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2021-12-30 09:21 |
TRCX:掺杂过程分析
在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 rQ&F Gb [attachment=110231] &W?
hCr 8[d6 s -bp7X{& M(.Up P|;=dX#- (a)FIB gF&HJF 0x [attachment=110232] 6Lz:J:Q) qQe23,x@5
(b) 掺杂前后对比 ]-g4Ct_V
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