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infotek 2021-05-06 09:44

衍射级次偏振状态的研究

摘要 Rg<y8~|'}  
eznw05U  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 *Au4q<   
82Nh;5T r  
o; 6\  
概述 0KnlomuH2  
$ePAsJ  
Mp?Ev.  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 L|S#(0  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 "vH@b_>9|  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 _.J{U0N  
(Z)  
CY)Wuv ^  
@`k!7? Sq  
衍射级次的效率和偏振
^o!K0 t*  
h(d<':|  
M^r1b1tR  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 CcgCKT  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 QYVT"$=  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 x_v pds  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 " FcA:7+  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ~yt+xWV  
$]\N/}1v  
7R<<}dA]  
光栅结构参数 4xT(Uj  
A[XEbfDO  
 tAP~  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 /,2Em>  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 )oG_x{  
•因此,选择以下光栅参数: I6YN&9Y  
- 光栅周期:250 nm ," :ADO-  
- 填充系数:0.5 )eY3[>`  
- 光栅高度:200 nm NJs )2  
- 材料n1:熔融石英 )Y Qtrc\91  
- 材料n2:TiO2(来自目录) W)<us?5Ec5  
nXb;&n%  
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\4~uop,Nb+  
偏振状态分析 `P)atQ  
m]=|%a6  
&Dqg<U  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 u` `FD  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 a[xEN7L~4D  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 /JtKn*?}:>  
_4owxYSDke  
50l=B]M  
Pf]6'?kQ  
产生的极化状态 V\PGk<VO  
D"bLJ j/!  
7>wSbAR<  
KxGK`'E'r  
,;O+2TX  
其他例子 Ts|&_|  
9FX'Uws  
u <%,Ql  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 wB?;3lTS  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 #`<|W5  
6@ET3v  
:I+%v  
G7M:LcX  
光栅结构参数 mj%Iow.  
`+\ +  
+*DXzVC  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 %S]5wR6;_  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ?X]7jH<iw;  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 U:#9!J?41  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 (JL{X`gs#  
}PK8[N  
3E+u)f lmB  
光栅#1 @Ej{sC!0T  
nr! kx)j  
Fj7cI +  
SH<Nt[8C  
Hp8)-eT  
•仅考虑此光栅。 BQ)zm  
•假设侧壁表现出线性斜率。 RnIL>Akp  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 v5;c} n  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 yw{GO([ZQ  
_Sosw|A  
b9%hzD,MR  
假设光栅参数: rKg5?.  
•光栅周期:250 nm Z<0M_q9?MO  
•光栅高度:660 nm bEMD2ABm  
•填充系数:0.75(底部) Ih{(d O;  
•侧壁角度:±6° bfQ+}|;  
•n1:1.46 `(q+@#)  
•n2:2.08 vO&%sjvH  
K`M8[ %S  
光栅#1结果 =CFO]9  
Oq|RMl  
>TeTa l  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 @tM1e<  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 4@.qM6 \\q  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
lN<vu#  
DKPX_::  
NJI-8qTGI  
^}a..@|%W  
光栅#2 BB.^-0up  
fx_7X15  
kbN2dL  
_Qt  
2!QJa=  
•同样,只考虑此光栅。 :3gtc/pt>  
•假设光栅有一个矩形的形状。 -S"YEH9  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 yrSmI)&%  
假设光栅参数: D8m1:kU  
•光栅周期:250 nm 0B>hVaj>-  
•光栅高度:490 nm 7YV}F9h4  
•填充因子:0.5 Ovxs+mQ  
•n1:1.46 "iMuA  
•n2:2.08
sy.FMy+  
`+CRUdr  
光栅#2结果 /vYuwaWG=  
Rp^k D ,*  
8doKB<#_+=  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 %?Yf!)owh  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 j2#RO>`,I  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 D|9xD  
p9 <XaJ}   
Sb+^~M  
文件信息 :XC~G&HuF6  
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mSm:>hBd  
QQ:2987619807 }^ +E S^~  
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