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infotek 2021-05-06 09:44

衍射级次偏振状态的研究

摘要 p=dM2>  
XNkZ^3mq  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 U1pwk[  
vn.j>;E'  
K^[Dz\ov5  
概述 %xwtG:IKEV  
d?jzh 1  
e~G um  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 4#D>]AX  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 hx!hI1   
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 xU;Q ~(  
$G#)D^-5G  
8^qLGUxz  
a_Z[@W  
衍射级次的效率和偏振
ByW,YKMy  
e8hwXz  
tzG.)Uqs  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 a q]bF%7  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 wGx*Xy1n<  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 X8   
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 'zx1kq1  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 oedLe9!  
Ehg(xK  
ka| 8 _C^z  
光栅结构参数 b^&nr[DC  
Kfs|KIQ>=  
^r^)  &]  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 V?-OI>  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 K7] +. f  
•因此,选择以下光栅参数: 3/RNStd<L!  
- 光栅周期:250 nm 1|H(q  
- 填充系数:0.5 Xs$UpQo  
- 光栅高度:200 nm '>dx~v %  
- 材料n1:熔融石英  uzaD K  
- 材料n2:TiO2(来自目录) ? VHOh9|AT  
oGqbk x  
oz/Nx{bg  
2!g7F`/B  
偏振状态分析 kTS #>uS  
3W"l}.&ZJ"  
qku!Mg  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 >vc$3%L[$  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 94 GF8P  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Y #6G&)M  
.L))EB  
y[I)hSD=  
hd_<J]C  
产生的极化状态 oC1Nfc+  
U9:I"f,  
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5YnTGf&  
ibQN pIz  
其他例子 q;=!=aRg  
QX|y};7\e  
H+F>#  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Q*8=^[x  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 "/qm,$  
*_!}g ]  
o@A|Lm.   
)~H&YINhn  
光栅结构参数 nx'Yevi0$  
[W*Q~Wvp  
~SR9*<  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 hSF4-Vvb  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 y#)ad\  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 [}Pi $at  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 h YEUiQ  
zJX _EO  
Q,< V)  
光栅#1 U@<]>.$  
yZw5?{g@  
CKr5L  
CH+mzy  
/O&{fo  
•仅考虑此光栅。 k{-#2Qz  
•假设侧壁表现出线性斜率。 \9`76*X6 c  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 s2t9+ZA+s  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 +/4wioGm  
R.$1aqA}  
]c~W$h+F  
假设光栅参数: 6Us*zKgW  
•光栅周期:250 nm r`5svY  
•光栅高度:660 nm 5!*@gn  
•填充系数:0.75(底部) :DoE_  
•侧壁角度:±6° mo  
•n1:1.46 )H| cri~D  
•n2:2.08 II) K0<  
Dwg_#GSr  
光栅#1结果 l[u=_uaYl  
=dDr:Y<@*  
A#KfG1K>  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 $fFh4O4  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 #d;/Me  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
/YHAU5N/}  
1%`Nu ]D  
s{ dgUX  
A8U\/GP  
光栅#2 ~x6<A\  
Ge+T[  
f S-PM3  
^g N/5  
;<N%D=;}@  
•同样,只考虑此光栅。 \ _l4li  
•假设光栅有一个矩形的形状。 iWp 6^g  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 :hFKmoy#  
假设光栅参数: @M&qH[tK-A  
•光栅周期:250 nm p4^&G/'  
•光栅高度:490 nm (L'|n *Cr  
•填充因子:0.5 _(:<l Y aY  
•n1:1.46 r2G38/K  
•n2:2.08
0AD8X+M{P  
8KMo!p\i  
光栅#2结果 nN5fP<H2x  
$L"h|>b\o  
kY^ k*-v  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 CRs@x` 5ue  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 FW)VyVFmk  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 p-XO4Pc 6  
Ge1b_?L_  
OWT|F0.1$k  
文件信息 Jp"yb`w  
{@ Z=b 5/P  
zyP9 n[eZ  
Fxv5kho  
2Og<e|  
QQ:2987619807 i !;9A6D  
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