;!}SgzSH} 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) :2My|3H\ YUb,5Y0 应用示例简述 AN>`M?EQ P~<93 1. 系统细节 Tc(R-Wi 光源 OW}A48X[+ — 高斯光束 ;40m goN 组件 8_m9CQ6 i — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 >FHsZKJ
探测器 \k=Qq(= — 视觉感知的仿真 xdM#>z`; — 电磁场分布 Mh|`XO.5I 建模/设计 qtN29[x — 场追迹: &-:yn&f7 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 EAB+kY `.W;ptZ6 2. 系统说明 Q75^7Ga_ WS/+Yl \ Sby(l 3. 模拟 & 设计结果 S7/v,E UK>=y_FYO 4. 总结 Nj_sU0Dt 5#)<rK 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 .^S78hr]n A4FDR# 第1步 grdyiBSVn 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 J\ +gd% x2sOEkcQ 第2步 vx@p;1RU` 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 GKhwn&qCKb 6a7iLQA 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 @%nUfG7TQ +fQL~0tA 应用示例详细内容 $ F7gH AdW2o|Uap 系统参数 /7@2Qc2 r)]CZ]) 1. 该应用实例的内容 [0ffOTy ].P(/~FS9 h&M
RQno 2. 设计&仿真任务 _1> 4Q% (OcNC/9 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 !TL}~D:J wV&f|JO0+ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 <1+6O[>{ Pd "mb~ @1&;R 4. 参数:SLM像素阵列 j4xr1y3^ j~S!!Z] Sje0:;;| 5. 参数:SLM像素阵列 h_chZB' eQVPxt2N Rfc&OV 应用示例详细内容 UX'NJ1f 1R%`i'$/ 仿真&结果 8H#c4%by) ObyuhAR 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM EhPVK6@ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 E}' d,v#Z{ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 7;}3{z px}7If 2. VirtualLab的SLM模块 ;#yu"6{ Eh@T W%9* ?)[zLnxc& 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 IO!1|JMr6 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 +:]Aqyc\ ;IuK2iDt< 3. SLM的光学功能 wz*A<iU B.mbKntK)R 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 Wbn[Q2h5 为此,将区域填充因子设置为60%。 3']:1B 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 {pe7]P? ]fADaw-R 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd HA9Nr.NqC@ B3>Uba*-)} 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Z&]+A, <duBwkiG 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd a()6bRc~T FQ^<, 4. 对比:光栅的光学功能 _(6B. 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 [7e{=\`= 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 .:Bwa 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 rO(TG 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Z;fm;X%4 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 yC'hwoQ` ;c X^8;F0
d{2y/ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd YBtq0c DrCWvpudd 5. 有间隔SLM的光学功能 {\svV
0)~ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 %jZp9}h $m:2&lU3 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd [%7;f|p?
{b|3]_-/ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 d=t}T6.| k=T-L w>6"Sc7oc2 6. 减少计算工作量 +~w?Xw, H~?*KcZ 0\ ;]gsJ9FK< 采样要求: i'W_;Y} 至少1个点的间隔(每边)。 FQk_#BkK 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 8! H8[J GUu\dl9WA' 采样要求: ?qg^WDs$ 同样,至少1个点的间隔。 s-,=e 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 0'yG1qG 随填充因子的增大,采样迅速增加。 mUrS&&fu8 `1fJ:b/M 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 7P/?wv9+n* 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 'v\1:zi 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Rwc[:6;fn 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 s[G|q5n Gur8.A;Y mL:m;>JJ n 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 a=J@yK ;x:k-s2- 7. 指定区域填充因子的仿真 /h}P Eu3y r6d0x 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 J3/\<=Qh 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 xm<v">< 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Z/2,al\ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 2{A;du%& Q`.'-iq n-b>m7O( 8. 总结 L6|Hgrj -u 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 VHXI@UT* A Gv!c($ 第1步 6gj]y^} 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 dT5J-70Fl AMbKN2h1f 第2步 Op`I;Q
#%d 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 3R5K}ZBi% 扩展阅读 ; cGv] A+ 扩展阅读 ]3n , AHA 开始视频 _PK}rr?"7O - 光路图介绍 9#v-2QY 该应用示例相关文件: @%6)^]m}r - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 9{_8cpm4 - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |