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infotek 2021-05-19 10:06

高NA物镜聚焦的分析

摘要 G0/>8_Q>Nr  
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 dyO E6Ex  
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建模任务 )x[HuIRaa  
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概观 3e 73l  
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光线追迹仿真 c&m9)r~zP  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 |!}wF}iLc)  
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•点击Go! c3W BALdh  
•获得3D光线追迹结果。 >|nt2  
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光线追迹仿真 F. T@)7  
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&D*8l?A/1f  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 7"K^H]6u30  
•单击Go! ]| WA#8_|  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 $ S~%KsC  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 zo44^=~%  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) xiCN qk3  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 sOQcx\dK  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 RH~sbnZ)F  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 o(Kcs-W2  
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场追迹结果(电磁场探测器) Nf5WQTa4  
MA6P"?  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 1ktHN: ta  
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QQ:2987619807 kwF]TO S  
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