| infotek |
2021-12-30 09:21 |
TRCX：掺杂过程分析
在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 Mb"i}Yt{
[attachment=110231] K!0vvP2H
9)];l?l
Myg
&H(~
pa`"f&JO
xOt%H\*k"
(a)FIB mi`!'If0)
[attachment=110232] T:q!>"5
=hjff/
X
(b) 掺杂前后对比 4 'RyD<K\
|
|