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infotek 2021-05-06 09:44

衍射级次偏振状态的研究

摘要 vE)d0l"  
P ?96;  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 j 20m Z  
9*Fc+/  
l{VJaZ $M  
概述 F=f9##Y?7M  
s?fEorG  
85Kf>z::c  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 W .Al\!Gi  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Ik@MIxLK  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 - s2Yhf  
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O* )BJOPa  
|/Y!R>El  
衍射级次的效率和偏振
iR8;^C.aT  
;<%d^   
T b*Q4:r"  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 2uMSeSx$  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 A2Iqn5  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 .TNJuuO  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Nov An+  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 8^R~qpg%  
#vViEBVeN  
Jq+@%#G  
光栅结构参数 Xob(4  
f9'dZ}B  
%;J$ h^  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 Yi19VU|/  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 h*sL' fJ]  
•因此,选择以下光栅参数: 5j _[z|W2  
- 光栅周期:250 nm maV*+!\  
- 填充系数:0.5 .e}`n)z  
- 光栅高度:200 nm \tdYTb.  
- 材料n1:熔融石英 ;)sC{ "Jb  
- 材料n2:TiO2(来自目录) B<~BX [  
clM6R  
gV'=u z v  
P%<MQg|k`  
偏振状态分析 q@Zeu\T,*#  
("=24R=a  
18y'#<X!  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 lvUWs  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 "<"s&ws;k  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 2,.8 oa(  
j"&Oa&SH  
7qdB   
Su'l &]  
产生的极化状态 Tcq@Q$H  
&*~_ "WyU  
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'jKCAU5/0;  
2V$YZSw6q  
其他例子 .;&4'ga4  
'/X m%S  
=':B  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 _ n4C~  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 mf2Qu  
}jg,[jw_"X  
Qaiqx"x3  
/)r[}C0   
光栅结构参数 {65_k  
a3:1`c/~\  
quFNPdP  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 A.<M*[{q  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 &3P"l.j  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 )U{IQE;T#  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 IY|>'}UU#  
VJtRL')  
e ,A9N%M  
光栅#1 U#4>GO;A  
nB%[\LtZ?  
~B`H5#  
Lx3`.F\mG  
H7Pw>Ta ;  
•仅考虑此光栅。 No]#RvEd3  
•假设侧壁表现出线性斜率。 zBqNE`  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Z'c9xvy5  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 h9+ 7 6  
YKa9]Q  
+)7h)uq  
假设光栅参数: qn` \g  
•光栅周期:250 nm qvRs1yr?q  
•光栅高度:660 nm G\*`%B_ n  
•填充系数:0.75(底部) 8b+%:eJ  
•侧壁角度:±6° l D]?9K29  
•n1:1.46 `(@{t:L  
•n2:2.08 >+*lG>!z  
-4S4I  
光栅#1结果 8|rlP  
D*)"?L G  
v0+$d\mP4<  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 `W4Is~VVv  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 h ?+vH{}j  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
aOW$H:b  
qWI8 >my11  
>):>Pz%U  
MNKY J  
光栅#2 "%+9p6/  
e41r!od  
Njs'v;-K  
\-:4TuU  
VqdR  
•同样,只考虑此光栅。 eo4v[V&  
•假设光栅有一个矩形的形状。 q_0,KOGW  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 P".rm0@R  
假设光栅参数: O4,? C)  
•光栅周期:250 nm *g 2N&U  
•光栅高度:490 nm 'k9 1;T[  
•填充因子:0.5 (EOYJHZB!  
•n1:1.46 0u ,nSvch  
•n2:2.08
 lmB+S  
x]|-2t  
光栅#2结果 h=ko_/<  
9 H~OC8R:  
`qj24ehc  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 fMRMQR=6B  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 f_tC:T4a  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 &fgfCZz'  
bH_zWk  
e}W|wJ):j@  
文件信息 +L#Q3}=s  
6 Y}Bza  
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QQ:2987619807 [!b=A:@  
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