首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> TRCX:掺杂过程分析 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2021-12-30 09:21

TRCX:掺杂过程分析

在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 K-ebAaiC  
[attachment=110231] S[M$>  
x% 1Rp[  
WlUE&=|Oz2  
@kw=0  
y+a&swd2(U  
(a)FIB 3$Je,|bs  
[attachment=110232] 2 O%UT?R  
6]VTn-  
(b) 掺杂前后对比
M:x(_Lu  
查看本帖完整版本: [-- TRCX:掺杂过程分析 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计