#EbGL])F} 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) fb.J$fX GnFs63 应用示例简述 o(*F])d; }j46L1T 1. 系统细节 o0ZIsrr
光源 -ynBi;nH — 高斯光束 9Bz0MUbrLl 组件 f1mHN7hxW — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 740B\pc0 探测器 {Oj7 — 视觉感知的仿真 brh=NAzt — 电磁场分布 uWjN2#&, 建模/设计 k[\a)WcY8 — 场追迹: i9rS6<V' 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 9#7J:PfZ< $5AC1g' 2. 系统说明 IG< H"tQ qI%&ay"/ R(k}y,eh.` 3. 模拟 & 设计结果 u%u&F^y @w\I qr
4. 总结 -/ +#5.`1 0,_b) 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 h}Rx_d A%u_&a}
第1步 kA4@`YCl 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 rn8cdMN =su]w2,Iy 第2步 {tw+#}T a 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 mT@nn, ,:)`+v< 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 C&+6>L@ qmglb:" 应用示例详细内容 DkDoA;m P(,?#+]- 系统参数 PT'MNH |4;UyHh 1. 该应用实例的内容 fE]XWA4U 0
Y>M=| _c`K+o"3 2. 设计&仿真任务 }rq9I"/L B(_WZa! 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ;f1qLI zF`3gl. 3. 参数:输入近乎平行的激光束 wM~H(=s`D -MBV$:_R :"Y*<=x#2 4. 参数:SLM像素阵列 \]uV!)V5B (UL4+ta o*5U:'=5} 5. 参数:SLM像素阵列 :nA.j"@ !4(zp;WY^ >yB(lKV 应用示例详细内容 v+G=E2Lhv ) ;FS7R
仿真&结果 wSEWwU[ )5_jmW`n 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 15U (={ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 W3H+.E 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 :o46rBs %}-?bHB1c 2. VirtualLab的SLM模块 JH8}Ru%Z 58 bCUh#uw GZip\S4Y 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 iK5_u2]Q 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 x/!5K|c -
e"jw#B 3. SLM的光学功能 nKoiG*PI +Q$h ]^>~ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 X]%itA 为此,将区域填充因子设置为60%。 8CbXMT 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 nUS| sh zK|i='XSf 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd _8,()t'" ?W>qUrZ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 w[tmCn+ M_g?<rK 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 3 ZEB ZJPmR/OV_ 4. 对比:光栅的光学功能 >-8cU_m7s 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 aJ Z"D8C 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 V!v:]E 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 b~=0[Rv 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 /!h;c$ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 NIdZ kF(n!2"W
[AMAa]^ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 'k;rH!R U_x )#,4 5. 有间隔SLM的光学功能 Ar*^;/ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 I[)% , jd ,XDRO./+T 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 1 zw*/dp %\]*OZ7 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 o1M$.* J'$>Gk] <-D/O$q 6. 减少计算工作量 ry9T U _XCOSomL` T,aW8| 采样要求: =[b)1FUp 至少1个点的间隔(每边)。 BauU{:Sh 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 F*"}aP$ dXF^(y]l 采样要求: 7}M2bH} \K 同样,至少1个点的间隔。 /|*
Y2ETOr 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 lXcx@#~ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 wF(( wgCa58H76 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 If\fLhM 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 R(q~ -3~ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 d3=KTTi\ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 O,Cb"{qH8 g+J-Zg6 5[c^TJ3 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 uEX!xx?Q# tH-C8Qxy 7. 指定区域填充因子的仿真 X5j1`t, yUpgoX(6 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Ii G6<|d8H 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 On?p 9^9 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 EK4d_L]I 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 yu;P +G
iof-7{+3_ 17`1SGZ 8. 总结 ZIQ
[bE7 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 y&V@^"` rk #sy$ 第1步 .ev?"!Vpp9 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ;qm
D50:% Q)IKOt;N] 第2步 %44leINx 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 +F^^c2E 扩展阅读 0tXS3+@n= 扩展阅读 m6w].-D8 开始视频 [n:<8ho - 光路图介绍 ME*LHr, 该应用示例相关文件: g"}%2~Urf - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 HhvdqvIEG - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |