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infotek 2021-06-04 09:47

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 W}wd?WIps  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ({!*&DVu  
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场景 0E&XD&D  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 <R#:K7> O  
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系统构建块
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组件求解器  uQW d1>  
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几何光学仿真 G@S'_  
通过光线追迹 w;^7FuBaC  
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结果:光线追迹 *Kw/ilI  
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快速物理光学仿真 O,KlZf_B  
通过场追迹 k8"[)lDc.  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 aeF^&F0  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 rkWW)h(e  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 GD .>u  
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QQ:2987619807 \D #NO  
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