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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 f7AJSHe  
V`&*%xgGR  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Nm :lC%>X  
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场景 {.8)gVBmA  
XlcDF|?{.  
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在VirtualLab Fusion中构建系统  Jy[8,X  
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系统构建块
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y/*Tvb #TJ  
组件求解器 >bP7}T  
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系统构建块 d'nuk#r  
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总结 gxtbu$  
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几何光学仿真 F09AX'nj  
通过光线追迹 5!fW&OiY  
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结果:光线追迹 ]KT,s].  
]Y! Vyn  
X,CF Y  
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快速物理光学仿真 L 'Rapu  
通过场追迹 Y|jesa {x  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 7u0R=q  
QP0X8%+p  
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zhL,BTH  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X}^gmu<Vla  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 k;X1x65uP  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 a}hM}U!  
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总结 TnAX;+u  
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文件信息 >*CK@"o  
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QQ:2987619807 ! .}{ f;Ls  
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