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infotek 2021-05-06 09:44

衍射级次偏振状态的研究

摘要 Hn >VPz+I  
a~Dk@>+P>  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 $e1.y b%  
_Q:z -si  
g$]WKy(D  
概述 B*_K}5UO  
x8aOXN#w}  
?OW!D?  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 UvGxA[~2+  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 3qTr|8`s  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 8XJi}YPQ  
A+^okT37r  
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衍射级次的效率和偏振
(F^R9G|  
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j7)mC4o:%  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 U[MeK)*  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 %|JiFDjp  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 Sm<*TH!\n_  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 (zFqb,P  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 dnomnY(*<  
i&m_G5u88  
hDi~{rbmc  
光栅结构参数 e".=E ;o`  
%|e)s_%XE  
WzstO}?P(  
•此处探讨的是矩形光栅结构。  @_f^AQ  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 .X%J}c$  
•因此,选择以下光栅参数: * EGzFXa  
- 光栅周期:250 nm (o*YGYC  
- 填充系数:0.5 PP{ 9Y Vr  
- 光栅高度:200 nm 7tWC<#  
- 材料n1:熔融石英 A:Wr5`FJ  
- 材料n2:TiO2(来自目录) HnArj_E  
0U~$u  
)Zr\W3yWX  
e_e\Ie/pDc  
偏振状态分析 _{c_z*rM8  
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•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 7SS#V  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ef^GJTv&k  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ]7}!3m  
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产生的极化状态 |` ~ioF  
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Bc.de&Bxz_  
"LlQl3"=  
其他例子 *-PjcF}Y  
KO=$Hr?f;  
lv=q( &  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 g;=VuQuP|  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 [ne51F5_  
FWJ**J  
3v\P6  
"<+~uz  
光栅结构参数 %d];h  
- (WH+  
('J@GTe@xj  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 AE>W$x8P  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 wr"0+J7  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 @Pk<3.S0  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 iS,l  
U2m#BMV  
ymxA<bICS8  
光栅#1 dJ I }uQ  
Y f!Oo  
eMnK@J  
HhQ0>  
ZN#b5I2Pf  
•仅考虑此光栅。 Lo'pNJH;$  
•假设侧壁表现出线性斜率。 2c]"*Pb  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 _?H3*!>3  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 SbGdcCB  
H;4QuB'^  
2j8GJU/L  
假设光栅参数: &PE%tm  
•光栅周期:250 nm Rm=p}  
•光栅高度:660 nm JrOx nxd^  
•填充系数:0.75(底部) OiQf=Uz\  
•侧壁角度:±6° 1l$ C3c  
•n1:1.46 iOg4(SPci  
•n2:2.08 "W"^0To  
z(LR!hr  
光栅#1结果 ,i6E L  
OUUV8K  
J{b#X"i  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 PolJo?HZ  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 U\Vg&"P  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
53{\H&q  
9oJM?&i  
Mu>  
A .&c>{B7  
光栅#2 nSyLt6zn\  
~Pw9[ycn3  
S?b&4\:  
2>9\o]ac4  
N_NN0  
•同样,只考虑此光栅。 Y M:9m)  
•假设光栅有一个矩形的形状。 `B@eeXa;u  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 rQ{|0+l  
假设光栅参数: ~'%d]s+q  
•光栅周期:250 nm Lbrl CB+  
•光栅高度:490 nm 4,LS08&gh  
•填充因子:0.5 _jG|kjFTc  
•n1:1.46 AB/${RGf+  
•n2:2.08
 bUS:c 2"  
k)-+ZmMOh  
光栅#2结果 se %#U40*  
)&_bY~P  
LHA^uuBN}  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 d.+  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 B1_9l3RM  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 x t-s"A  
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文件信息 e2 c'Wab  
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QQ:2987619807 b\ED<'  
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