| infotek |
2021-05-06 09:44 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 hpYv*WH: .mcohfR 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 +XW1,ly~ Gm \)1b
+U%epq 概述 @&%/<|4P5 %4t?X QDVSFGwr •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 _HjB'XNr( •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Sw$/Z)1K& •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 H q?F @X cIa`pU,6A
g0 ;;+z EwgNd Gcj 衍射级次的效率和偏振 pGF;,h> bj0<A GoH.0eQ^ •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 5wE6 gRJ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 O '`|(L •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 Da!vGr •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 8 nqF i •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 -dN`Ok<g
59v=\; UI (Q
^=^s| 光栅结构参数 6c27X/'Z [;4ak)! Z#[%JUYp' •此处探讨的是矩形光栅结构。 k6GQH@y! •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 0;,Y_61
•因此,选择以下光栅参数: HZS.%+2 - 光栅周期:250 nm m^0 I3; - 填充系数:0.5 +
65<|0 - 光栅高度:200 nm k`]76C7 - 材料n1:熔融石英 k6Vs#K7a - 材料n2:TiO2(来自目录) 20}]b*C} gkq~0/
UEm4):/} h.Sbds 偏振状态分析 .i*ja* -em3 #V B6\/xKmv?8 •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 eb,QT\/G •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 R$MR| •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 IM[=]j.? rq1~%S
vl|3WYA <5CQ#^cK 产生的极化状态 66+]D4(k ?Iaqbt%2
*tkf)[(
0tMzVxS ,'l.u?SKyd 其他例子 h\Zh^B6J 3=UufI <8Z%'C6d •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 =FFs8&PKys •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ^BI&-bR@ ]x3 )OjH
OT)`)PZ" CaoQPb* 光栅结构参数
S=~+e{ |Z Cv>8?n "e29j'u!* •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Tilr%D(Q •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Q-U,1b •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ~IQjQz? •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 =aehhs>
v57Kr , MUN:}S 光栅#1 *\Hut'7 d y G>sBc
J=n^&y I&x69 -r0oO~KT •仅考虑此光栅。 xlW>3'uHfa •假设侧壁表现出线性斜率。 H"2,Q
T •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 VrFI5_M/ •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 o%Qn%gaX F#efs6{ D[Ld=e8t 假设光栅参数: ^^)\|kW? •光栅周期:250 nm 6(HJYa •光栅高度:660 nm qZSW5lC0 •填充系数:0.75(底部) 9AQ2FD •侧壁角度:±6° WS$~o*Z8 •n1:1.46 =E8Kacu% •n2:2.08 z&[[4[ I]ol[
X0S 光栅#1结果 8@I.\u)0 yXc@i)9w3 Y[fbmn^ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 a.AEF P4N •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 y? 65*lUl •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 h6(L22Hn WJ]g7!Ks
w;^7FuBaC Cd7d-'EQn 光栅#2 UgLJV2M6 ;V1e>?3
rB5+~
K@ u+e.{Z! ~bJ*LM?wOP •同样,只考虑此光栅。 R
)e^H •假设光栅有一个矩形的形状。 CB?H`R pC. •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 y]f| U-f:~ 假设光栅参数: BRMR>
~k( •光栅周期:250 nm ^kpu9H •光栅高度:490 nm <3Hu(Jx<O •填充因子:0.5 =t-503e.J •n1:1.46 JTB5#S4W •n2:2.08 ]dIr;x` K3t^y`z 光栅#2结果 zL3'',Ha S-+^L| 1YMu\( •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 bwh.ekf8 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 GQ9g $&T •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 ;q$O^r~ (wIpq<%
\6${Na'\ 文件信息 e: :H1V nEm+cHHo?
Ws`P(WHm }KHdlhD W;C41>^?/ QQ:2987619807 1jozM"H7Q
|
|