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infotek 2021-05-19 10:06

高NA物镜聚焦的分析

摘要 =8Gpov1!V~  
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 hWRr#030  
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建模任务 F<Ig(Wl#az  
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概观 sv+ 6#  
!u|s8tN.U  
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光线追迹仿真 ]+T$ D  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 m Q^SpK #  
? w@)3Z=u  
•点击Go! z(1`Iy M  
•获得3D光线追迹结果。 {ukQBu#}<  
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t/h,-x  
光线追迹仿真 Sn[/'V^$a  
@oQ"FLF.  
a.fdCI]%  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 (9v%66y  
•单击Go! deCi\n  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 UD ;UdehC  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 @]dv   
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) sCE%./h]  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 D+{& zo  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 4mnVXKt%.  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 JV?d/[u,  
x;A.Ll  
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场追迹结果(电磁场探测器) %uvA3N>  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 y:Aha#<  
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QQ:2987619807 uzIM?.H  
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