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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 GqAedz;.  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 T,IV)aq  
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场景 XWvs~Xw@  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 'qP^MdoE%~  
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系统构建块
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组件求解器 q-o>yjT~  
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总结 X@Bpjg  
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几何光学仿真 ?% X9XH/!  
通过光线追迹 b mm@oi  
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结果:光线追迹 G9a%N  
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快速物理光学仿真 9e)+<H  
通过场追迹 *0hiPj:  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 yki k4MeB  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !bcbzg2d&  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %1@<),  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 m3(T0.j0P  
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总结 ye|a#a9N  
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文件信息 W #L"5pRg  
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