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分析高数值孔径物镜的聚焦特性
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infotek
2021-03-19 10:03
分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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建模任务
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概述
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。
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•接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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光线追迹仿真
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•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。
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•单击go!
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•获得了3D光线追迹结果。
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光线追迹仿真
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•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
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•单击go!
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•结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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场追迹仿真
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•切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
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•单击go!
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场追迹仿真(相机探测器)
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•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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场追迹仿真(电磁场探测器)
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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场追迹仿真(电磁场探测器)
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer
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