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infotek 2021-05-06 09:44

衍射级次偏振状态的研究

摘要 ,,%:vK+V  
9zYiG3 d  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 /1~|jmi(  
,M.!z@  
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概述 )kKmgtj  
P3tG#cJ  
]/Yy-T#@  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 An #Hb=  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 8<g#$(a_E  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ^y0C5Bl;  
E8_Le  
4:&qT Y)H  
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衍射级次的效率和偏振
a`b zFu{  
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}?]yxa~  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 uO@3vY',n  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 IAF;mv}'  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 rp @  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 B$TChc3B  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 S=H_9io  
15KV} ){  
M*|VLOo=v  
光栅结构参数 1i/::4=  
,ah*!Zm.kk  
<2O7R}j7v  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 $.Q>M]xH  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 u}}9j&^Xa  
•因此,选择以下光栅参数: guOSO@  
- 光栅周期:250 nm (y~laW!  
- 填充系数:0.5 =v4r M0m,  
- 光栅高度:200 nm a=*ALd_&0  
- 材料n1:熔融石英 mPfUJ#rS  
- 材料n2:TiO2(来自目录) poQdI?ed,  
+ sywgb)  
 S2&9# 6  
hzQ+9-qA  
偏振状态分析 {[,Wn:  
8VuZ,!WH#  
)?B~64N,+  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 B3 dA%\'  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 aM{@1m Bm  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 UV']NH h  
FL`1yD^2  
Z.:<TrN  
slge+xq\J  
产生的极化状态 -jxWlO  
B)rr7B  
Wm)-zvNY;  
cZe'!CQS  
n{64g+  
其他例子 au~]  
0L:V#y-*  
*M wfod  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 )WVItqQKV  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 E7gHi$  
tE]5@b,R  
mQJ4;BJw  
#9$V 08  
光栅结构参数 QB/7/PW{H\  
$N;"}G z  
$ZI~8rI~  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 2cCWQ"_,  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ADYx.8M|9i  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 4= Tpi`  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 5pRY&6So  
s(AJkO'`  
(Qk&g"I  
光栅#1 731h ~x!u  
b JfD\  
bQwdgc),s{  
.3{[_iTM  
3P//H8 8LY  
•仅考虑此光栅。 dD/t_ {h  
•假设侧壁表现出线性斜率。 uxa=KM1H  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 '7xxCj/*  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 %K h2E2Pe  
:be:-b%K  
(2z%U  
假设光栅参数: atY *8I|  
•光栅周期:250 nm /Hv* K&}M  
•光栅高度:660 nm (8CCesy&  
•填充系数:0.75(底部) [_WI8~g Y  
•侧壁角度:±6° cMDRWh  
•n1:1.46 $sEB'>:  
•n2:2.08 \ Y*h  
HEBqv+bG  
光栅#1结果 jg[5UTkcs  
f.| |PH  
dgS4w@)@V;  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 9i0M/vx  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 nQ5N=l  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
Ovv ny$  
|d $1wr  
/61by$E  
Hqvc7-c6  
光栅#2 Yeqvv  
7}Bj|]b)~  
[%)@|^hw91  
bxAsV/j  
hUVk54~l  
•同样,只考虑此光栅。 @l'G[jN5  
•假设光栅有一个矩形的形状。 "H>.':c"+3  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 {3hqp*xl  
假设光栅参数: qAqoZMpI|;  
•光栅周期:250 nm dM Y 0K  
•光栅高度:490 nm Iz#yQ`  
•填充因子:0.5 VCjq3/[_  
•n1:1.46 #(6) ^ (  
•n2:2.08
}2l O _i}L  
2B-.}OJ  
光栅#2结果 *B1x`=  
-'6<   
ejVdxVr\7  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 0<g<GQ(E  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 4otl_l(`yv  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 MY!q%  
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文件信息 {LP b))  
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