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infotek 2021-10-08 13:40

斜光栅的高级配置

摘要 A}1:fw\Fn3  
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 V("T9g  
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介质目录中的斜光栅介质 TG.\C8;vFh  
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 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 JOki4N  
 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 o6r ^  
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斜光栅介质的编辑对话框 e#?rK=C?9  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 V>Nw2u!!  
 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 ` h1>rP  
 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。
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斜光栅介质的编辑对话框 '_xa>T}  
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 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 [g: KFbEY  
 以下参数可用: 0-U%R)Q  
- 填充率(定义光栅的上部分和下部分) Zor Q2>  
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ?&.Eg^a"  
- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) N3Z6o.k  
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) [xPO'@Y  
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如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
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斜光栅介质的编辑对话框 X!]p8Q y  
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 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 qTnk>g_oS&  
 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 T- lHlm  
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斜光栅介质的编辑对话框 luO4ap]*  
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 首先,必须选择涂层材料。 ,wk %)^  
 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 `~ R%}ID  
 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 {>>Gc2UT  
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斜光栅的编辑对话框 @{8SC~ha  
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 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 [Ma d~;  
 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 1;y?!;FD  
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堆栈使用的评论 bA3pDt).p  
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 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 >t}0o$\?E  
 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 n/-d56  
 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 RU GhhK  
 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 %NfbgJcL_  
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斜光栅介质的采样配置 F /% 5 r{  
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斜光栅介质采样 -OV!56&  
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 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 BF>3CW7  
 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 ` SO"F,  
 在右边,显示了介质的预览。 S,TK;g  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 @-Js)zcl q  
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采样斜光栅#1 O(oGRK<xM  
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采样斜光栅#2 uyITUvPg[  
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采样斜光栅#3 rwUKg[ 1N  
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采样斜光栅#4 NbtNu$%t  
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文档信息 jP9)utEm6  
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QQ:2987619807 ^gpswhp 5  
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