空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) wUoiXi09 Sk\n;mL: 应用示例简述 d<x1*a 7rcA[)<' 1. 系统细节 # :#M{1I 光源 "V4Q2T
T — 高斯光束 NPm; 组件 +{.780| — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 qe$33f* 探测器 `FZF2.N — 视觉感知的仿真 ,h^r:g — 电磁场分布 R2rsJ 建模/设计 GW3>&j_!d — 场追迹: |jT2W
一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 >GXXjAIu/ l&L,7BX 2. 系统说明 ZqQ*}l5 5;mRGY gWOt]D/ 3. 模拟 & 设计结果 1a$IrQE &vkjmiAS 4. 总结 %X>FVlPm abi[jxCG 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 r<c #nD~K
R_1qn 第1步 H_w%'v & 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 R)oB!$k nO{ x^b < 第2步 B>z?ClH$R 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ]78!!G[` byGn,m 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 vvq/ XJgh>^R^ 应用示例详细内容 R>2I RvY( A1),el-^5 系统参数 GqLq gns Zw{MgoJ0Z 1. 该应用实例的内容 =gjDCx$| :et#0! >2b`\Q*< 2. 设计&仿真任务 e[1>(l}Ss 7 [d? 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ^lj7( w^q7n 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ObG=>WPJa T\9~<"P^ 5\hd4 4. 参数:SLM像素阵列 j 1*f]va T95t"g?p pKT2^Q}-h 5. 参数:SLM像素阵列 w0w1PE-V= F~HRME;Z 3mO;JXd 应用示例详细内容 ~#PLAP3- v.&>Ih/L 仿真&结果 -Z0+oU(?YE v^N`IJq 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM $t}<85YCQ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 f>polxB%N 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ;65D ?o*I9[Z) 2. VirtualLab的SLM模块 PuL<^aJ e6E?t[hEeS S($Su7g%_ 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 ]:ZdV9` 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 n,$z> xQ4%e[/ 3. SLM的光学功能 LWnR?Qve< YXW%]Uy+ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ^D{lPu
3 为此,将区域填充因子设置为60%。 ;*2>ES 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 #%lo;W~IY x =q;O+7] 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd IkPN?N U_B((Z(g 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 B<?wh0 n.}E5%qK 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd LR(-<" E"~2./+rd 4. 对比:光栅的光学功能 z (?=Iv3 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 k8AW6oO/i 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 eHiy,IN 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 !C4!LZ0A 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 fHRMu:q 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 c!K]J _)T5lEFl=
'' O 7=\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd =O).Lx2J iB[~U3 5. 有间隔SLM的光学功能 06q(aI^Ch@ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 9iUr nG* 7&qy5y-Ap 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 1KM`i W2FD+ wt 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 &-d&t` ` 4)|8Eu[p7 -i yyn^| 6. 减少计算工作量 xG&)1sT#-\ q@t0NvNSu
?W^c4NtP 采样要求: hCjR&ZA 至少1个点的间隔(每边)。 i.D3'l 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ,I1RV Qx;\USv 采样要求: E:9"cxx 同样,至少1个点的间隔。 I M-L'9 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 VXIP0p@ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 AV9m_hZt Oy U 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Bp8'pj;~ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 if|+EN% 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 6f')6X'x 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 [W%$qZlP +gtrt^:]l x8S7oO7 W`\R%>$H
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 o(DOQ Gl 7. 指定区域填充因子的仿真 5?hw ! wr[, 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 3s/H2fz 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 <B9C*M"4% 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Ag{iq(X 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 .pvi!NnL- Ut2y;2)a GrUCZ<S 8. 总结 xx[9~z=d 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ZovW0Q)m GB$;n? 第1步 $s9Vrw0Z 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ;\f gF@ Vx~,Uex0+ 第2步 ]IoUwg pI) 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 su*'d:L 扩展阅读 :xtXQza"- 扩展阅读 g!rQ4#4 开始视频 /YZr~|65 - 光路图介绍 c-B
cA 该应用示例相关文件: b )B?
F - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ee yHy"@ - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 R8ZK]5{o ;kY(<{ 2 Ney/[3 A QQ:2987619807 j'A_'g'^
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