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斜光栅的高级配置
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infotek
2021-10-08 13:40
斜光栅的高级配置
摘要
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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介质目录中的斜光栅介质
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内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
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可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
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斜光栅介质的编辑对话框
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斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
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首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。
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这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。
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斜光栅介质的编辑对话框
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在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
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以下参数可用:
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- 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
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- z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
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- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角)
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- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
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如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
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斜光栅介质的编辑对话框
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为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
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现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
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斜光栅介质的编辑对话框
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首先,必须选择涂层材料。
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同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
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接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
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斜光栅的编辑对话框
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由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
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由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
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堆栈使用的评论
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为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
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一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
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对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
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因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
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斜光栅介质的采样配置
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斜光栅介质采样
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接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
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在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
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在右边,显示了介质的预览。
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介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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采样斜光栅#1
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采样斜光栅#2
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采样斜光栅#3
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采样斜光栅#4
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