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infotek 2021-05-25 10:58

衍射级次偏振状态的研究

摘要 2h_XfY'3pX  
7FQ&LF46  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 xEULV4Qw  
U04TVQn`  
n\X'2  
概述 H%`$@U>  
V'-}B6 3S>  
^`BiA'gPPC  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 Bf)}g4nYn  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 eootH K  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ]2Vu+AP  
pJnT \~o  
TnuNoMD.  
+-s$Htx  
衍射级次的效率和偏振
iZ^tLnc  
fu=GgD*  
 BVJ6U[h`  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 fN!ci']  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 pm)kocG  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 %a'Nf/9=:  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 "7G>  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 -VC k k  
jV}tjwq  
 xJ&E2Bf  
光栅结构参数 4lVvs(W?  
Bv=  
?QJS6i'k  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 J*!_kg)>J  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 &d%0[Ui`  
•因此,选择以下光栅参数: z_;:6*l=:  
- 光栅周期:250 nm B IW?/^  
- 填充系数:0.5 b6]MJ0do  
- 光栅高度:200 nm vzXfJP  
- 材料n1:熔融石英 ?Q?=I,2bP  
- 材料n2:TiO2(来自目录) l?f%2:}m  
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偏振状态分析 y;GwMi $KI  
*wfb~&: }  
@P'("qb~  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 7o99@K,  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 oe4r_EkYwW  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 B$\,l.h E  
?q*,,+'0  
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5#WyI#YNG  
产生的极化状态 KUE}^/%z  
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3* v&6/K  
crDm2oA~t  
##\ <mFE  
其他例子 'gaa@ !bg  
I{8sLzA03S  
pm4'2B|)g  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 *"HA=-Z;  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 &{R]v/{p]  
([#4H3uO-  
n>o0PtGxC  
eoGGWW@[  
光栅结构参数 myvn@OsEw  
ir?Y>  
JYesk  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 `pJWZ:3  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 #;lB5) oe  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 G@(ukt`0}  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 wvnuE<o8  
+\ZaVi  
z0F'zN 3J  
光栅#1 {[[j.)  
&UextGk7  
Y@#rGV>  
9^zA(  
c`M ,KXott  
•仅考虑此光栅。 AnW72|=A(  
•假设侧壁表现出线性斜率。 uJ:SN;  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 G,-x+e"  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 gwQk M4  
qy^sdqHl@  
_yu_Ev}R  
假设光栅参数: V.?Oly  
•光栅周期:250 nm "3H?_!A9  
•光栅高度:660 nm h4,S /n  
•填充系数:0.75(底部) {sR|W:fS$  
•侧壁角度:±6° hAvX{]  
•n1:1.46 ?E|be )  
•n2:2.08 Z]\IQDC  
<], ~V\m  
光栅#1结果 WvVf+| Km  
M!Wjfq ^~  
,enU`}9V*  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 47 |&(,{  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 e< E]8GAF  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
5a^b{=#Y  
.G/2CVMj  
,f3Ck*M  
d~za%2{  
光栅#2 w.9'TR  
!Bqmw  
3A)Ec/;~  
JQde I+  
YgCSzW&(  
•同样,只考虑此光栅。 _N2tf/C&=  
•假设光栅有一个矩形的形状。 d :%!)s  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 r_EuLFMA  
假设光栅参数: TQiDbgFo  
•光栅周期:250 nm o?]g  
•光栅高度:490 nm 2[e^mm&.   
•填充因子:0.5 k,M %"FLQ  
•n1:1.46 SGA!%=Lp  
•n2:2.08
XL2iK)A  
uNS ]n}  
光栅#2结果 NUjo5.7  
0f]LOg  
o9 g0fC  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 )<8f3;qd  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 +:D90p$e  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 %Tvy|L ,  
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B(l8&  
文件信息 ~V?3A/]  
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QQ:2987619807 cPL]WI0(  
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