空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) A$XjzTR ;S?1E:\av 应用示例简述 6^{ hY^Z `t!iknOQ$ 1. 系统细节 f!LZT! y 光源 Fa+PN9M`?. — 高斯光束 a
_ 组件 5)$U<^uy — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 87<y_P@{ 探测器 o4~ft!> — 视觉感知的仿真 j~Gu;%tq — 电磁场分布 m qw!C 建模/设计 E 3I'3 — 场追迹: 'dU$QO 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 d}l^yln >P0AGZ 2. 系统说明 TdQ^^{SRp p*npY"}v -|)[s[T~m 3. 模拟 & 设计结果 =JVRm
2#* Uw&+zJ 4. 总结 Z,4=<;PF U1q$B32 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 p\-.DRwT` --^D)n 第1步 b$$XriD] 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 dhVwS$O ) 'h=
>ej* 第2步 8V|-BP5^ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 _r8AO> qyJpm{ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 6wu/6DO \FKIEg+(2 应用示例详细内容 =~0XdS/1 I^ >zr.zA 系统参数 ZDDwh&h bs`/k&' 1. 该应用实例的内容 =VY4y]V 3\WES! ?x[>g!r 2. 设计&仿真任务 xK
y<o ^Q OvK>W< 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 jU#%@d6!# `q@~78` 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Q-au)R, HkV/+ {;S~ ttKfZ0 4. 参数:SLM像素阵列 z::2O/ho 4dok/ +Ec mY
AFruN 5. 参数:SLM像素阵列 *FE<'+% <n:?WP~U }GC{~
SZ4 应用示例详细内容 tV,zz;* Oe U^YPL,m1 仿真&结果 gU%GM g Q9ff, 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 8&;dR 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 DVS7N_cx2o 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 jCl[!L5/1 TSk6Q'L\v 2. VirtualLab的SLM模块 )~n}ieS ( 0h]<7 8`~]9ej 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 [5 V 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 C,]Ec2 '
#mC4\<W8 3. SLM的光学功能 M@K[i*e NAU<?q<) 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 MDq @:t 为此,将区域填充因子设置为60%。 /PCQv_Y&,/ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 [y:LA~q :h3JDQe:. 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd @hvq,[ Q4PXC$u 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 "osYw\unI {8MF!CG] 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd :
L>d]Hn 6{~I7!m" 4. 对比:光栅的光学功能 DNy)\+[
上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 FN
R&
: 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 *Tlv'E.M 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 vKt_z@{{L 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 x9e
9$ww} 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 neBkwXF! gc=e)j@
ep!.kA=\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 9T1G/0k- |H4'*NP" 5. 有间隔SLM的光学功能 ZZ(@:F 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 4HJrR^ b+hY^$// 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd iiTUhO ) "mf;k^sqS 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ;'p'8lts X@)lPr$a }NXESZYoi 6. 减少计算工作量 ^bG!k]U!2 Ydx5kUJV<
]@>|y2 采样要求: 1#(1Bs6X 至少1个点的间隔(每边)。 f-<6T 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 SXEiyy[7v 7E95"B&w 采样要求: NP8TF*5V 同样,至少1个点的间隔。 qo;\dp1 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 )R4<*
/C:w 随填充因子的增大,采样迅速增加。 J (h> vF&b|V+, 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 q*OKA5 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 DtZm|~)a 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ThxrhQ
q[+ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 iIFQRnpu;3 0pFHE> p2G8Qls z"3c+?2
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 L
~w=O! 7. 指定区域填充因子的仿真 Pcs@`&}7r V1.F`3h~ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ?=kswf 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 %j@FZ
)a[ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 7&4,',0VL 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 3U)8P6Fz (Y([^N q I8?[@kg5b' 8. 总结 kP$gl| 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 QGd- 9UEA] TeJ
`sJ 第1步 i7V~LO:gq 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 R6;>RRU_ B! V{.p 第2步 cqx1NWlY 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 lWvd"Vlt 扩展阅读 $4
Uy3C+6 扩展阅读 mx~sxYa 开始视频 k5D'RD - 光路图介绍 ]'(7T# 该应用示例相关文件: "ux]kfoT - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 }eM<A$J - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 $0T"YC% e-9unnk G:`Jrh QQ:2987619807 Bq@wS\W>b}
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