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2021-05-06 09:44 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 y eWB.M~X >k8FUf(c 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ]SL0Mn g8 |W*i'E
H'?dsc 概述 LLPbZ9q 8F/JOtkGMt zXGi •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 F/:Jp3@ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 6]fz;\DgP •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 N*'d]P2P`J S?u@3PyJm
;oWak`]f B`?5G\7L 衍射级次的效率和偏振 #T08H,W/ /=g$_m@yWI !h>aP4ofT •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 |g!3f •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 aH*5(E] •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 aK]H(F2# •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 6XI$ o,{ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 I2)#."=Ew
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nJL -GT&46hX 光栅结构参数 dReJ;x4 p* tAwl o,_R;'\E[a •此处探讨的是矩形光栅结构。 }o7"2hht •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 t{Z:N']H •因此,选择以下光栅参数: `Zd\d:Wyv - 光栅周期:250 nm
t&H3yV - 填充系数:0.5 nE=,=K~ - 光栅高度:200 nm Iz9b5 - 材料n1:熔融石英 G'(8/os{ - 材料n2:TiO2(来自目录) *V?p&/>MT AZfW
m!Fx# C]NL9Gq` 偏振状态分析 ,m1F<Pdts jn+BH3e M`tNYs]V •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。
f~w!Z •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 X^)vZL? •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 p>= b|Qy| xMHu:,ND
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~^ T[eb< 产生的极化状态 >%c7|\q[ R { !NXu
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VTJxVYE l G $s( 其他例子 =k:yBswi G$-[(eu- `R,g_{Mj •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 <L+y
6B •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Fm4)|5 i?B(I4a!G
S94S[j0D 1XJLGMW, 光栅结构参数 eKW^\ eWWfUNBSLX wOF";0EN •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ;Miag'7 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 =>X" •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 69$gPY'3 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 P;
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vY!'@W Xsd+5="{N 光栅#1
$M| tPaNhm[-q7
90UZ\{"> bz|-x"qk $HP<C>^Z8 •仅考虑此光栅。 # b94S?dq •假设侧壁表现出线性斜率。 +MyXIWmD •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 IM=3n%6 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 f]48>LRE8 ^]X\boWlI $u%7]]Y^\ 假设光栅参数: SYwB
#| •光栅周期:250 nm ,_z"3B)] •光栅高度:660 nm T.pc3+B8N •填充系数:0.75(底部) q}cm"lO$ •侧壁角度:±6° _m*FHi •n1:1.46 4x|\xg(
l •n2:2.08 T_Cj=>L
IIO-Jr 光栅#1结果 L)X[$: ,$(a,`s) tA{hx- •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 .>
5[; •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 X ;Cl8 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 )Y:C'*.r J=6(
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95* +'{d^-( ( 光栅#2 $LW8 vo7 `l0"4[?
A.cNOous| OE=.@Ry" sw+vyBV)r •同样,只考虑此光栅。 #AF.1;(k •假设光栅有一个矩形的形状。 7'.]fs: •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 S#*aB2ZS 假设光栅参数: s@(ME1j(U! •光栅周期:250 nm N2.Ym;^ •光栅高度:490 nm i,!t u •填充因子:0.5 odKdpa
Zc[ •n1:1.46 Mb=j'H<N@ •n2:2.08 8 `}I] eS/Au[wS 光栅#2结果 %r]V:d+ vP'#x R\-]t{t` •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 22@w: •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 s'/ZtH6>C •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 ou=33}uO O96%U$W
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