空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) R]V`t^1 DI&xTe9k 应用示例简述 ?%LD1 <ya T\WNT#My 1. 系统细节 7H[+iS0 光源 qq?>ulu*W — 高斯光束 ,\qo 组件 }6S4yepl — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 .K7A!; 探测器 ,F*e^#> — 视觉感知的仿真 vEgJmHv; — 电磁场分布 ]{"(l( 建模/设计 =~arj — 场追迹: 2;&13%@! 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 4sJx_Qi ,v6Jr3 2. 系统说明 b%_QL3m6 5Px.G* nRo`O 3. 模拟 & 设计结果 O.4"h4{' B{K'"uC 4. 总结 DQ9s57VxC! uo65i 1oi 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 I;|Aiu* (
ou:"Y 第1步 0 /kbxpih 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 JZv]tJWq &t8_J3?Z 第2步 woT" 9_tN 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 L.Lt9W2fi D-~Jj&7 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 000$ZsW? wYxizNv, 应用示例详细内容 R5i8cjKZ?w ,yqzk. 系统参数 zbi z84W{!
P 1. 该应用实例的内容 jQr~@15J# EiN.VU ` SB'YV#-- 2. 设计&仿真任务 bOFLI#p& %1<p1u'r?# 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 f|G7L5- ."^dJ |fN 3. 参数:输入近乎平行的激光束 |{jAMC0# EGDE4n5>I ]q3Kd{B 4. 参数:SLM像素阵列 UxvsSHi xWwPrd F@*lR(4C 5. 参数:SLM像素阵列 0>;#vEF*1 a"DV`jn Y-Ku2m 应用示例详细内容 M"vcF5q I>3]4mI*a 仿真&结果 dbuOiZ Wu4Nq+ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ]p*)
PpIl 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 t?
A4xk 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 _]S6> =qtoDe 2. VirtualLab的SLM模块 )eFFtnu5 )[)]@e -5cH$]1\ 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 RsD`9>6) 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 &v-V_.0(H }J?fJ( 3. SLM的光学功能 PM.SEzhm Z
:9VxZ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 |Hm'.- 为此,将区域填充因子设置为60%。 _tReZ(Vw 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 oGVSy`ku NslA/"* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd UvZ@"El mCt>s9a)H 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ?R]y}6P$ _o?(t\B9{ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Y+
Z9IiS7 @."o:K 4. 对比:光栅的光学功能 ]k:m2$le 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 6{$dFwl 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 iW}l[g8sw! 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 bVeTseAG 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 rH9}nL 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 hcgc
=$^ D' `"_
kxW>Da<6 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd l>UUaf|O (`]*Y(/2G 5. 有间隔SLM的光学功能 f4I#a&DO 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 dl6v
< daIL> c" 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd @sHw+to|p) ~Ex.Yp8. 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 T4=3VrS ij(4)= 06^1#M$' 6. 减少计算工作量 _Hu2[lV #a | ch6B
)SX6)__ 采样要求: vif8{S 至少1个点的间隔(每边)。 }=hoATs 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 +z=%89GJ {*
j^g6; 采样要求: N+M&d3H` 同样,至少1个点的间隔。 ]rg+nc3 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 N4H+_g| 随填充因子的增大,采样迅速增加。 Dw`m>'J0 cvUut^CdK 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 N
2"3~ # 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 J`q}Ry; 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 |R;l5ZKvV 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ,![Du::1 q[7d7i/r6
`cP'~OT !p,hy`
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 Yxd{&47 7. 指定区域填充因子的仿真 lP* tw/#ENo 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 5eOj,[? 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 9c6GYWIFt& 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 A6N~UV*_ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 (.,'}+1 IE)"rTI)b $%
Ci8p 8. 总结 X&(ERY,h 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 /> 3 +`*qlP; 第1步 ;T.s!B$Uu 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 R6!cK[e]4 K3rBl!7v 第2步 S\9t4Ki_' 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 {OO*iZ.O 扩展阅读 "J
pTE \/ 扩展阅读 Or+*q91j 开始视频 !ww:O| 0 - 光路图介绍 G#w^:UL 该应用示例相关文件: $_RWd#Q( - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 A<SOT >m] - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 a|QE *s. xHJ8?bD p .Iwur;/\ QQ:2987619807 )'[x)q
|