mdk:2ndP 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) (d ( whlF cx$Oh`-Car 应用示例简述 []Z6<rC| F[+sc Mx!G 1. 系统细节 VTF),e! 光源 A ^~\ — 高斯光束 t512]eqhb( 组件 8xNKVj)@ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 1
4|S^UM$ 探测器 )~J/,\ — 视觉感知的仿真 >1r>cZn — 电磁场分布 %=|I;kI? 建模/设计 !ine|NM — 场追迹: AXJC&O}` 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ^c2 8Q.<w( 3:C *'@ 2. 系统说明 TEYbB=. ;[|x5o/< )~Q$ tM` 3. 模拟 & 设计结果 5?Bi+fg 6L4B$'&KQZ 4. 总结 *BF1Sso u-? &~WA 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 -?GYW81Q \'p)kDf 第1步 i#C?& 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 "zqt'b0bW UgUW4x'+ 第2步 ^EB}e15" 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 X`22Hf4ct t%/5$<!b 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Sw0~6RZ yyXJ_B 应用示例详细内容 6h5*b8LxA tvg7mU]l 系统参数 `T mIrc l\S..B
+ 1. 该应用实例的内容 u2DsjaL ?1[go+56X ;A|6&~E0G 2. 设计&仿真任务 Z{e5 OJ Y H?>2u 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 L-MpdC *<9p88FpDU 3. 参数:输入近乎平行的激光束 q k !Q2W {i=qx#2X?H l jNd!RaB 4. 参数:SLM像素阵列 ,,i;6q_f pa.W-qyu jdhhvoQ 5. 参数:SLM像素阵列 NE/3aU 44n^21k zJ#q*2A(Z 应用示例详细内容 +pDuRr ]qrO"X= 仿真&结果 =LuA[g %T88K}?= 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM :FK(*BUh 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ~
Iv[ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 M T{^=F ] >SccoI 2. VirtualLab的SLM模块 &oAuh?kTq P$qIB[Xi N<?RN;M 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 PI }A')Nq. 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 /Cwt4.5 \b'
<q 3. SLM的光学功能 9=h A#t.# T8ZsuKio] 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 5<&<61[A 为此,将区域填充因子设置为60%。 l'$AmuGj 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 03#r F@e 1z*] MYU 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd TlM ]d;9G {N>VK* 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 zaX30e:R _sw,Y!x%dF 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd YsDn?p D@ (3W<yAM+ 4. 对比:光栅的光学功能 .vwOp*3\ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 8sE@?, 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 tV%M2DxS 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 W4T>@b. 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 y_\vXY' 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 cl^tX% E@t^IGDr
HHT K{X+ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Kh3*\x T *p +%&z_< 5. 有间隔SLM的光学功能 :h?Zg(l 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ,p0R4gi 1P&c:n 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd hCc I
>[H5 pbAQf3 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 HlLF<k~} [O9(sWL' q1Ah!9B 6. 减少计算工作量 IL`5RZi1 %Wn/)#T| 4RJ8 2yq- 采样要求: 8%2*RKj 至少1个点的间隔(每边)。 <?QY\wyikz 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 G+=&\+{#4 fq_ 6xs 采样要求: s+^YGB 同样,至少1个点的间隔。 y~''r%] 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 }kGJ)zh 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ^[lg1uMW 61b,+'- 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 3,W2CN} 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 eQJLyeR+ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 YtE V8w_$ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ,~%Qu~\ rB)m{) @UE0.R< 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 .}%$l.#a -Z)$].~|t 7. 指定区域填充因子的仿真 d8/lEmv[ vNHMe{,u 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 WSKG8JT^| 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 kjJ\7x6M 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 FK;\Nce& 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 |s[m;Qm[ku 4f'WF5S/}8 y2o?a6` 8. 总结 {HlUV33O 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Y?R;Y:u3Z c-n'F+fZ 第1步 `{<2{}2M 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Y)?4OB=n hQ#'_%:
第2步 .9S 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ` L6H2:pf 扩展阅读 [P`Q_L,+ 扩展阅读 LX!16a@SxA 开始视频 r"zW=9 O= - 光路图介绍 m%'9z L c 该应用示例相关文件: E_/v$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 #AFr@n - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |