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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 %J!NL0x_  
#1gO?N(<=  
培训大纲 ~j"3}wXc5  
(hN?:q?'  
01 OpticStudio 软件功能介绍; c0ZaFJ  
02 材料库、镜头库介绍； dlR_ckp  
03 如何定义新材料； `XgFga)  
04 如何使用镜头库；		 wDKELQ(y H  
23 柯勒照明综合设计实例； 1'fb @vO  
24 投影系统设计 \c% g M1  
25 集光系统设计； ? |VysJ  
P,ydt  
26 暗盒系统介绍；
V%51k{  
05 像差理论介绍； Y{+3}drJE  
06 Zemax 里像差分析图谱； vxVOcO9<  
07 优化; RG1\=J$:E  
08 局部优化		 \=fh-c(J,  
27 分析工具应用； F>-}*o  
28 寻找最佳非球面 ``4?a7!!  
29 曲率套样板； !i Jipe5  
^{[[Z.&R?  
30 镜头匹配工具；
dB7ZT0L\  
09 全局优化； Ww`&i  
10 锤形优化； hZU 1O  
11 优化函数架构技巧； M1{(OY(G  
12 单透镜优化实例		 y/tSGkMv  
31 Zemax 公差分析功能介绍; 12OlrU  
32 加工误差、装配误差； oKa>.e7.  
33 灵敏度分析; U\bC0q   
34 反灵敏度分析;
YlKFw|=  
13 双胶合优化实例； D/:3R ZF  
14 热分析及衍射光学元件的使用; x<F$aXOS  
15 实例设计及分析； H1&RI4XC  
16 MTF		 !y[3]8Xxv  
35 蒙特卡罗分析; gDC2 >nV  
&S-er{]]  
36 公差评价标准； vyU!+mlc  
37 公差操作数； 0Oap39  
38 补偿变量的使用；
1Es qQz*$u  
17 双高斯镜头设计及优化； 7 :U8 f:  
18 像质评价与图像模拟； vD26;S.y[a  
19 坐标变换； Z@M6!;y#  
20 坐标断点面的使用技巧		 N RSU+D-z  
39 单透镜公差分析； bV6V02RF  
0*yJ %  
40 库克镜头公差分析； eaAPKx  
41 分析报告查看说明； GFL-.? 0  
42 公差脚本的使用；
Pm?B 9S  
21 序列模式棱镜建模； ;?~ 9hN!  
k|B2@{  
22 扫描反射镜设计实例；		 u"FjwF?  
43 镜头出图、CAD 出图； 9rcI+q=E  
44 小结及答疑
V^rW?Do  
39D }  
培训信息 1;&T^Gdj  
  • PGX+p+wB  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • vgThK9{m;  
    培训主题：Zemax 成像设计
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    培训形式：线上培训
  • z<<Tk.65  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • QO,+ps<  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
4f {+pf^R  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • m UgRm]  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 N`1r;%5  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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