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infotek 2021-05-19 10:06

高NA物镜聚焦的分析

摘要 fXrXV~'8  
dJ"iEb|4  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Y5fLmPza  
zD?oXs  
<ZU=6Hq  
j+>J,axU!  
建模任务 06jqQ-_`h  
ss;R8:5  
+`?Y?L^ J  
概观 C9p"?vX  
[O: !(G je  
/}-CvSR  
光线追迹仿真 !i=nSqW  
9 \^|6k,  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 xf|mlHS+  
[+qCs7'  
•点击Go! k,euhA/&  
•获得3D光线追迹结果。 qI^ /"k*5  
kdGT{2u  
NcY608C  
bWOS `5  
光线追迹仿真 5`f@>r?  
$-[CG7VgX%  
/x3/Ubmz~x  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 qJ0fQI\  
•单击Go! A*W) bZs.  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
KK@.~'d  
\U@rg4  
DY[$"8Kxcp  
fu~ +8CE.  
场追迹仿真 ;sHN/eF  
610D% F  
=]k {"?j  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 bXS:x  
•单击Go!
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Rp$}YN  
(Vo>e =q  
GguFo+YeZ  
场追迹结果(摄像机探测器) .!JVr"8  
N/GQt\tV<  
$+7`Dy!  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ,^S@EDq  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 q4V7  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 jM\*A#Jo5  
P6MRd/y |  
ne^imht  
u[{tb  
场追迹结果(电磁场探测器) Z}-Vf$O~  
@^uH`mc  
}.z&P'  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
Bn!$UUC  
bGorH=pb5R  
w |l1'   
文件信息 8/K!SpM*d  
Gt wT  
`c'W-O/  
$y b4xU  
g (#f:"  
QQ:2987619807 <7Ae-!>x  
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