设计和分析GRIN扩散器
1.建模任务 e_Zs4\^ef w2$ L;q 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 0r@LA|P 设计包括两个步骤: i Q3wi - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Z$0mKw - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 B'Nvl# 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 n n[idw 2AqcabI9 -8:O?]+Q/ 照明光束参数 +=`w YC{7;=Pf hAi'|;g 波长:632.8nm 11$v~<M 激光光束直径(1/e2):700um q9(O=7O]- /|Gz<nSc 理想输出场参数 J(~xU0gd' 8Z@O%\1x6 3,+UsB% Xp^>SSt:4 直径:1°
?s 0")R& 分辨率:≤0.03° RvW>kATb_F 效率:>70% u<@
55k 杂散光:<20% :Ea]baM" ,"5p=JX` 2. 设计相位函数 87VXVI *
8D(Lp1 :;x#qtv~Iz 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp I'cM\^/h 设计没有离散相位级的phase-only传输。 2wh{[Q2f an?g'8! r: 3.计算折射率调制 s&OwVQ<M #lm1"~`5 [C~{g# =HvLuVc 最大折射率调制 `!T6#6h △n=+0.05 ?9H.JR2s% 如果是GRIN层,那么厚度:12.656um /9yA.W; 折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 K>$od^f%c 为得到细节请参见教程Tut565。 My'6yQL 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 QPa&kl A&0sD}I\K 4.模拟结果 T+/Gz' /SD2e@x{U
角强度分布 (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd) )Nq$~aAm 5.结论 !$5U\"M VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 WYE[H9x1? 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 g<{W\VOPm 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 akQtre`5sd
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