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2021-12-30 09:21 |
TRCX:掺杂过程分析
在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 ^9 {r2d&c [attachment=110231] #u$ Z/, VQHQvFRZ) C5&+1VrP &E$:^a4d .8/W_iC92 (a)FIB <PTi>C8;r [attachment=110232] ]]lM) +e( (!
(b) 掺杂前后对比 (*dJ
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