3@eI? (N 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) IA1O]i
S % O%;\t 应用示例简述 +>ituJ NY?iuWa*g 1. 系统细节 nq7)0F%e 光源 vQXF$/S — 高斯光束 sdXchVC 组件 ^+~$eg&js — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 .-s!} P" 探测器 Jp)PKS
![ — 视觉感知的仿真 $+e(k~ — 电磁场分布 K'e!BZm6Q 建模/设计 #9"lL1 — 场追迹: z}5'TV=^ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 c?xeBC1- m|cRj{xZF 2. 系统说明 &e[Lb:Uk) w\t 3 5-FD{ 3. 模拟 & 设计结果 ]6=opvm <0`"vPU 4. 总结 cEJ_z(\=hr mMhe,8E& 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ?1]B(V9nBq 3kJSz-_M 第1步 3_VWtGQ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 g5Hsz,x N/^[c+J[E 第2步 ?K}KSJ6_ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 84Hm
PPt ; zy;M5l5. 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 #@5 jOi a~tBg y+9 应用示例详细内容 ~}~ yR*K% f'Xz4; 系统参数 lgAE`Os XnvaT(k7Y 1. 该应用实例的内容 hU2N{Ac [qt^gy) N)z]
F9Kg 2. 设计&仿真任务 Y50$2%kM qn\>(& 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 H
@E-=Ly 7xT<|3 I 3. 参数:输入近乎平行的激光束 P|)SXR ] @1ncn7N eP3 itrH( 4. 参数:SLM像素阵列 e''Wm.>g(+ tX}Fb0y 9=~jKl%\vJ 5. 参数:SLM像素阵列 XlNB9\"5 [
06B)|s xhMdn3~U 应用示例详细内容 t!Av[K 3?/} 仿真&结果 gzdgnF2 C{S6Ri 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM IPE( 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 CUw
9aH 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ]R]X#jm Z#W`0G>' 2. VirtualLab的SLM模块 +V\NMW4d zKWi9 &c@I4RV|q 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 %BHq2~J 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 02S(9^= 4-n.4j| 3. SLM的光学功能 )*JTxMQ ?x/L"h&Kp 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 dX3>j{_ 为此,将区域填充因子设置为60%。 (c_hX( 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 :{6[U=O '}Y8a$(;V 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd xO@OkCue (6+0U1[Iz 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 J8D-a! Bms?`7}N 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd =f p(hX" !%(B2J 4. 对比:光栅的光学功能 t2$:*PvE 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 gy[uqm_ T 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 eK@Y] !lz 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Q'Tn+}B& 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 xMh&C{q 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 OWkK]O u!S{[7 FY
pL-$Np] V 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ^YZ#P0 y &pAT 5. 有间隔SLM的光学功能 +Snjb0 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 _B[(/wY j?(QieBH 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ~!OjdE!u oAx0$]+%V) 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 RinRQd 3N21[i2/m .PxM
#;i2 6. 减少计算工作量 }1P IR&u55#I6 U|QDV16f 采样要求: BkF[nL*| 至少1个点的间隔(每边)。 _V?Q4}7d/ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 td~3N,S wtKh8^:YD 采样要求: ( 65p/$Vh 同样,至少1个点的间隔。 zkOgL9
(_8 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 +A3H#' 随填充因子的增大,采样迅速增加。 )wRD #Grm-W9E 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 GXl?Zg 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 XTJ>y@ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 '9gI=/29D 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ~83P09\T% IY&a! qr9F 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 J Nz0!wi wGH@I_cy> 7. 指定区域填充因子的仿真 YovY0nO EUkNh>U? 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 a6d KQ3D 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 (Wqhuw!u 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 86g+c 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 "q.uiz+1: nmGHJb,$ Q:\hh=^ 8. 总结 Tjqn::~D 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 `^kST>< *@nUas2" 第1步 s|T7)PgR 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Kc0OLcu^d A2d2V**Z 第2步 !*gAGt_ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 3XtGi<u 扩展阅读 z<>_*Lfj 扩展阅读 rE:>G]j6 开始视频 v"+EBfx - 光路图介绍 E6k&r} 该应用示例相关文件: )[*O^bPowI - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 3)a29uc:U - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |