜建模； L>pP3[~DV  
D2?~03c  
22 扫描反射镜设计实例；		 }54\NSj0  
43 镜头出图、CAD 出图； O6boTB_2  
44 小结及答疑
ScM2_k`D  
}$g5:k!  
培训信息 W&Fa8  
  • zif()i   
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • gEPCXf  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • 8!:4m"Y  
    培训形式：线上培训
  • )+\e+Ad}H  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • a)`h*P5@  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
  • NIV&)`w  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 c;wt9J.f  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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