空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) @G>eCj $qpW?<>,0 应用示例简述 am'K$s _iA oNT! 1. 系统细节 wKpD++k 光源 h8k\~/iJ — 高斯光束 7^!iGhI]r 组件 r~|7paX! — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 $WRRCB/A6 探测器 U0W2 — 视觉感知的仿真 Y#P!<Q>} — 电磁场分布 4"nYxL"<4 建模/设计 00-2u~D& — 场追迹: pL*aU=FjQ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 }YiFiGf, qm9=Ga5 2. 系统说明 [k%u$ Tqs|2at<t re4z>O* 3. 模拟 & 设计结果 +~1FKLu Y~r)WV!G 4. 总结 rNm_w>bq SgN?[r) 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 A*|\E:fo |rgPHRX^Hn 第1步 #<V5sgqS 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 M4
})) A[F@rUZp 第2步 7 > _vH] 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <jaQ0S{| s`yg?CR`, 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 O"X7 DgbC l%u8Lq 应用示例详细内容 m}beT~FT_ 4kK_S.& 系统参数 yr.sfPnJK R%9,.g< 1. 该应用实例的内容 Y!ypG- A^|~>9 3<1x>e2nT 2. 设计&仿真任务 #*S.26P^4 f"4w@X2F 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Hh&qjf ExFz@6@ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 gTLBR puh-\Q/P j]mnH`#BL 4. 参数:SLM像素阵列 oykb8~u}} B<G,{k T}"[f/:N/ 5. 参数:SLM像素阵列 9@nd>B {=,I>w]T|W l&Y'5k_R 应用示例详细内容 V8pZr+AJ *
]D{[hV 仿真&结果 :/"5x ^nFP#J)_5 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM hdmKD0 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 C/9]TkX}q 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 e;|$nw- *dC&*6Rx 2. VirtualLab的SLM模块 )tS;gn U?5G%o(q *q[;-E(fZ# 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 ^HE@ [b 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 pWH,nn?w. |GP&!] 3. SLM的光学功能 rJRg4Rog P%!=Rj^ 2m 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 /wP2Wnq$ 为此,将区域填充因子设置为60%。 s5*HS3D 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 8 0o'=E}" O{U j 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd $++O@C5 g^\!> i 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 (I+e@UUiL OpK_?XG 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd NQvI=R-g EP+LK?{% 4. 对比:光栅的光学功能 % w 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 /f AAQ7 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 59+KOQul6 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ',rK\&lL6 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 *{\))Zmhd 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 _qo\E=E v?%vB#A^ [r'A8!/|[ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Oi-%6&}J dt"& 5. 有间隔SLM的光学功能 (qz)3Fa 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 {lgiH+: Tb8r+~HK 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd R-wz+j# | :id/ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ,g,Hb\_R) $2-_j)+ _c5*9')-) 6. 减少计算工作量 n.C5w8f :AI%{EV-L
ZNL+w4 采样要求: KCH`=lX 至少1个点的间隔(每边)。 pUW7p 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 :-$8u;!M )8SWU)/ 采样要求: t`>Z#=cl\ 同样,至少1个点的间隔。 YBF$/W+=9| 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 JO90TP
$ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 8%xBSob{j DVJn;X^T: 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 aUA)p}/: 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 A5%$< 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 1EWZA 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 uU^iY$w y*v|q= *;~u 5y2b Q;A\M
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 P|]r*1^5 7. 指定区域填充因子的仿真 i"
)_Xb_1 PL3hrI 5 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 XrWWV2[ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 .`V$j.a 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 `u PLyS. 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 3JkdP h
UT9u? HXztEEK6 8. 总结 J_m@YkK 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 "Aw)0a[j1 GNq
f 第1步 ^w2 HF 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 .>P:{'' sowwXrECg@ 第2步 P=\{ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 F*r) 扩展阅读 g.vE%zKL 扩展阅读 tMp!MQ
开始视频 Ki7t?4YE - 光路图介绍 IF\ @uo` 该应用示例相关文件: o)^Wz - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 SgehOu - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 /F(n%8)Yq ~(kqq#=s (V]3w QQ:2987619807 .R'M'a#*!A
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