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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 \)i,`bz  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 (qzBy \\p  
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场景 6&o?#l;|  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 OMAvJzK .  
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系统构建块
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W'6sY@0m  
组件求解器 L *cP8v4  
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C{~O!^2G  
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系统构建块 "c+$GS  
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总结 >[l2KD  
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几何光学仿真 $Z3{D:-)  
通过光线追迹 t N4-<6  
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结果:光线追迹 'Y/kF1,*  
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快速物理光学仿真 jig3M N  
通过场追迹 /vC!__K9:  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )Y6\"-M[  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Tv6y +l  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 C DoD9Hq,  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @v3)N[|d  
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总结 EwmNgmYq  
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文件信息 9hssI ZO  
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