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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 FFe{=H,=  
[d-Y1  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 \qlz<   
e.#,9  
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场景 JiuA"ks)  
_^ic@h3'X~  
E1`_[=8a9  
2$VSH&  
在VirtualLab Fusion中构建系统 3`RI[%AN~  
 B@*!>R  
系统构建块
hN\sC9a1  
J83C]2~7  
`*`ZgTV  
A/fM30  
组件求解器 J!dv"Ww"  
!R#PJH/TM  
fF=tT C  
& .#dZ}J  
#XqiXM~^R  
'A\0^EvVv  
系统构建块 l<ZHS'-;8  
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总结 :_nGh]%  
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"(kiMo g-  
zwP*7u$CH  
几何光学仿真 <Lt"e8Z>x  
通过光线追迹 vq-;wdq?2  
Z:V<P,N  
结果:光线追迹 /11CC \  
^P A|RFP  
PL!dkaD^y>  
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快速物理光学仿真 l|vT[X/g  
通过场追迹 \_i22/Et  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 1=!2|D:C)i  
D$rn?@&g  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 HqV4!o9'  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 TC@F*B;  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r?^L/HGc  
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总结 :Dtm+EQ  
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文件信息 fjuPGg~  
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QQ:2987619807 M-F{I%Vx  
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