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infotek 2021-03-19 10:03

分析高数值孔径物镜的聚焦特性

摘要 btg= # u  
^t'mW;C$4  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 hwGK),?"+  
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建模任务 1>e30Ri,g  
e=9/3?El  
xVPSL#>  
概述 OH@"]Nc~  
!l*A3qA  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 |!(8c>]Bo  
•接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 2BC!,e$Z  
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s:_hsmc"  
W|2^yO,dX  
光线追迹仿真 *fm?"0M5  
JA4Zg*7I  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 wKpGJ& {  
•单击go! Kyh6QA^  
•获得了3D光线追迹结果。 w9Yx2  
tz]0F5  
QjLU@?&  
IGTO|sT"  
光线追迹仿真 1t e^dh:Vp  
JM;bNW8  
•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 !IOmJpl'  
•单击go! }#1.$a  
•结果得到点图(二维光线追迹结果)。 wwl,F=| Y  
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U)kyq  
d_ =K (}eR  
场追迹仿真 Mg\588cI  
p>)1Z<D"a  
•切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 (m1m}* @  
•单击go! u8 k^\Do  
*{?2M6Z  
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场追迹仿真(相机探测器) Mzg3i*  
9]3l'  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ~jw:4sG  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 iY>x x~V  
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GYw/KT~$  
KeyKLkg>  
场追迹仿真(电磁场探测器) Jha*BaD~N  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 DQhHU1  
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RPa]VL1W  
场追迹仿真(电磁场探测器) x/1FQ>n:9  
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 T2-x1Sw_  
mV]~}7*Y;  
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文件信息 b5g^{bzwu  
F@/syX;bb5  
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更多阅读 =SJ[)|  
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer sUF5Y q:9  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
CWs;1`aP  
Nt+UL/1]  
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QQ:2987619807 mp3Dc  
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