首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> JCMSuite应用—衰减相移掩模 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2021-09-15 09:27

JCMSuite应用—衰减相移掩模

在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: T%{qwZc+mJ  
c{YBCWA  
2g>4fZ  
pLB~{5u>;-  
掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 _wMc7`6F  
 V6opV&  
由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 oD_n+95B  
2=P.$Kx  
相位分布如下图所示: V`F]L^m=L  
PL;PId<9w  
u4 ##*m  
YNEPu:5J  
相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: +;Yd<~!c Z  
F:p'%#3rU/  
/oA=6N#j  
(o+(YV^  
8ZmU(m  
QQ:2987619807 VB*`"4e@b<  
查看本帖完整版本: [-- JCMSuite应用—衰减相移掩模 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计