fXQNHZ|4 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) FH+s s! %sQ^.` 2 应用示例简述 "AGLVp.zT Hc(OI|z~ 1. 系统细节 q;)JISf. 光源 q{;:SgZ — 高斯光束 ,:\|7 F 组件 WaR`Kp+> — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 fIv* T[ 探测器 Ck7uJI<x — 视觉感知的仿真 OX\F~+ — 电磁场分布 ^eYVWQ' 建模/设计 k7A-J\ — 场追迹: y:qUn!3 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 %;YHt=(1*X RQu(Wu|m. 2. 系统说明 m5Di=8 P1' al pr UM-u8 3. 模拟 & 设计结果 y>e.~5; 9|CN8x- 4. 总结 :${HQd+ 8X)Y^uGGZ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ,^f+^^ M{hg0/}sUW 第1步 $,Yd>%Y 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 K?$^@N cY. bO/&l 第2步 _X"N1,0 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 aM0f/"-_ ax5<#3__ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 MfQ?W`Kop )+t0:GwP`: 应用示例详细内容 :$BCRQ Ffta](Z; 系统参数 Q%mB|i|
2JcjZn 1. 该应用实例的内容 a\YV3NJ/A Y,t={HiclX tc{sB\&- 2. 设计&仿真任务 EV@X*| w *U=s\ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 k4y'b rK]Cr9W M 3. 参数:输入近乎平行的激光束 eHNyNVz :mn>0jK,N tQYM&6g 4. 参数:SLM像素阵列 6h,(wo3Y (7=!+'T" 2/=l|!JKLz 5. 参数:SLM像素阵列 =\:qo'l 0eu$ W H{?vbqQ 应用示例详细内容 YRN06*hS I5n^,@md 仿真&结果 >!bJslWA h2J/c#Qvh 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ?8Z0Gqt74 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 n!xt5=xP{ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 nWYN Np?h "PTZ%7YH} 2. VirtualLab的SLM模块 T@&K-UQ fd<:_f]v k=JrLfD4 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Xe:jAkDp 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ?3zc=J"t v8[I8{41 3. SLM的光学功能 K<qk.~
S OJ5#4qJ[ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 > $7v
;Q 为此,将区域填充因子设置为60%。 ,UGRrS 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 pRIhFf \T :i{.i 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ,J^b0@S b
Y\K 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 vyX\'r.~7 LzXmb 7A 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd O%!!w 3|4|*6 4. 对比:光栅的光学功能 2Mvrey) 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 vK\%%H 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 6ZG+ZHUC& 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Hmd]
FC,_ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 vV6I0 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 vAh6+K.e p&bROuw<T
-vR5BMy= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd C|).;V& rrqR}}l 5. 有间隔SLM的光学功能 PHXZ=A+ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 9~mh@Kgv n%C>E.Tq 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd w2Jf^pR f'-i o<. 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 F6OpN"UM' ")dH,:#S Ax?y 6. 减少计算工作量 m4&h>9. 8 MgOR2,cR hp*/#D 采样要求: D2!X?"[P 至少1个点的间隔(每边)。 Xti[[s J 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 (\a]"g,]v ?_$=l1vf 采样要求: gp^5# 同样,至少1个点的间隔。 ?NR A:t(} 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 8U>B~9:JO 随填充因子的增大,采样迅速增加。 5rRN- ^xHTW g%9 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 i2YuOV! 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 wEE\+3b) 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 o/6-3QUak 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ^G.Xc\^w: OK6]e3UO v:o({Y 1Aq 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 3'qJ/*]9 r>" 7. 指定区域填充因子的仿真 s3O} 6 .DR<Te 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 OCJnjlV% 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。
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GY h9 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 qT"Q1xU[ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 8p9bCE>\ y[\VUzD*' ]Nl=wZ#` 8. 总结 ZF|+W?0&% 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ?~;:jz|9<' x2z;6) 第1步 Y"Ql!5= 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 zG9Y!SY\- 2
:mn</z 第2步 5ish\" 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 I1\a[Xe8E 扩展阅读 %8Dzo 扩展阅读 !Mim@!5M 开始视频 {>,V\J0p - 光路图介绍 gO,25::") 该应用示例相关文件: y^Kph# F" - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Yd= a}T - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |