JRo?s~Ih 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) iY"l}.7) 0cK{ 应用示例简述 -46C!6a sVG(N.y 1. 系统细节 2{|h8oz 光源 fd-q3_f — 高斯光束 {43>m)8+ 组件 GFr|E8 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 S26MDLk`R3 探测器 s(X;Eha — 视觉感知的仿真 P ;IrBq6|o — 电磁场分布 Reatdh 建模/设计 a7N!B' y — 场追迹: q.,JVGMS 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 `{qG1 @v}/zS 2. 系统说明 8\:NMP8W\ /cU<hApK 0}_[DAd6 3. 模拟 & 设计结果 E[Cb|E c("_bOAT 4. 总结 Qxj JN^Q zOQ>d|p?X 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 K tNY_&xd 9k{PBAP 第1步 w*R$o 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 itC-4^ rtc9wu 第2步 n=[/Z! 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 }iuWAFZbGS iX)%Q 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 hdrm!aBd R?]02Q 应用示例详细内容 1dK*y'rx >y,-v:Vy 系统参数 eH{[C* 7Hs%Cc" 1. 该应用实例的内容 Cg(Y&Gxf. z*-2.}&U< b9!FC$^J 2. 设计&仿真任务 6fw(T.Pe 0\e IQp 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 <~WsD)=$ |j7,Mu+ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 AB4(+S*LA =uS9JU^E @H=:)*; 4. 参数:SLM像素阵列 Ftr5k^! vd[0X; i*Z"Me 5. 参数:SLM像素阵列 %
yw?s0 76`8=!]R Q637N|01 应用示例详细内容 ;XBI{CW T
\_]^]> 仿真&结果 3eF-8Z(f OOo3G~2r 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM #~
)IJ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 X"fb; sGT 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 $69oV: ax<?GjpM 2. VirtualLab的SLM模块 ATK_DEAu 9J2NH|]c rp;b" q 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 V)[@98T_4? 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 0E3[N:s vwxXgk 3. SLM的光学功能 $adbCY\ md"!33 @ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 a m|F?|1 为此,将区域填充因子设置为60%。 JPoN&BTCj 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 <4HDZ{"M f}9zgWU 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ?j"KV_ PoxK{Y 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 e?8HgiP- 4b98KsYg 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 6">+
~
G xHD=\,{ig 4. 对比:光栅的光学功能 }&wUr>= 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 %H]ptH5 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 +%ee8|\ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 n[lJLm^(_C 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 hEKf6# 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 u>2
l7PA| iOW#>66d
5kCUaPu 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd E87Ww,z8 e4?>- 5. 有间隔SLM的光学功能 H9YW 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 l1BtI_7p t/VD31 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ~?d Nd ,(EO'T[ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 n*[XR`r} >0ow7Uw; fF7bBE)L/| 6. 减少计算工作量 X= 5xh Ya3C#= :~Wrf8UQ 采样要求: K,+LG7ec 至少1个点的间隔(每边)。 &$`P,i 1) 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 \LR~r%(rM 3@dL/x4A 采样要求: ,JAx
?Xb 同样,至少1个点的间隔。 VVac: 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 itBwCIj G 随填充因子的增大,采样迅速增加。 /Z'L^L%R 42G)~lun-d 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 g
jDh?I 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 JtYP E? 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 s4A43i'g!h 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 YIoQL}pX
mF*2#]%dx 7puFz4+f 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 m$}R%
P5a4ze 7. 指定区域填充因子的仿真 Ql/cN%^j$ EofymAi% 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ZSjMH .Ij" 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 /uPcXq:L~ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 :61Tun 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 #5cEV'm; JEXy%hl +b0eE) 8. 总结 \?[v{WP) 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 O#:$^#j& Q sZx)
bO 第1步 `Q|*1 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 6&
e3Nt \KMToN&2 第2步 adCU61t 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 `q}I"iS 扩展阅读 _<k\FU
r 扩展阅读 Cn'(<bl 开始视频 Xe6w| - 光路图介绍 .k,1f*% 该应用示例相关文件: $?Yry.2 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 0
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