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infotek 2021-05-06 09:44

衍射级次偏振状态的研究

摘要 WtZI1`\qe  
siI%6Gn;  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 -O\i^?lD;  
HdxP:s.T  
`K5*Fjx  
概述 xrvM}Il  
?110} [jw  
$O*@Jg=  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 D {Ol8:  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 g=4^u*  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 M{5AQzvs  
-MS#YcsV  
 "&k(lQ4  
seEo)m`d  
衍射级次的效率和偏振
MBg[hu%  
<7Pp98si,u  
J?3/L&seA  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 _Z[0:4  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。  <EU R:  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 h*l$!nEN  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 a)ry}E =f  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 z4SJxL  
V_gKl;Kfe8  
A_9^S!  
光栅结构参数 D`WRy}o  
e9[72V  
"QdK Md  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 ,J|,wNDU!K  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 * $f`ouJl  
•因此,选择以下光栅参数: XJe=+_K9  
- 光栅周期:250 nm @/<UhnI  
- 填充系数:0.5  viAAb  
- 光栅高度:200 nm ~)ys,Q  
- 材料n1:熔融石英 h[]9F.[  
- 材料n2:TiO2(来自目录) `RnWh9  
WChP,hw  
ElQ?|HsQ6p  
j-ej7  
偏振状态分析 NV4g5)D&L  
nf /*n  
y,nmPX?]n  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 y+ze`pL?  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ]Orx %8QS!  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Os"('@jd>  
Y}c/wF7o  
C")genMH  
2 DW @}[G  
产生的极化状态 gY~r{  
YGyv)\  
{Uw 0zC  
tz@MZs09  
k3#'g'>yh  
其他例子 X@`a_XAfd  
KR aL+A  
q ;'f3Y  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 >u$8Z  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 s7Agr!>f  
4 ThFC  
/IpCo  
*V6| FU  
光栅结构参数 uNzc,OH  
0\%g@j-aD  
R_PF*q2 '  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 {.:$F3T  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Z4VFfGCTL  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 sW[-qPK<  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 &$ h~Q  
B3#G  
GDxv2^4  
光栅#1 W" 5nS =d%  
[r/zBF-.  
T`EV uRJ  
`$T$483/  
7{|QkTgC  
•仅考虑此光栅。 )dT@0Ys%  
•假设侧壁表现出线性斜率。 !ZBtXt#P  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 j!u)V1,  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 kTvM,<  
~Bzzu % S  
n"(!v7YNp  
假设光栅参数: [*',pG  
•光栅周期:250 nm q\Y4vWg  
•光栅高度:660 nm UD.b b  
•填充系数:0.75(底部) Jxe+LG  
•侧壁角度:±6° c$g@3gL  
•n1:1.46 A'|!O:s   
•n2:2.08 W7>2&$  
3'4+3Xo  
光栅#1结果 4V,.Oi  
S0,\{j  
qyH -Z@  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 k +-w%  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 `geHSx_  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
TekUY m!G  
?E([Nc0T  
xVm-4gB  
A lU^ ,X  
光栅#2 z5>I9R^q;  
V'vR(Wx  
O`5,L[i1y  
.Bm%  
m@4Dz|  
•同样,只考虑此光栅。 j6rNt|  
•假设光栅有一个矩形的形状。 6Z2,:j;  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 q-F K=r 5  
假设光栅参数: pO` KtagL  
•光栅周期:250 nm b^1QyX^?:  
•光栅高度:490 nm 2B,O/3y  
•填充因子:0.5 &k }f"TX2  
•n1:1.46 %MHb  
•n2:2.08
Kgbm/L0XR*  
oUv26t~  
光栅#2结果 (j: ptQ2$  
Wl j&_~  
Rr )+M3'  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 @YJI'Hf67  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 `9~ %6N?7#  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 .w2ID  
4QL>LK  
G.W !   
文件信息 1\.$=N  
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F@w; .e!  
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QQ:2987619807 _fGTTw(  
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