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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 (txr%Z0E  
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培训大纲 OI0tgkG  
VlLc[eVV  
01 OpticStudio 软件功能介绍; 0nX.%2p#Je  
02 材料库、镜头库介绍； F| ib=_)3  
03 如何定义新材料； ]t'bd <O  
04 如何使用镜头库；		 zSU06Y  
23 柯勒照明综合设计实例； n-%8RV  
24 投影系统设计 \q |n0>  
25 集光系统设计； 9S _N*wC.  
HJV8P2f8`  
26 暗盒系统介绍；
pbM"tr_A{  
05 像差理论介绍； vU|.Gw  
06 Zemax 里像差分析图谱； W@:a3RJ  
07 优化; @Z50S 8  
08 局部优化		 RR 8Z 9D;  
27 分析工具应用； pPezy:  
28 寻找最佳非球面 Sn _zhQxG  
29 曲率套样板； 1|PmZPKq9n  
OP-%t\sj>  
30 镜头匹配工具；
JN{xh0*  
09 全局优化； 8G SO]R  
10 锤形优化； e>oE{_e  
11 优化函数架构技巧； 8/4Gr8 o  
12 单透镜优化实例		 FyZiiH4|  
31 Zemax 公差分析功能介绍; q|8p4X}/]  
32 加工误差、装配误差； o`@B*, @  
33 灵敏度分析; ^edg@fp  
34 反灵敏度分析;
CCX!>k]  
13 双胶合优化实例； !iOuIYjV  
14 热分析及衍射光学元件的使用; fC$~3v  
15 实例设计及分析； jJ' LM>e  
16 MTF		 F! |?S:X  
35 蒙特卡罗分析; BBg&ZIYEh  
Q9~UL^bF  
36 公差评价标准； \sy;ca)[6g  
37 公差操作数； GW(-'V/  
38 补偿变量的使用；
oc2aE:>X  
17 双高斯镜头设计及优化； aoZ`C3  
18 像质评价与图像模拟；  xYMNyj~  
19 坐标变换； mndUQN_Gb  
20 坐标断点面的使用技巧		 zn4Yo  
39 单透镜公差分析； @QAyXwp  
Efb S*f5  
40 库克镜头公差分析； }/Wd9x  
41 分析报告查看说明； IXSCYqoK  
42 公差脚本的使用；
}}GBCXAf_  
21 序列模式棱镜建模； Xcq 9*!%o  
]c8$%  
22 扫描反射镜设计实例；		 jH*+\:UP-  
43 镜头出图、CAD 出图； u&=SZX&G k  
44 小结及答疑
6]|NB&  
==psPyLF@  
培训信息 ZOFBT(oV  
  • |U_48  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • 1%L* 9>e  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • ;z9(  
    培训形式：线上培训
  • y>S.B/ d  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • t[6g9e$  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
  • B;8YX>r  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 ? OBe!NDf  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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