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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 EVaHb;  
/~;!Ew|q  
培训大纲 q`L )^In"  
1(>2tEjYT  
01 OpticStudio 软件功能介绍; +Q);t,  
02 材料库、镜头库介绍； kF,ME5%  
03 如何定义新材料； H7Z`aQC  
04 如何使用镜头库；		 ibwV #6  
23 柯勒照明综合设计实例； {=Jo!t;f  
24 投影系统设计 ?Y8hy|`  
25 集光系统设计； C$C>RYE?.  
5|pF*8*  
26 暗盒系统介绍；
:wg=H  
05 像差理论介绍； }#4Ek8nFR  
06 Zemax 里像差分析图谱； &hL2xx=  
07 优化; Piwox1T ;  
08 局部优化		 =0PGE#d{t  
27 分析工具应用； cbm;45 L|  
28 寻找最佳非球面 ao.vB']T  
29 曲率套样板； P3 =#<Q.  
'yA/sZ  
30 镜头匹配工具；
OUGkam0UK  
09 全局优化； \.H9e/vU`  
10 锤形优化； `\;Z&jlpT  
11 优化函数架构技巧； @^ -Y&N!b=  
12 单透镜优化实例		 >D~8iuy]8.  
31 Zemax 公差分析功能介绍; F$'u`  
32 加工误差、装配误差； HB}rpiB  
33 灵敏度分析; Lq;iR  
34 反灵敏度分析;
F |5Au>t  
13 双胶合优化实例； Nz`v+sp  
14 热分析及衍射光学元件的使用; U{pg y#/  
15 实例设计及分析； TKsP#Dt/  
16 MTF		 qS!N\p~>  
35 蒙特卡罗分析; PO6yE r  
)b2O!p  
36 公差评价标准； m$v >r\*X  
37 公差操作数； 4`:POu&  
38 补偿变量的使用；
}Kp<w,  
17 双高斯镜头设计及优化； H6j t[  
18 像质评价与图像模拟； R@tEC)Zn  
19 坐标变换； Z~-N'Lt{  
20 坐标断点面的使用技巧		 Ng W"wh  
39 单透镜公差分析； (6a<{  
iZeq l1O  
40 库克镜头公差分析； u "k< N|.3  
41 分析报告查看说明； HKT, 5  
42 公差脚本的使用；
+YW;63"o  
21 序列模式棱镜建模； J!5b~8`v  
_<sN54  
22 扫描反射镜设计实例；		 o}/|"(K  
43 镜头出图、CAD 出图； DQXcf*R  
44 小结及答疑
h| wdx(4  
Kn@#5MC rU  
培训信息 >8OY6wb  
  • UdnRsp9S  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • Vym0|cW  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • Jkbeh.  
    培训形式：线上培训
  • ku]?"{Xx  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • `\\s%}vZ*T  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
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三人及以上组团报名可享八折优惠
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    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
QdQ1+*/+U  
【备注】 @Bhcb.kbq  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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