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infotek 2021-05-19 10:06

高NA物镜聚焦的分析

摘要 3S .2  
-H F1c  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 G/ H>M%M  
y[ZVi5) ,  
MxOIe|=&  
iUbcvF3aP  
建模任务 'w0?-  
+ B<7]\\M  
YpgO]\/w  
概观 j-d542"  
#+H3b!8=  
q'9;  
光线追迹仿真 jx'hxC'3  
^HU>fkSk  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 EMPujik-  
h.\p+Qw.  
•点击Go! 1,Jy+1G0w  
•获得3D光线追迹结果。 P{HR='2  
Gd`s01GKQ  
drvz [ 9;  
558!?kx$  
光线追迹仿真 &oE'|^G  
\E6 0  
kZ;Y/DH  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 dt0(04  
•单击Go! CDY3+!  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
[b3$em<^JV  
e5D\m g)  
Tv `&  
`a[ V_4wO  
场追迹仿真 hY/qMK5  
w4FYd  
<E:_9#Z0sc  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ( G~ME>  
•单击Go!
J\FLIw4  
nbW.x7  
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*to#ZMR;!  
场追迹结果(摄像机探测器) ZENblh8fs  
s )Xz}QPK.  
/z(d!0_q|v  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Q3'P<"u  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 5~$WSL?O)  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 Y-,S_59  
,4k3C#!. i  
vs>Pd |p;  
Ff d4c  
场追迹结果(电磁场探测器) 7q:;3;"9  
|WNI[49  
%0({ MU  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
Q[FDk63;w  
B`w8d[cL7  
M,cz7,  
文件信息 ;Ah eeq746  
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'3~m},0  
QQ:2987619807 '@zMZc!  
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