| infotek |
2021-12-30 09:21 |
TRCX：掺杂过程分析
在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。
]v2%h X
[attachment=110231] fEJF3<UF&
Mi^/`1
WRCf [5
$I0&I[_LzK
bU$f4J
(a)FIB w;b;rHAZ\
[attachment=110232] %+pF4f8]
z( !K8
T
(b) 掺杂前后对比 tl 6x@%\
|
|