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infotek 2021-10-08 13:40

斜光栅的高级配置

摘要 ,l~<|\4,wv  
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 "{~5QO   
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介质目录中的斜光栅介质 @v2<T1UC  
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6+$2rS$1V  
 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 u1/ >)_U  
 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 7}&:07U  
HoPpUq5,  
斜光栅介质的编辑对话框 B@F@,?K4%  
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Cu7{>"  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 6U{A6hH]  
 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 y?OP- 27y  
 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。
Z1 Nep !  
斜光栅介质的编辑对话框 wqo:gW_  
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HAn{^8"@  
Vg'R=+Wb  
 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。  uo`R  
 以下参数可用: WJq>%<#  
- 填充率(定义光栅的上部分和下部分) 9w-\K]  
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) E !!,JnU  
- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) x^K4&'</  
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) ~ YH?wdT  
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如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
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斜光栅介质的编辑对话框 m[}P  
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 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 YF{MXK}  
 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 ZN8j})lE  
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斜光栅介质的编辑对话框 dWd%>9 }  
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 首先,必须选择涂层材料。 u[)X="-e#  
 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 $5pCfW8>  
 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 *duG/?>P  
v*.R<- X:  
斜光栅的编辑对话框 8C{&i5kj\E  
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 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 ^(JrOh'  
 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 |5vcT, A  
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堆栈使用的评论 n~629&  
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+Q+O$-a <  
 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 g !^N#o  
 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 jV2H61d  
 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 =%|`gZ  
 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 i~Tt\UA>  
B?%u< F  
斜光栅介质的采样配置 Vq3NjN!+5  
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斜光栅介质采样 $^Xxn.B9  
A"S"La%"  
yepRJ%mp  
 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 I7vP*YE 7F  
 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 cx:_5GF  
 在右边,显示了介质的预览。 p&Qb&nWk<  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 Kyh6QA^  
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采样斜光栅#1 [j@ek  
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采样斜光栅#2 3.YH7rN  
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采样斜光栅#3 }!^h2)'7  
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采样斜光栅#4 I~l_ky|a !  
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文档信息 dFg&|Lp  
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