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infotek 2021-05-19 10:06

高NA物镜聚焦的分析

摘要 uidoz f2}  
-RI&uFqOI  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Be;l!]i  
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6v?tZ&, G  
建模任务 [[s^rC<d  
5J~@jPU  
P1_6:USBM  
概观 JCjV,  
<g$bM;6%  
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光线追迹仿真 Sc14F Fs  
x~?|bnM#3  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 b?,''t  
eNDc220b  
•点击Go! P" aw--f(  
•获得3D光线追迹结果。 Esdv+f}4;  
JD)wxoeg  
+8}8b_bgH  
M~U>" kX  
光线追迹仿真 \*mKctpz]6  
V~7Oa2'#B  
a(_3271  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 8;i'dF:)  
•单击Go! uoq|l  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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LIRL`xU7  
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场追迹仿真 %GigRA@no  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 b6^#{))"  
•单击Go!
)U+&XjK  
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场追迹结果(摄像机探测器) &ER,;^H `6  
V4. }wz_Y  
`aM8L  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 A}CpyRVCn  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 lj %k/u  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 &!? qSi~V  
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0E`6g6xMS  
H8$";T(I  
场追迹结果(电磁场探测器) Ip*[H#h  
trg&^{D<  
HE*P0Y f=  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
^ =RSoR  
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文件信息 0@2pw2{Ru  
G2hBJTW  
\?NT,t=3J  
* TR ~>|  
,E8~^\HV  
QQ:2987619807 bn8?-  
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