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2021-05-06 09:44 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 \bSakh71 f`J[u!Ja 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 DqH]F S?] \Zk<|T61$
,l)AYu!q4F 概述 xNVSWi, .fzns20u xUs1-O1i •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 'xOH~RlE •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 \ ]h$8JwV •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 P_N},Xry {2&MyxV
1$c[G}h ^[ > 衍射级次的效率和偏振 oW/H8 q<wY TsRbIq[
du=[ r •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 x A ZRl •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 SQ`ec95', •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 CYk"
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 iEBxBsz_ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 B{_-k
Ef6LBNWY. QTI^?@+N> 光栅结构参数 iHOvCrp+X FwSV
\N+#' m3b?f B •此处探讨的是矩形光栅结构。 B\7 80p< •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 \o!B:Vb< •因此,选择以下光栅参数: V_Y2 @4 - 光栅周期:250 nm M#]URS2h<O - 填充系数:0.5 htqC~B{1E - 光栅高度:200 nm ^$\#aTyFK - 材料n1:熔融石英 1\Vp[^#Vx - 材料n2:TiO2(来自目录) 0bMbM^xV6 jowR!rqf
(@u" Ds%~J 偏振状态分析 Js8d{\0\ ^cYt4NHXn )pt#Pu
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 WO6; K] •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 vn=0=( •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 _;5N@2? c:G0=5
*6*/kV?F fyt`$y_E[ 产生的极化状态 ?9AtFT u'EzYJ7
+QVe -
#kDJ>r |&- syLpnNx= 其他例子 Dmv@ljwO lilF _y I!-5
#bxD •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 }>u<, •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 naKB2y]l z}m)u
#~88[i-6 Gj([S17\0: 光栅结构参数 d#G H4+C s;-%Dfn }fKpih •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 vy330SQPo •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 4
U`5=BI •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 }7jg>3ng( •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 %7bZnK`C
Fs EPM"&?h F45UO%/P 光栅#1 Enj],I /?P="j#u
&-0eWwMW ${%*O}$ Mw+8p}E •仅考虑此光栅。 ?]L:j •假设侧壁表现出线性斜率。 Xz, sL •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 T&`H )o •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 0Bpix|mq "ewB4F[ #e8NF,H5 假设光栅参数: OjiQBsgnj •光栅周期:250 nm h0fbc;l •光栅高度:660 nm /P/S0 •填充系数:0.75(底部) p$cSES>r: •侧壁角度:±6° u*$ 1e •n1:1.46 LMvsYc~]q •n2:2.08 a_0G4@=T }Myi0I< 光栅#1结果 <2a7>\74E0 `<L6Q2Y>j iE$/ Rcp •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ]+B#SIC; •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 :!f1|h •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 "3i=kvdz .Lk2S "+
'J`%[,@V kEQ${F{ 光栅#2 kOGpe'bV ?N|B, F
y^oSVj rtz%(4aS <eq93 •同样,只考虑此光栅。 IYy2EK[s •假设光栅有一个矩形的形状。 Tl!}9/Q5E: •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 hfGA7P" 假设光栅参数: VlVd"jW •光栅周期:250 nm dB`YvKr# •光栅高度:490 nm "yI)F~A •填充因子:0.5 .TURS •n1:1.46 }>w;(R •n2:2.08 *HwTq[y q
lL6wzq, 光栅#2结果 k.DDfuKN :LL>C)(f he/UvMu •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 S)[`Bm •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 SZCFdb •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 zX!zG<<K EV@xUq!x.
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