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2021-09-15 09:27 |
JCMSuite应用—衰减相移掩模
在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: oyd{}$71d lk'RWy"pw
Ar$LA"vu4 L@ay4,e.bz 掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 qy]-YJZ 9!OpW:bR| 由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 WgL!@g r#j*vO ' 相位分布如下图所示: cP
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