d&fENnt?h 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) sU`#d @a~K#Bvlm 应用示例简述 PBUc9/ F2u{Wzr_@ 1. 系统细节 1.uyu 光源 N=wB1gJ — 高斯光束 l-mUc1.S 组件 rlds-j'' — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ^ PD a 探测器 u^`B#b' — 视觉感知的仿真 v/kYyz — 电磁场分布 R4o_zwWgPw 建模/设计 7~IAgjo,@ — 场追迹: Kp"o0fh<9 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ]-O:| q>] EZ$m4:{e 2. 系统说明 <@?bYp F`3I~( 5r.{vQ 3. 模拟 & 设计结果 kweyp IB <5nz:B/ 4. 总结 )37|rB E Y+D#Dv | 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 iR_X,&p
GI/g@RV 第1步 +VTMa9d 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 _xbVAI4 En[cg 第2步 <%|2yPb] 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 3.8d" D@!#79:) 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ^Zg"`&E zX)uC< 应用示例详细内容 HQ]g{JVld\ @k6>&PS 系统参数 rtOXK4)]I kMUjSa~\ 1. 该应用实例的内容 ?-6oh~W< HogT#BMs kMK-E<g 2. 设计&仿真任务 /S]<MS <zrGPwk 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 wVp G!wFG-Y} 3. 参数:输入近乎平行的激光束 JEj.D=@[ $yG=exh3v 0p8 (Q 4. 参数:SLM像素阵列 ?&"-y)FG hbn2(e;FZ dZ_Hj X7 5. 参数:SLM像素阵列 ?oP<sGp `N$<]i]s5 ,|}Pof=]xk 应用示例详细内容 PY~cu@'k{ iE>T5XV8$B 仿真&结果 A[^fG_l4 ~Sh8. ++} 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ]Z6==+mCP 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 <w<&,xM 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 :IvKxOv BlMc<k 2. VirtualLab的SLM模块 dy`K5lC@ r,a V11{ .r $d
8J 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 SCZtHEl9 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 qE!.C}L+ ^pIT,|myY7 3. SLM的光学功能 @LqLtr@A "'~55bG 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 @.@O# 为此,将区域填充因子设置为60%。 :OQx;>' 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 E:!?A@Fy oYI7 .w 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd *\L\Bzm 5Z@OgR 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 *`7cvt5]IM 1#/>[B 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $GB/}$fd& ~QQi{92 4. 对比:光栅的光学功能 *#\da]"{ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ;%{REa 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 5R"iF+p4 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 2M1}`H\ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 GAI(= 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 f_I6g uDPz YEqZ((H
)!+~q!A 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ?H3Ls~R ^M_0M 5. 有间隔SLM的光学功能 1CXO=Q 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 `o4alK\ mO%F {' 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd .W>LEz' %PW_v~sg 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 W:VRLT>w> Hwiw:lPq`E ,}?x!3 6. 减少计算工作量 D;nm~O%
J$"3w,O6+U ny'?Hl'Q 采样要求: j%%& G$Tfu 至少1个点的间隔(每边)。 p(vmMWR! 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 )jc`_{PQg &BxDS
. 采样要求: <MdIQ;I8 同样,至少1个点的间隔。 ]l/ PyX 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 :k&R]bc9 随填充因子的增大,采样迅速增加。 0;6eSmF GP<PU 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 }Y9= 3X 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ! W2dMD/ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 (t[sSl 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 FglW|Hwy (+aU ,EQ aq,Ab~V] 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 rHngYcjR [0>I6Jl 7. 指定区域填充因子的仿真 m!#'4 ykMdH: 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 X?f\j"v 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。
}%)]b*3 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 mZ_643| 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 \k
9EimT} {(#2G, ?2q4dx0 8. 总结 ^GL>xlZ( 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 hlKM4JT\ r{mj[N'@ 第1步
:d)y 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 xky +" N1!O8"Q|*3 第2步 Gv\39+9= 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Lqa|9|! 扩展阅读 yor6h@F1 扩展阅读
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