空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) K9ek
{RI)I 应用示例简述 o8~<t]Ejw " -S@R=bi 1. 系统细节 eVj7%9 光源 KPA.5,ai — 高斯光束 (U@$gkUx}G 组件 0<+eN8od. — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 US\h,J\Ju 探测器 Z=oGyA — 视觉感知的仿真 f$qkb$?]} — 电磁场分布 "b) hj? 建模/设计 0wt4C% .0 — 场追迹: w<Bw2c 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 `eeA,K_ yB|1?L# 2. 系统说明 6G{ Q@ *Tr9pq%m S|F:[(WaM 3. 模拟 & 设计结果 gt\kTn." nO#x" 4. 总结 Zgo%Jo I3u)y|Y= 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 D4sp+ PJ\k| 第1步 @hy~H?XN 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 `pF7B6[B 8RQv 第2步 vU$n*M1`$ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Mbn;~tY> FH%M5RD 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 -b|"%e<' {nw.bKq7 应用示例详细内容 jB`:(5%RO fk!9` p' 系统参数 +.Xi7x+#O <GF^VT|Ce 1. 该应用实例的内容 1iqgVby MjWxfW/ |
^G38 2. 设计&仿真任务 [s{[
.0P]+ MBAj.J 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 i! gS]?*DH Jt0U`_ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 F|@\IVEB] Vcnc=ct X4{<{D`0t8 4. 参数:SLM像素阵列 =2}V=E/85 RC?vU `jVRabZ0 5. 参数:SLM像素阵列 <@Vf:`a!P> Vf<q-3q LR';cR; 应用示例详细内容 Ubgn^+AI z:Z-2WV2o 仿真&结果 ~@(C+ 3, !qU1RdZ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM pRd'\+ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 mxpj<^n} 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 CD%Cb53 Qqx!'fft 2. VirtualLab的SLM模块 $/|vbe, 64]8ykRD- m)3M) 8t 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 w)B?j 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 sN2m?`?"G -m@PqJF^ 3. SLM的光学功能 E@yo/S 7?{y&sf 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 b`@C #qB 为此,将区域填充因子设置为60%。 (w:,iw# 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 r)OiiD" <XQwu*_\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd W6_ rSVm F-oe49p5e 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 3zu6#3^ P+=m. 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 1z-A3a/- kD?@nx> 4. 对比:光栅的光学功能 *8po0s 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 0{ ~2mgg h 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 l1KgPRmEP 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 'nBP% 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 _>rM[\|X 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 wc.=`Me 9[;da
RV);^, b 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd O"Nr$bS(Y >3@3~F%xAX 5. 有间隔SLM的光学功能 J7^UQ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 EmR82^_: ZWo~!Z [Y 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd &$
"J\vm =&,T@5&-= 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 7 4MxU DBL@Mp[< sZT~5c8 6. 减少计算工作量 E #B$.K ?|+e*{4k
c)B3g.C4m 采样要求: Bv!{V)$ 至少1个点的间隔(每边)。 I`H&b&
.` 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 (RV#piM s1[&WDedM 采样要求: s)`(@"{ 同样,至少1个点的间隔。 kfZ`|w@q 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 d&raHF* 随填充因子的增大,采样迅速增加。 pGjwI3_K K) fKL
为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 CuvY^[" 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 !Q15qvRS 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 v/9ZTd 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 4\u`MR _uLpU4# ? c:u*-lYmK% `Wg"m~l$N
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 G<D8a2q 7. 指定区域填充因子的仿真 #}+H cWZITT{A 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 |oLG c!i 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 n qO*z< 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 cx$h" 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 UMe?nAC %UrNPk N%}J:w 8. 总结 BVNJas 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 nPdkvs ^tGAJ_b79 第1步 qnboXGaFu 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 &qG/\ n=V|NrU 第2步 "Gp Tmu? 分析不同区域填充因子的对性能的影响。
8sG?|u 扩展阅读 G=|?aK{p 扩展阅读 R}gdN-941 开始视频 \-pwA j? - 光路图介绍 #p>&|I 该应用示例相关文件: kC%H E - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 dN3^PK - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 #%@bZ f
9 da=q QUn!&55 QQ:2987619807 !DFTg4xb
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