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2021-05-25 10:58 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 mW."lzIl cV* 0+5 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 -<5H8P- B 3eNvUFZg
-:V2Dsr6; 概述 oX-h7;SD &wB?ks Rx4O?7; •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 {"^#CSi •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 .Tc?9X~4 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 `"|u
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p B79#4 LYS[qLpf 衍射级次的效率和偏振 1L.yh U\ V7>{, SG3qNM: g •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 M+\LH •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 o(5
(]bJ •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 K9UWyM<(2C •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 G6j9,#2@ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 0Yc#fD
y &%2 gx6$:j; 光栅结构参数 iLkP@OYgQ ON$-g_s>) 96CC5 •此处探讨的是矩形光栅结构。 t/:]\|]WB •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 _qhYG1t •因此,选择以下光栅参数: q0QB[)AP - 光栅周期:250 nm Og<UW^VR - 填充系数:0.5 Y&`nB,' - 光栅高度:200 nm n&}ILLc - 材料n1:熔融石英 6Vc&g - 材料n2:TiO2(来自目录) jiAN8t*P <7sGA{
)WazbT@ (:T\< 偏振状态分析 NpY zN|W:
9p<ZSh 5J<ghv>\P •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Tg.}rNA4 •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 k-\RdX)E •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Zae$M0) -AxO1
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tsu Mt ~!W{C_*N 产生的极化状态 bT{iei]? =`6_{<&
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O9]+Jd4W '`Iuf\ 其他例子 -.X-02 DJf!{:b) *R6Ed •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 DZ Q=Sinry •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 mVuZ}` /a!M6:,pX
:vk TV~ 6S#e?>"+ 光栅结构参数 s!j[Ovtx $.2#G"| qE&R.I!o •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 3@/\j^U •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 9vZD?6D,n •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 g",htYoEnj •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 P6ztP$M(
<r'l5|er ]hL`HP 光栅#1 aqk0+ (}u2) 9
]FNqNZ tmJ-2 (/r l\I •仅考虑此光栅。 vP{22P •假设侧壁表现出线性斜率。 Ej]:j8^W
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 \' gb{JO •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 hY@rt,! 8 /RzL,~] [Cx'a7KWL 假设光栅参数: U- UD27 •光栅周期:250 nm V6C*d: •光栅高度:660 nm $&Ntdn •填充系数:0.75(底部) eI7FbOze •侧壁角度:±6° `"/s," c:D •n1:1.46 \qAg]- •n2:2.08 8AK=FX&@& 8i=c|k,GL. 光栅#1结果 ju-tx
: Oist>A$Z 69{BJ]q •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 1@)kNg)*$ •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 TM1isZ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 oWu2}#~z_ 1yS[;
o&GS;{Rs em+dQ15 光栅#2 1gwnG& 3:Mq40]x
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78}QaE *oC],4y~D •同样,只考虑此光栅。 arR9uxP •假设光栅有一个矩形的形状。 L"|~,SVF •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 %MQU&H9[ 假设光栅参数: ;wi}6rF%[i •光栅周期:250 nm G^`IfF-j •光栅高度:490 nm >VQP,J{ •填充因子:0.5 *v}8n95*2 •n1:1.46 mIK-a{?G •n2:2.08 "B~c/%#PH ADTx _tE 光栅#2结果 7*9a`p3w <QlpIgr -bN;nSgb •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 8
z) K •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 2qw -: •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 |,3>A@ E<j}"W$a
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