空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) &{ {DS z}1xy+ 应用示例简述 Uxemlp%%* -m160k3 1. 系统细节 w`}9/s;$ 光源 {%_j~ — 高斯光束 %EGr0R( 组件 <KwK
tgzs — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 }Hz-h4Z 探测器 "rGOw'!q> — 视觉感知的仿真 <8)s — 电磁场分布 +^kxFQ(: 建模/设计
nuQ6X5>.= — 场追迹: r%l%yCH 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 >Mn>P! -(w~LT$ " 2. 系统说明 e5ru:#P.p _?s %MNaX *kQCW#y0 3. 模拟 & 设计结果 Y_@"v#, b!]0mXU 4. 总结 A,gx5!J v'Vt
.m&9& 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 W3/ 7BW` YvruK:I 第1步 C6d]tLE 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ]&:b<]K3 #jZ@l3 第2步 mhk/>+hF 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 v
(ka,Dk3 0i\',h}9 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ?Hi}nsw lKEX"KQ! 应用示例详细内容 kwHqvO!G 3}4p_}f/[4 系统参数 L"foL rQEi/ 1. 该应用实例的内容 y?#9>S >:\ |=cCv_y fYhR#FVI 2. 设计&仿真任务 \V^*44+
<! \ CK(;J 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Ud#X@xK<h h}|6VJ@. 3. 参数:输入近乎平行的激光束 %f(S'<DhC sz/ *w 7 PXosFz~ 4. 参数:SLM像素阵列 B:-U`CHHQ \2Og>{"U fpvvV( 5. 参数:SLM像素阵列 H#L#2M% efjO8J[uk- /2e%s:")h 应用示例详细内容 't(}Rq@ st?gA"5w 仿真&结果 / Mod=/e l(%k6 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM Sty!atEWT 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 `l/:NF 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 M
XZq 0e+W/Tq 2. VirtualLab的SLM模块 [?chK^8 >z=Ou<, /vjGjb=3U 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 %bP~wl~ 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 U:]MgZWn 53
@oP 3. SLM的光学功能 LJGJ|P dhHEE|vrz 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 -Z%F mv8 为此,将区域填充因子设置为60%。 3J%V%}mD 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 RF_[?O)Q 4'SaEsA~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 3;*z3;#} =}JBA>q( 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 GQN98Y+h +z\\VD 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd s^w\zz Yb 4\M8BRuE 4. 对比:光栅的光学功能 ~TDzq -U) 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 vwKw?Z0%J 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 :peqr!I+K 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 }Y Q:6I 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 uBmxh%]C~ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 G0}Dq MTi cd!|Ne>fe
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}6Q 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Ap%O~wA' p8=|5. 5. 有间隔SLM的光学功能 {h#6z>p"u2 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 S'o ]=& q7,^E`5EgU 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Z_FNIM0f XaW4C-D& 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 K;x~&G0= 2F1ZAl *>k!hq;j 6. 减少计算工作量 ~%s}S ^'vIOq-1v
b^ sb]bZW 采样要求: R4b-M0H 至少1个点的间隔(每边)。 -Q$b7*"z( 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 f&ytK "9@,l! 采样要求: D`Gt 同样,至少1个点的间隔。 SK+@HnKd 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 R2 lXTW* 随填充因子的增大,采样迅速增加。 K\P!a@>1 T~X41d\ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 DLi?'K3t 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 $n-Af0tK 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 xc;DdK=1X 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 zDDK s qpGrW. 4T`&Sl ;,XyN+2H
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 Uk,g> LG 7. 指定区域填充因子的仿真 h*Je35
%/T7Z;d 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 /^:2<y8Ha 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 sTkkM9 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 l~J*' m2 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 MzzKJ;wbC6 L-\ =J /r^[a,Q#x 8. 总结 :.uk$jx 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 aMTFW_w C>X|VP|C 第1步 J}TfRrf 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 YEv
Lhh 8>N wCjN 第2步 ?NG=8.p 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 uWjU OJEe 扩展阅读 lb~E0U`\E` 扩展阅读 uS<_4A;sD, 开始视频 _1|$P|$P. - 光路图介绍 aV6#t*\J 该应用示例相关文件: cp6WMHLj - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 +E5=$` - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 2f{T6=SK m"d/b~q *Zbuq8> QQ:2987619807 CQ^3v09N;~
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