I*9Gb$]= 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) wRj~Qv~E (I!1sE!?1 应用示例简述 &gJW6< +> ^[W~[2 1. 系统细节 i
_8zjj7 光源 m]e0X*Kg — 高斯光束 rr>IKyI' 组件 NC;T( @ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 du8!3I 探测器 uiuTv)pwF — 视觉感知的仿真 > `0| X — 电磁场分布 TftOYY.hQ 建模/设计 pj j}K — 场追迹: 6\XP|n-0+0 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 37~rm zQ=aey% 2. 系统说明 ^`/V i ud.poh~| EI<"DB 3. 模拟 & 设计结果 -z&9DWH fo*!a$) 4. 总结 A?\h|u< 2,+@#q 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 pDP33`OFh 7Y4%R`9H 第1步 E8+8{
#f; 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 W;5N04ko Bk@bN~B4 第2步 rknzo]N, 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 N4'
.a=1 h!Z Z2[ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 7jhl0 B6-AIPb 应用示例详细内容 FyQOa) 5 D5}DV 系统参数 _Wq7U1v` kWI]fZ_n 1. 该应用实例的内容 $&bU2 ] 9tW3!O^_ 1a \=0=[ 2. 设计&仿真任务 _P>1`IR >3v0yh_3 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 VOD1xWrb 9Y;}JVS 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Uy:@,DW mI2|0RWI)l \?aOExG
I 4. 参数:SLM像素阵列 g8C+1G8 7$;c6_se >6n@\n 5. 参数:SLM像素阵列 Kv(Y } ^!N;F" Z?vY3) 应用示例详细内容 =9#i<te ,q{lYX83S 仿真&结果 tW'qO:y+ '&rw=.cU 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM %w;1*~bH 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 PGC07U:B 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 c }g$1of87 +3(CGNE 2. VirtualLab的SLM模块 @`#OC# :/n
?4K^ lsTe*Od 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 qg/Y;tGSx 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ,:\zXESy4 37GHt9l 3. SLM的光学功能 h+\$Z] 18l~4"|fk 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 pP=_@3 D 为此,将区域填充因子设置为60%。 U`},)$ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 Ktj(&/~} %a%+!wX0x 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd O:5ldI pZNlcB[Qn- 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 lk5_s@V
l f)!{y>Q 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd bYRQI=gW': /jn:e"0~ 4. 对比:光栅的光学功能 fh/)di 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 G>?x-!9qcH 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 B)LXxdkOn 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 kr &:; 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 D(W7O>5vQ2 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 KV3+}k mo97GW
`0/gs 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd QZeb+r &QHA_+88W 5. 有间隔SLM的光学功能 &AkzSgP 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 y2d_b/ #oS 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd `K ~>!d_ cfF-e93T 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 'JXN*YO e3bAT.P JN9H T0 6. 减少计算工作量 cc#_acR *HfW(C$ xfZ9&g 采样要求: !7#froh 至少1个点的间隔(每边)。 `^@g2c+d 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 )@};lmPR
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t-T0; 采样要求: pNk,jeo 同样,至少1个点的间隔。 _16&K}< 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 q,19NZ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 <CdG[Ih omDi<- 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 0L
4]z'5 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 #gr+%=S'6C 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。
\1c`) 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 i(TDJ@} 1]zyME )r-|T&Sn 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 5<>R dLo m0q`A5!) 7. 指定区域填充因子的仿真 ;#Bh_f ]((
>i%%~ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 p{pzOMi6 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 0Ci"tA3" 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 B3k],k 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 |'>E};D jL[Is2<@
4N^Qd3[d 8. 总结 lyc{Z%!3 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 r
z>zdj5} |<o>$;mZ 第1步 Yi! >8 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 D-\'P31 8Nl|\3nl- 第2步 c$UpR"+ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。
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扩展阅读 d$C|hT 扩展阅读 "vHAp55B{ 开始视频 %0M^ - 光路图介绍 X;[zfEB 该应用示例相关文件: 28L'7 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计
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