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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 s 1ge0~p3  
'>k{tPi.  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 g2R@`./S  
zD)pF1,7:8  
/:\3 \{?0m  
场景 M|[ZpM+  
F=)&98^v$_  
!$g+F(:(c  
f&x0@Q/eON  
在VirtualLab Fusion中构建系统 I<=Df5M  
9]>iSG^H  
系统构建块
e.o;eD}"  
aVe/ gE  
kJ(A,s|  
#Y93y\  
组件求解器 =6=_/q2  
+ q''y  
_}mK!_`  
8z<r.joxC  
3_`szl-  
}E}8_ 8T6  
系统构建块 &*&?0ov^"  
X8<2L 2:  
6`$[Ini  
R[1BfZ6s  
总结 L7mz#CMWf  
3P <'F2o  
q6wr=OWD  
,}C8;/V  
几何光学仿真 S^f:`9ab9  
通过光线追迹 5M23/= N  
sl/)|~3!8  
结果:光线追迹 -qebQv  
fj 4^VXD  
{BO|u{C  
1Qh`6Ya f  
快速物理光学仿真 |*,jU;NI  
通过场追迹 BN@,/m9OQ%  
^ft]b2i  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Jbp5'e _  
>sj bK%  
>&H~nGP.  
4?/7 bc  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 8,o17}NY,  
=V|Nn0E  
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(Q-I8Y8l8  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 C$#W{2x%6  
^p_u.P  
'H FKBp  
&-GuKH(Y<  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $`vkw(;t)1  
P 4;{jG  
b Dg9P^<n  
l_v*7d  
总结 RI@*O6\/I  
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文件信息 kb|eQtH  
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QQ:2987619807  q{X T  
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