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infotek 2021-05-19 10:06

高NA物镜聚焦的分析

摘要 $dh4T";  
Th^(f@.w  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 guOSO@  
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建模任务 >*= =wlOB  
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概观 aM{@1m Bm  
n^AP"1l8?0  
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光线追迹仿真 FE+7X=y  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 XLZ j  
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•点击Go! T9z4W]T  
•获得3D光线追迹结果。 LG=X)w)W4S  
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tw'hh@7-Y  
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光线追迹仿真 R:w %2Y  
K85_>C%g  
&Y,Q>bu  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 bZ>&QM  
•单击Go! F!7f_m0=  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 la'e[t7  
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W|ReLM\  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 \Yj#2ww  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) <tFSF%vG=  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 %yiD~&  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。  *p=fi  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 [-\({<t3x  
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场追迹结果(电磁场探测器) pprejUR  
eOt%xTx  
KbAR_T1n  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 F.<L> G7{1  
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QQ:2987619807 HY;9?KJ'  
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