aw7pr464 空间光调制器(SLM.0002 v1.1) s}DNu<"g tq*{Hil>P` 应用示例简述 #t
VGqf /q!_f!<q4x 1. 系统细节 y }h2 光源 \;+b1 — 高斯光束 o+\?E.%%g 组件 e)i-$0L" — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ]agdVr^ 探测器 Mi`t$hmP — 视觉感知的仿真 =4Jg6JKYg — 电磁场分布 SQk5SP 建模/设计 wD@ wOC
— 场追迹: _b
&Aa% 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 T n,Ifo3 N9z!-y'X 2. 系统说明 w!Z,3Yc) XLm@, A[ wh^I|D?" 3. 模拟 & 设计结果 [VouG{ xCMuq9zt@ 4. 总结 !
n?j)p. T8vMBaU!qY 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 g$8aB{) ~SEIIq 第1步 |G)bnmi7 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 [U{RDX 1EHNg<J( 第2步 ry4:i4/[ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 -AKbXkc~\ @T sdgx8 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 6<UI%X r\|"j8 应用示例详细内容 d UiS0Qs} ?=?9a 系统参数 puGy`9eKv1 E8We2T[^M 1. 该应用实例的内容 dr4 m}v. Uq2 Qh@B }5"19
Go? 2. 设计&仿真任务 l`{JxVg JI92Dc*o 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 AdRt\H < et}s yPH 3. 参数:输入近乎平行的激光束 f=40_5a6 om,=.,|Ld bJ6v5YA% 4. 参数:SLM像素阵列 ;[-y>qU0 nZUBblRJ) {7FD-Q[tS 5. 参数:SLM像素阵列 =v=H{*dWA 8f#&CC!L C6,W7M[c 应用示例详细内容 'gz@UE1 GSg/I.)S 仿真&结果 |Oe$)(`|h LD}ZuCp! 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM vlZ?qIDe 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 {I"d"'h 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 j[y+'O u|E9X[% 2. VirtualLab的SLM模块 wmgKh)`@_{ <}Rr C#uiA cX@72 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 ehls:)F 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 A*hc
w {2%@I~US 3. SLM的光学功能 _6Fj&mw(u YQ<O.E 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 las|ougLy 为此,将区域填充因子设置为60%。 U}<;4Px]7v 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 \~ h7 v#`P?B\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd }\!38{& LP:C9Ol\ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。
&+Pcu5 vc(6lN9> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Z"G@I= Q( g4*]R>f 4. 对比:光栅的光学功能 B^uQv|m 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 l]o&D))R 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Y$?<y 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 9l:Bum)9 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 bPtbU:G 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 z,B'I.)M O486:tF
mam2]St" 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd E`SFr 9:tKRN_D 5. 有间隔SLM的光学功能 ~?n)1Vr| 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 KCkA4`IeM `P< m`* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd f^f{tOX /Hl]$sJY 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 P:yMj&) 3M{/9rR[ Yxt`Uvc(^h 6. 减少计算工作量 <t0o{}^P* \f_YJit k%Q>lf<e 采样要求: ;F;`y), 至少1个点的间隔(每边)。 QNH5Cq;Y 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 Yg6 f EV 8}C= 采样要求: V{[vIt* 同样,至少1个点的间隔。 lT3, G#( 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 fK|F`F2V 随填充因子的增大,采样迅速增加。 @^$Xy<x *a7&v3X 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 sC Fqz[I 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 T)ra>r<# 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ^ cn)eA 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 `}^_> tF<|Eja* .)>DFGb>H 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 KS/1ux4x 8ctUK| 7. 指定区域填充因子的仿真 ^MesP:[2 6XO%l0dC. 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 r~uWr'}a} 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Q2)z1'Wv 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 daIt `} s 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 F~dq7AS ruLi
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^t=Hl 8. 总结 E{*~>#+ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 V11Zl{uOl 8#w}wGV* 第1步 m1X0stFRs" 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 \KmjA)( HPGi5rU 第2步 n;0bVVMV 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 )IGE2k| 扩展阅读 MmBM\Dnv 扩展阅读 xGq,hCQHV 开始视频 aU3
m{pE - 光路图介绍 !+4}x;!8 该应用示例相关文件: \$2E - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 n)w@\Uyc - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |