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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 `m1stK(PO  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 n5xG4.#G  
Bz ,D4 E$  
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场景 W'k&DKhTqF  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 BSy4 d>  
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系统构建块
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组件求解器 oKSW:A  
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总结 Tz& cm =  
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几何光学仿真 B7{j$0fm*  
通过光线追迹 >)+U^V  
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结果:光线追迹 cEJ_z(\=hr  
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快速物理光学仿真 &@7|_60  
通过场追迹 n!b*GXb\  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 1 d.>?^uE  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 mW_A 3S5  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 nDchLVw  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 8>:2li  
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总结 ~u-`L+G"6  
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文件信息 X_|} b[b  
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