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ueotek 2022-02-18 10:49

光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 3G%XG{dg  
6'No4[F 4n  
培训大纲 Vtz yB  
=7J|KoKK  
01 OpticStudio 软件功能介绍; Vav+$l|j@  
02 材料库、镜头库介绍； +>i<sk  
03 如何定义新材料； 7fN&Q~.  
04 如何使用镜头库；		 >DL-Q\U  
23 柯勒照明综合设计实例； jOm&yX  
24 投影系统设计 ;)= zvr17  
25 集光系统设计； ok\/5oz  
aoakTi!}  
26 暗盒系统介绍；
sS1J.R  
05 像差理论介绍； FB =  
06 Zemax 里像差分析图谱； -}N\REXE  
07 优化; nuQLq^e  
08 局部优化		 Zjp5\+hHV  
27 分析工具应用； ku[=QsMv  
28 寻找最佳非球面 @]ptY*   
29 曲率套样板； d4/`:?w  
gGiV1jN _  
30 镜头匹配工具；
zfr(dQ  
09 全局优化； _OknP2E  
10 锤形优化； j$mt*z L  
11 优化函数架构技巧； !s[j1=y  
12 单透镜优化实例		 *09\\ G  
31 Zemax 公差分析功能介绍; V=l Q}sBY  
32 加工误差、装配误差； ev;5 ?9\E  
33 灵敏度分析; ;@ll  
34 反灵敏度分析;
N5w]2xz!  
13 双胶合优化实例； uZ2v;]\Y6  
14 热分析及衍射光学元件的使用; &;@b&p+  
15 实例设计及分析； R0YC:rAt  
16 MTF		 \")YKN=W  
35 蒙特卡罗分析; e/HX,sf_g  
/P8eI3R  
36 公差评价标准； C1P t3  
37 公差操作数； s!o<Pd yJK  
38 补偿变量的使用；
R SWB!-  
17 双高斯镜头设计及优化； ?D )qgH  
18 像质评价与图像模拟； Alk* "p  
19 坐标变换； I|3v&E 1  
20 坐标断点面的使用技巧		  ]O9f"cj  
39 单透镜公差分析； b1>$sPJ+  
x4m_(CtK  
40 库克镜头公差分析； Aya;ycsgE  
41 分析报告查看说明； %wjU^Urya  
42 公差脚本的使用；
/wxxcq  
21 序列模式棱镜建模； c"sw@<HG  
Ff#N|L'9_  
22 扫描反射镜设计实例；		  RoM*Qjw  
43 镜头出图、CAD 出图； jf)JPa_  
44 小结及答疑
EPd.atA  
7jg(j~tQ  
培训信息 p2NB~t7Z  
  • @%@^5  
    主办单位：武汉宇熠科技有限公司
  • >'1Q"$;  
    培训主题：Zemax 成像设计
  • M"$RtS|h  
    培训形式：线上培训
  • "RJk7]p`*  
    培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
  • f+*2K^B  
    培训费用：￥ 1980元 / 人
2,e|,N"zN  
三人及以上组团报名可享八折优惠
  • 2|NyAtPb5  
    报名方式：扫码报名
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电话：027-87878386
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【备注】 B oj{+rE0  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
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