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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 ;>7De8v@@  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 .eVG:tl\  
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场景 n /m G|)Xt  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 %._.~V  
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系统构建块
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组件求解器 g]0_5?i  
o&$A]ph8X  
r* Ca}Z  
F7#JLE=  
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系统构建块 s?nR 4  
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总结 TOQP'/   
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{I't]Qj_e  
几何光学仿真 e$rZ5X  
通过光线追迹 (n_/`dP  
7-fb.V9  
结果:光线追迹 8KzkB;=n  
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e+fN6v5pU  
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快速物理光学仿真 ysY*k`5  
通过场追迹 fe_5LC"  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]:J$w]\  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 S3Jo>jXS "  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ;Q`lNFa  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 j^RmrOg ,  
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总结 xr^LFn)  
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文件信息 SiN0OB  
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QQ:2987619807 B/Ws_Kv  
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