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2021-05-06 09:44 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 h.K"v5I* L~PiDQr?r 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 yJ!26 !$l<'K$
O W.CU=XU 概述 ]8%E'd 2+y wy^ }i^M<A O •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 )zO|m7 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ?S&
yF •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ,Gv}N& 7NRa&W2
W)ug%@ ) r1
:TM|5L 衍射级次的效率和偏振 h^rG5Q @>(JC]HtR <|k :% •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ~"%'(j_4 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 !B Pm{_C •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 C _he=SV •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 uT=r*p(v •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 })]
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<k8WnA ~Fl =LLpJ+ 光栅结构参数 fLs>|Rh Vq0X:<9 F-ZTy"z •此处探讨的是矩形光栅结构。 ffk>IOH •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 {wM<i •因此,选择以下光栅参数: v`mB82s - 光栅周期:250 nm %1p-DX6 - 填充系数:0.5 Xbmsq,*] - 光栅高度:200 nm \2+ngq) - 材料n1:熔融石英 8!35
K - 材料n2:TiO2(来自目录) rNhS\1- wg[
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mg:kVS vKW!;U9~P 偏振状态分析 <EqS
,cO^ K?,?.!ev Jq)k5X>&Sj •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 H HX q_-V •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 *2/qm:gB •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Qa/1*Mb aJv+BX_,
\YJQN3^46> +a,#BSt 产生的极化状态 wM[Z 0*K ^!
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"Ia.$,k9
bx2<WdLyT PdVY tK% 其他例子 pvl];w 6H2Bf*i |8{ k,!P'K •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 mEYfsO •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 D"$ 97 c/.s`hz
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\m=7 WYRC_U7 光栅结构参数 4E=QO!pVv S=S/]]e o_=4Ex
" •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ?A\+s,9 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 +fM8 •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Jm)7!W%3 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。
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m["e7>9G AXxyB"7A} 光栅#1 d]K8*a%[- MV3K'<Y
\s)$[pAF Pbbi*&i J*K=tA •仅考虑此光栅。 cV1E<CM •假设侧壁表现出线性斜率。
,_V/W' •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 (qR;6l •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 <i]-.>&J pk'd&. )(.g~Q: 假设光栅参数: +8"8s •光栅周期:250 nm 4gEw}WiP •光栅高度:660 nm P()n=&XO6 •填充系数:0.75(底部) .PT7 •侧壁角度:±6° ?Qd`Vlp7 •n1:1.46 7Q'u>o •n2:2.08 pUmT?N! /g%RIzgW 光栅#1结果 NMg(tmh !s$1C=z5u ^vV AuO •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 /EQ^-4yr •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 CD#U`jf •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 CUc , FeZW S>N
"ivVIq2 s!D?% 光栅#2 z*b|N45O -;8 a* F
8kd):gZKZ ~ [/jk !G *'-C/ •同样,只考虑此光栅。 Z
s|*+[ •假设光栅有一个矩形的形状。 F#Pn] •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 4/\Ynb.L 假设光栅参数: o[JZ>nm •光栅周期:250 nm *j <#5=l •光栅高度:490 nm X-bM`7'H •填充因子:0.5 J^DyhCs •n1:1.46 n/BoK6g •n2:2.08 bx6=LK H,EZ%
Gl 光栅#2结果 pwSkw J] w .M 2RqV\Jik •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 rK;<-RE<[: •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 yO\bVu5V •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 f2KH&j>~r h?ijZHG $
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