空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ;/R \!E
$a.,;: 应用示例简述 VTl\'>(Cl 1Pp2wpD4iC 1. 系统细节 %h9'kJzNk 光源 DPM4v7 S — 高斯光束 G]k+0&X 组件 sD{d8s[( — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 3DX@ggE2 探测器 m> YjV>5 — 视觉感知的仿真 ?Hrj}K27 — 电磁场分布 DWXHx 建模/设计 F['%?+<3 — 场追迹: w^=uq3X? 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 (/e[n.T 0wpGIT!2 2. 系统说明 ,\'E<O2T k*e$_ ,b,t^xX>) 3. 模拟 & 设计结果 K]H [A, Gg# 1k TK 4. 总结 Z1N=tL kR]AW60OE 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 f|NWn`#bY ,UATT]> 第1步 Dwbt^{N^ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。
PE&$2( qE@H~& 第2步 c-`izn] 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 3hPp1wZd Y5R|)x 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 W;^6=(&xn [t+qYe8 应用示例详细内容 xv9G% 8!|LJI 系统参数 ^<`uyY))Q +BgUnu26 1. 该应用实例的内容 ' )~G2Ys `^'0__<M uXm}THI 2. 设计&仿真任务 0RGqpJxk 6e4A|< 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 39oI
&D>8 / 0y5/ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 J"?jaa2~ ~ea&1+Z[3 6>F1!Q 4. 参数:SLM像素阵列 (AswV7aGe 'da$i ey ?paT 5. 参数:SLM像素阵列 \(`,z}Ht _ 5O]eD84B sHm:G_ 应用示例详细内容 P%y$e0 o!sHK9hvJ) 仿真&结果 JTdcLmL %Zi}sm1t 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM >e^8fpgSo 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 22gh,e2o 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 N51WY7 Bs';!,= 2. VirtualLab的SLM模块 .v[!_bk8C ku^0bq}BrH Ie'iAY 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 ^y2}C$1V 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 drd5oZ KDu~,P] 3. SLM的光学功能 )(W%Hmi 1pZ[rM'} 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 j38>5DM6L 为此,将区域填充因子设置为60%。 u=&$Z 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ?X3uPj9if q|S,^0cU 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd n*y@3. Mq4>Mu 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 E#/vgm=W; )!g@MHHL 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd {IT;g9x O+PRP"$g" 4. 对比:光栅的光学功能 jGFDj"Y 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ?jHu, 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 B5MEE 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 v\Edf;( 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 b_GAK 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 \5R>+[n! Rkh
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L]QBh\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd H;Cv]- Q)ZbnR2Z8 5. 有间隔SLM的光学功能 {!37w[s~ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 7!('+x(> &OP =O*B 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd "<1-9CMl "-A@d&5. 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 oxJ#NGD :AM_C^j~
D Fu"@)xw/-q 6. 减少计算工作量 h f9yK6 (qg~l@rf
\!!1o+#1j 采样要求: /*hS0xN* 至少1个点的间隔(每边)。 zJT,Hv . 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 k{ibD5B Z$2Vd`XP 采样要求: ^5~)m6=2 同样,至少1个点的间隔。 kYU!6t1 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 VQHQvFRZ) 随填充因子的增大,采样迅速增加。 avEsX_. m_,j)A% 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 A:YWXcg 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 jWJ/gv~ $ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Y"'k $jS- 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 uW^ W/S%' (*dJ
H`Ld,E2ex& 8b:\@]g$
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 tqT-9sEXX. 7. 指定区域填充因子的仿真 hSfLNvK
Eumdv#Qg 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 GN
?1dwI 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 p="K4E8~H 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 6HxZS+],c 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 4&'_~ qU HK!Vd_&9, `%Uz0h F 8. 总结 C;.+ kE 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ?,Zc{ C!J6"j 第1步 Dd$CN&Ca 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ,Z p9,nf X^ZUm 第2步 } P/
x@N 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 :h)A/k_ 扩展阅读 `8N],X 扩展阅读 *r]Mn~3 开始视频 f+Da W - 光路图介绍 tx{tIw^2; 该应用示例相关文件: rkC6-9V - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 'ktWKW$
D - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 rCFTch" \J?5Kl[*c _HkB+D0v QQ:2987619807 b=j]tb,
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