rEB@$C^ 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) -( 9aze>nxh. 应用示例简述 Nv(9N-9r ldiD2
Q 1. 系统细节 {ys=Ndo8 光源 +kzo*zW$L — 高斯光束 ;1%-8f:lW 组件 U)E(`{p] — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 sg$rzT-S4 探测器 7R6ry(6N — 视觉感知的仿真 Q36qIq_0e — 电磁场分布 .P[ _<8 建模/设计 Bj1?x — 场追迹: -'t)=YJ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 KY51rw. G+X
Sfr 2. 系统说明 n=y[CKS [_1G@S6Ex _*1`@ 3. 模拟 & 设计结果 nlW +.a[ "#{4d),r 4. 总结 hRUhX[ 4nh>'v%pD 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 &e#~<Wm82 3'cE\u 第1步 *Zt#U# 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 KG|n LUM@#3& 第2步 P:k>aHnW 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 PIdikA TFkZp e; 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 `f*Q$Ulqx ^j31S*f&: 应用示例详细内容 G
8g<>d{j $W!!wN=B 系统参数 ihIVUu-M MP_ ~<Q 1. 该应用实例的内容 HY&aV2|A1 +n{#V;J Wu[&Wv~ 2. 设计&仿真任务 =a@j= hc>HQrd 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 _'{_gei_P eU".3`CtY 3. 参数:输入近乎平行的激光束 7UVzp v OY;*zk Xq_5Qv 4. 参数:SLM像素阵列 ]n_
k` "4riSxEyF }o(zj=7 5. 参数:SLM像素阵列 C8Qa$._ F'4w;-ax 0
q}*S~ 应用示例详细内容 +nXK-g;)' 9Iwe2lu 仿真&结果 1IC~e^" {`LU+ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM DW5Y@;[
由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 5nT"rA 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Z4S!NDMm~ /&
Jan: 2. VirtualLab的SLM模块 3I)VHMC v"b+$* \;qW 3~ 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 kYG/@7f/ 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 gW>uR3Ca4 Fl kcU
`j 3. SLM的光学功能 [N7{WSZ& `j,Yb]~s79 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ^(vs.U^U< 为此,将区域填充因子设置为60%。 sz:g,}~h 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 mZSD( [@J/eWB 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd A
mNW0.} pR(jglm7- 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 '*5i)^ [x+FcXb 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd oW ::hB dIN$)?aB0 4. 对比:光栅的光学功能 _ FpTFfB 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 U>]$a71 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 JMrEFk 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 0AZ")<^~7 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Z/k:~%|E 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 c6h.iBJ' iiT"5`KY
?[@J8 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd /t+f{VX$ B"h#C!E 5. 有间隔SLM的光学功能 NQBpX 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 /]K^
rw[ ^2Fei.?T. 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd
gbF+WE \.MR""@y`{ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 r_
I5.gK $"+djI?E9 O_`VV* 6. 减少计算工作量 OI|[roMK B<5R A P)L:7w'e 采样要求: Y<N5#
);f 至少1个点的间隔(每边)。 mk.9OhYY 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 )
i;1*jK u+Y\6~=+ 采样要求: Cn,d?H 同样,至少1个点的间隔。 s'!Cp=xQF" 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 CAfGH!l! 随填充因子的增大,采样迅速增加。 W0dSsjNio |XQIfW]A 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 L-ET<'u 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ck:T,F{} 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 6a[}'/ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 6HT;#Znn \y97W&AN 5eLtCsHz 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 h;p>o75O ,]|#[ 8 7. 指定区域填充因子的仿真 `7c~mypx fz|cnU 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 T-.% 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 YmL06<Mh 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 s2h@~y 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 ^yW L,$ }JF13beU MLXN Zd 8. 总结 e^8 O_VB 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。
SWH2 L{X_^ 第1步 ]] !VK 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 bGN:=Y' `95r0t0hh\ 第2步 &-;4.op 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 yMG1XEhuG 扩展阅读 :0Bq^G"ge 扩展阅读 PY{
G [ 开始视频 m4**~xfC - 光路图介绍 ,BH@j%Jmy 该应用示例相关文件: #jkf1"8 C - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 urbp#G/> - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |