>pfeP"[(3 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) N:| :L:<1 N, Ma\D+^t 应用示例简述 *7h~0%WR rV%T+!n%c 1. 系统细节 )xV37] 光源 <N= k&\ — 高斯光束 Fk/I
(Q 组件 JpfA+r — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 3tTOs 探测器 xjo`u:BH — 视觉感知的仿真 `-pwP — 电磁场分布 (O0 Ry2uk 建模/设计 KM?4J6jH — 场追迹: Mc@9ivwL# 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 z.cDbkf} O0qG
6a 2. 系统说明 x'`{#bKD Z2$_9. ?CQE6ch 3. 模拟 & 设计结果 xO )c23Z)] hI86WP9* 4. 总结 ;pW8a? TI7$J# 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 1z6aMd6. !+PrgIp> 第1步 _Rii19k 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 LBy`N_@ CXrOb+ 第2步 M#'7hm6 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 N# }w1]
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3x 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 zas&gsl-; kT@ITA22 应用示例详细内容 `}),wBq VAL?
Z 系统参数 #AGO~#aK =Q_1Mr4O 1. 该应用实例的内容 >j=ZB3yZ $#hU_vr b\}a
2. 设计&仿真任务 ,H7_eVLWR 89&9VX^A 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 \|Af26 Qf=^CQ=lV 3. 参数:输入近乎平行的激光束 yQrgOdo,w DS(>R!bb %HG+|)b 4. 参数:SLM像素阵列 Cb+sE"x] kC.dJ2^j+ ` 7iA?; 5. 参数:SLM像素阵列 QlGK+I>y; UJ}}H}{ NRx 7S9W 应用示例详细内容 ;
pBLmm*F XE2Un1i}j1 仿真&结果 |Gz<I F `:Q 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM UmVn: a 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 j_rO_m <8 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 jo"nK,r bW
W!,-|R 2. VirtualLab的SLM模块 w]gLd B1}i0pV,, 7-B|B{] 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 h/\v+xiF 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 VjWJx^ZL# ^N<aHFF 3. SLM的光学功能 (>0`e8v! wetu.aMp 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 lD$s, hp 为此,将区域填充因子设置为60%。 tQzbYzGb7 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 Gk5'|s MlWKfe< 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd zdJPMNHg ;b [>{Q; 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 )2).kL> LkJq Bg 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd TYuP
EVEXZ _(f@b1O~ 4. 对比:光栅的光学功能 z\tY A 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 IA0vSF: 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ByjfPb# 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 A/=cGE 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 &G%AQpDW5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 :j+E]|d(~6 \)28,`
3)VO{Cj! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 2+pw%#fe w31O~Ve 5. 有间隔SLM的光学功能 ruagJS)+ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 vhOh3 nycJZ}f:wP 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd g[i;>XyP T+XcEI6w 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 6'*6tS fAStM: a'`i#U 6. 减少计算工作量 }%w;@[@L VT>-* X{xkXg8h 采样要求: E7h@c>IK 至少1个点的间隔(每边)。 51s\)d%l 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 qX5]\nX&G (1S9+H>g 采样要求: 0 F8xS8vK+ 同样,至少1个点的间隔。 WClprSl8 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 u@D5SkT 随填充因子的增大,采样迅速增加。 3 a(SmM: t#M[w|5? 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 !pe[H*Cy 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 |qpm
如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 P `<TO 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 8u[.s`^ CNuE9|W(vI dT1UYG}>j 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 d<?Zaehe\ *W2] Kxx* 7. 指定区域填充因子的仿真 \zcSfNE uR")@Tc 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 M&zB&Ia"' 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。
L9hL@ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 MeV4s%*O+ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 jMWTNZ lKQjG+YF :;#^gvH 8. 总结 :n<l0 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 (
K-7z :'t"kS 第1步 ~&0lWa 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 E]{0lG`l !
,]Fx 第2步 !N:w?zsp 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ~Gg19x.#uW 扩展阅读 brE%/%!e 扩展阅读 K~&3etQF 开始视频 T?n [1%K - 光路图介绍 YS9)%F=X 该应用示例相关文件: -K^(L#G - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 (s1iYK - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |