| infotek |
2021-05-06 09:44 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 WtZI1`\qe siI%6Gn; 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 -O\i^?lD; HdxP:s.T
`K5*Fjx 概述 xrvM}Il ?110} [jw $O*@Jg= •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 D {Ol8: •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 g=4^u* •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 M{5AQzvs -MS#YcsV
"&k(lQ4 seEo)m`d 衍射级次的效率和偏振 MBg[hu% <7Pp98si,u J?3/L&seA •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 _Z[0:4 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 <EUR: •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 h*l$!nEN •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 a)ry}E =f •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 z4SJxL
V_gKl;Kfe8 A_9^S! 光栅结构参数 D`WRy}o e9[72V "QdK
Md •此处探讨的是矩形光栅结构。 ,J|,wNDU!K •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 * $f`ouJl •因此,选择以下光栅参数: XJe=+_K9 - 光栅周期:250 nm @/<UhnI - 填充系数:0.5 viAAb - 光栅高度:200 nm ~)ys,Q - 材料n1:熔融石英 h[]9F.[ - 材料n2:TiO2(来自目录) `RnWh9 WChP,hw
ElQ?|HsQ6p j-ej7 偏振状态分析 NV4g5)D&L nf
/*n y,nmPX?]n •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 y+ze`pL? •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ]Orx%8QS! •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Os"('@jd> Y}c/wF7o
C")genMH 2DW@}[G 产生的极化状态 g Y~r{ YGyv)\
{Uw
0zC
tz@MZs09 k3#'g'>yh 其他例子 X@`a_XAfd KRaL+A q;'f3Y •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 >u$8Z •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 s7Agr!>f 4 ThFC
/IpCo
*V6|
FU 光栅结构参数 uNzc,OH 0\%g@j-aD R_PF*q2 ' •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 {.:$F3T •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Z4VFfGCTL •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 sW[-qPK< •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 &$
h~Q
B3#G GDxv2^4 光栅#1 W" 5nS =d% [r/zBF-.
T`EV
uRJ `$T$483/ 7{|QkTg C •仅考虑此光栅。 )dT@0Ys% •假设侧壁表现出线性斜率。 !ZBtXt#P •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 j!u)V1, •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 kTvM,< ~Bzzu %S n"(!v7YNp 假设光栅参数: [*',pG •光栅周期:250 nm q\Y4v Wg •光栅高度:660 nm UD.bb •填充系数:0.75(底部) Jxe+LG •侧壁角度:±6° c$g@3gL •n1:1.46 A'|!O:s
•n2:2.08 W7>2&$ 3'4+3Xo 光栅#1结果 4V,.Oi S0,\{j
qyH-Z@ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 k +-w% •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 `geHSx_ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 TekUY m!G ?E([Nc0T
xVm-4gB A l U^,X 光栅#2 z5>I9R^q; V'vR(Wx
O`5,L[i1y
.Bm% m@4Dz| •同样,只考虑此光栅。 j6rN t| •假设光栅有一个矩形的形状。 6Z2 ,:j; •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 q-F
K=r 5 假设光栅参数: pO`KtagL •光栅周期:250 nm b^1QyX^?: •光栅高度:490 nm 2B,O/3y •填充因子:0.5 &k}f"TX2 •n1:1.46 % MHb •n2:2.08 Kgbm/L0XR* oUv26t~ 光栅#2结果 (j:
ptQ2$ Wlj&_~ Rr)+M3' •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 @YJI'Hf67 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 `9~
%6N?7# •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 .w2 ID 4QL>LK
G.W ! 文件信息 1\.$=N ^t;z;.g
F@w; .e! "W|A^@r} }Mcb\+[ QQ:2987619807 _fGTTw(
|
|