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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 <uvA([r=Vq  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 8SoTABHV  
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场景 i Ie{L-Na  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 #A=ER[[  
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系统构建块
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组件求解器 g[(Eh?]Sc  
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系统构建块 MY l9 &8  
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总结 gbziEjRe  
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几何光学仿真 23/;W|   
通过光线追迹 M=Y['w x  
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结果:光线追迹 c+501's  
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快速物理光学仿真 aV#phP  
通过场追迹 \e~5Dx1  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 iC~ll!FA!  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 m(Iy W734I  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 z@v2t>@3k  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 fT{%zJU  
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总结 P4fnBH4OQ  
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文件信息 cVl i^*se  
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QQ:2987619807 (Ta(Y=!uq  
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