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2022-02-16 09:40 |
基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术
作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark nip*Y@- F 译:讯技科技股份有限公司 pox;NdX7 校:讯技科技股份有限公司 Fm&f
~k@{b& 书籍概况: "tmu23xQ r4 5}o Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 })mD{c/ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 F!I9)PSj 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 1z,P"?Q X?r$o>db 书籍目录 *fy aAv P()&?C 1 引言 \q!TI x 2 光学薄膜基础 3WGOftLzt 2.1 一般规则 BdvpG 2.2 正入射规则 ]5j>O^c< 2.3 斜入射规则 ;u';$0 2.4 精确计算 C^]UK 2.5 相干性 wB[
JFy"E 3 Essential Macleod的快速预览 1v|0&{lB 4 Essential Macleod的特点 1!+0]_8K 4.1 容量和局限性 6khm@}} 4.2 程序在哪? 1csbuR? 4.3 数据文件 "Rf|o6!d 4.4 设计规则 [
f<g?w 4.5 材料数据库和目录库 b9b`%9/L 4.5.1 材料数据库及导入材料 //$^~}wt 4.5.2 材料目录库 YD~(l-?" 4.5.3 导出材料数据 pNQ@aJ 4.6 常用单位 U~zy;MT 4.7 插值 5Ktll~+:# 4.8 材料数据的平滑 `J{{E,y
@ 4.9 一般文档编辑规则 "KC3+:tm 4.10 设计文档 h^{aG ]) 4.10.1 公式 #H8QX5b) 4.10.2 更多关于膜层厚度 iP^[xB~v 4.10.3 沉积密度 /Vv)00 4.10.4 性能计算 _$}@hD*R~ 4.10.5 保存设计和性能 PUd/|Rc/} 4.10.6 默认设计 tM:$H6m/( 4.11 图表 8-O:e 4.11.1 合并曲线图 d-8g 4.11.2 自适应绘制 .b2%n;_>. 4.11.3 动态参数图 PIsXX#`7; 4.11.4 3D绘图 !0X"^VB 4.12导入和导出 kZ^wc . 4.12.1 剪贴板 p+2%LYR u 4.12.2 不通过剪贴板导入 ej(w{vl 4.12.3 不通过剪贴板导出 z3 fU|*_c 4.13 背景(Context) 4]cr1K
^ 4.14 扩展公式 - 生成设计 rO,n~|YJ 4.15 生成Rugate J,`I>^G 4.16 参考文献 c-?0~A 5 在Essential Macleod中建立一个Job R~dWblv 5.1 Jobs RHt~:D3* 5.2 创建一个新的Job $yFR{_] 5.3 输入材料 /w*HxtwFmD 5.4 设计数据文件夹 bU4\Yu
5.5 默认设计 cgQ2Wo7tCq 6 细化和合成 'GZ, 6.1 最优化导论 8vvNn>Q 6.2 细化 $fW8S8 6.3 合成 ugW.nf*O 6.4 目标和评价函数 uKT\\1Jrq 6.4.1 目标输入 )Z`OkkabnD 6.4.2 目标关联 BQ!_i*14+ 6.4.3 特殊的评价函数 61z^(F$@ 6.5 膜层锁定和关联 H]0(GLvH 6.6 优化技术 x Sv@K5"8! 6.6.1 单纯形 ':T"nORC 6.6.1.1单纯形参数 M[=sQnnSFW 6.6.2 Optimac <QK2Wc_}-" 6.6.2.1 Optimac参数 q0_Pl* 6.6.3 模拟退火算法 I9cZZ`vs 6.6.3.1退火参数 UO>S2u 6.6.4 共轭梯度 GYri\ <[ 6.6.4.1共轭梯度参数 ]=5D98B 6.6.5 拟牛顿法 e]l.m!,r 6.6.5.1 拟牛顿法参数: ^0"[l { 6.6.6 针形合成 be&,V_F 6.7 我应该使用哪种技术? 1,sD'iNb 6.7.1 细化 ARid 6.7.2 合成 5'"9)#Ve 6.8 参考文献 y]%Io]!d 7 导纳图和其他工具 % wh>_Ho 7.1 介绍 [V,f@}m
F 7.2 导纳变换 n{.SNipU 7.2.1 四分之一波长规则 X>rv{@K bL 7.2.2 导纳轨迹图 ^/Frg<>'p 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 Y/n],(t) 7.4 全介质抗反射膜的应用 (wEaw|Zx 7.5 对称周期结构 Bf6\KI< | |