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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 4\j1+&W   
7/K'nA  
培训大纲 [}4\CWM  
zoBp02j  
01 OpticStudio 软件功能介绍; AdbTI#eY  
02 材料库、镜头库介绍； !j3Xzn9  
03 如何定义新材料； _qH]OSo  
04 如何使用镜头库；		 "![KQ  
23 柯勒照明综合设计实例； <SdOb#2  
24 投影系统设计 >y$*|V}k  
25 集光系统设计； 65tsJ"a<  
IDdu2HNu  
26 暗盒系统介绍；
%VE FruM  
05 像差理论介绍； QBA{*@ A-  
06 Zemax 里像差分析图谱； Z7 ++c<|p  
07 优化; X@/X65=[  
08 局部优化		 6U,:J'5gP  
27 分析工具应用； Ga` 8oY+~  
28 寻找最佳非球面 4C3i  
29 曲率套样板； D'Uc?2X,&  
[q^pMH#U"  
30 镜头匹配工具；
xXJzE|)1h!  
09 全局优化； 2#8PM-3"  
10 锤形优化； YVk +zt~S  
11 优化函数架构技巧； n.,ZgLx["  
12 单透镜优化实例		 )&-n-m@E  
31 Zemax 公差分析功能介绍; Psm9hP :m  
32 加工误差、装配误差； 7 ,Q7`}gBf  
33 灵敏度分析; r l;Y7l  
34 反灵敏度分析;
 [geT u  
13 双胶合优化实例； a;(,$q3M  
14 热分析及衍射光学元件的使用; "o@R}_4]q  
15 实例设计及分析； @?</8;%3W  
16 MTF		 {@s6ly].  
35 蒙特卡罗分析; kn WI7  
:ra[e(l9  
36 公差评价标准； S-brV\v7  
37 公差操作数； 8:]5H}H i  
38 补偿变量的使用；
UaHN*@  
17 双高斯镜头设计及优化； Q?'Ax"$D  
18 像质评价与图像模拟； 5yp  
19 坐标变换； =4Jg6JKYg  
20 坐标断点面的使用技巧		 wHQYBYKcd  
39 单透镜公差分析； ul"Z% 1]  
/#}%c'  
40 库克镜头公差分析； "eI">`!g  
41 分析报告查看说明； PG'I7)Bv  
42 公差脚本的使用；
(e3?--~b6  
21 序列模式棱镜建模； 5=!aq\ 5  
w h^I|D?"  
22 扫描反射镜设计实例；		 U* T :p>&  
43 镜头出图、CAD 出图； vY,]f^F"  
44 小结及答疑
]`}EOS-Q  
5zt5]zl'  
培训信息 x6|QTO  
  • O)r>AdLGn  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • |mz0 ]  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • 'b_SQ2+A  
    培训形式：线上培训
  • <"S/M]9  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 ^ X<ytOd5  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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