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2021-05-06 09:44 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 t>[KVVg
W ZAXN6h 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 mD/MJt5 &w1P\4?G
$n^gmhp 概述 'FS?a `IY/9'vT l!g]a2x* •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ~R@Nd~L •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 }eRD|1 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 T9879[ZU\ [mPjP%{=@
A21N|$[ R]i7 $}n 衍射级次的效率和偏振 |H!9fZO ^J\~XYg{7 mI>,.&eo •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 6l4mS~/ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 FTeu~<KpM •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 hjQ~uqbg •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 r{rQu-|. •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ^*fxR]Y
,-OCc!7K al[n,u 光栅结构参数 Yp:KI7 jvQ*t_L zD?K>I = •此处探讨的是矩形光栅结构。 >~Qr •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 _Y[jyD1> •因此,选择以下光栅参数: Kk{<@v) - 光栅周期:250 nm VV9_`myN7 - 填充系数:0.5 wWp(yvz - 光栅高度:200 nm XZ5 /=z - 材料n1:熔融石英 wX*K]VMn - 材料n2:TiO2(来自目录) +tD[9b!
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?Oc{bF7 3dDX8M? 偏振状态分析 %:2+
o' UAyC.$! >(snII •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 r]0
lo- •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 YLVPAODY •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。
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]7rj/l$u Q8_ d)t| 产生的极化状态 oy;K_9\ QzAK##9bfa
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%.z,+Zz? HdLH2+|P;D 其他例子 BY]i;GVq ,do58i
K ''kS*3 •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 41_SRh7N •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 |qoKO:B4-[ "hQ_sgz[Z
.m`y><.5 Tdc3_<1 光栅结构参数 mB\C?=_ 0Ld@H) !L95^g •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ]K*8O< •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 W'on$mB5< •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ,p9i% i •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ZKdeB3D
&V)6!,rb 0n/gd"M 光栅#1 5H9r=a g(|6~}|o+
.uE Pnzi aBzszp]l+ ^`D=GF^tX •仅考虑此光栅。 aIXdV2QS •假设侧壁表现出线性斜率。 Nlj^Dm •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 tM#lFmdd\P •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ^Eo=W/
$ F S_E {bPV)RL: 假设光栅参数: NOS>8sy •光栅周期:250 nm w%zRHf8C •光栅高度:660 nm aSP4a+\* •填充系数:0.75(底部) |G/7_+J6 •侧壁角度:±6° efY8M2 •n1:1.46 O,.!2wVrN •n2:2.08 Mzd[fR5a8 z7-k`(l4 光栅#1结果 Bu]t*$ 1R.4:Dn_ y4Er@8I` •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 S:61vD •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Oi} T2I •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 <A.W 8b7D ++Ww88820
.6~`Ubr}E /xJqJ_70X 光栅#2 }!i` 0p gf+d!c(/
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'\SfW< •同样,只考虑此光栅。 Ac|5. ?|N •假设光栅有一个矩形的形状。 LG]3hz9^9 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ]P[%Mhg^ 假设光栅参数: yE} dj)wd •光栅周期:250 nm Hk7K`9 •光栅高度:490 nm _P?\.W@ •填充因子:0.5 fj ,m •n1:1.46 pA4*bO+ •n2:2.08 q_Lo3|t i KTEZ4K^o= 光栅#2结果 jtm?z c drq hQ ir3VTqz •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。
>`jU`bR@ •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 19q{6X`x •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 H@uE> rx :z#"?I
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