空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) h7de9Rt as\<nPT{Fj 应用示例简述 To# E@Nw fW5"4, 1. 系统细节 zt)p`kd D 光源 >}dTO/ — 高斯光束 8m/FKO (r 组件 =2.tu*!C — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 )d770Xg+ 探测器 )){PBT}t] — 视觉感知的仿真 (aDb^(]> — 电磁场分布 Wz6]*P`qv 建模/设计 ]^yV`Z8 — 场追迹: :"OZc7
~ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 Eu`2w%qz eD*?q7 2. 系统说明 klK-,J nV!2Dfd TRs[ ~K)n 3. 模拟 & 设计结果 iwG>]:K3 86;+r'3p. 4. 总结 71k!k&Im
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YB 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 o9KyAP$2 d'N(w7-Y 第1步 vh9kwJyT 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 t7jh?] XysFwi 第2步 I!|y;mh:it 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ri/t(m^{W s"I-YFP%c 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 fnVW/23 Q `e~MD 应用示例详细内容 |_l<JQvf`E E/"YId `A 系统参数 K)<Wm,tON .+{nA}Bc 1. 该应用实例的内容 ?8Hn{3X TqENaC#& a(PjcQ4dY 2. 设计&仿真任务 =3h+=l[ >X;xIyRL 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 3c01uObTL j4E H2v 3. 参数:输入近乎平行的激光束 %iK%$ Ivz+Jjw XHWh'G9 4. 参数:SLM像素阵列 <T(s\N5B= f:_=5e
+ 7MKD_`g 5. 参数:SLM像素阵列 [ Z#+gh >}-~rZ \w{@u)h 应用示例详细内容 8B}'\e4i PYdIP\<V 仿真&结果 J)-T:.i|0 L@7Qs6G2u 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM zt7_r`#z 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Bj;\mUsk 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 T&?w"T2y eeZIa`.sX 2. VirtualLab的SLM模块 o)0C-yO0qf /)sDnJ1r I)[`ZVAXR 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 KjO-0VMN3 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 dVvZu% DFp q!ee g 3. SLM的光学功能 pgCd %p<$|' 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 _GE=kw;: 为此,将区域填充因子设置为60%。 ^Y$QR] 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 >g>?Y G !A~d[</]m 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd qpoquWZ [ }{w 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 tJff+n> [.{^" <Z< 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd =.DTR5(_h Nfr:`$k 4. 对比:光栅的光学功能 ^SEc./$ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 :qBGe1Sv( 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 X2i*iW< 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 +e U`H[iu 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 }6<)yW}U 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 a|U}Ammr M|ms$1x
wjL|Z8 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd xsYE=^uv \$j^_C> 5. 有间隔SLM的光学功能 i[PvDv"n 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Jms=YLIAA C9o$9 l+B 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Jff 79)f wcwQj Hwd
下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 -H`\?
R `n6/ A) Yhe+u\vGs\ 6. 减少计算工作量 3!>/smb! Tj&'KF8?L
FW_G\W. 采样要求: MvBD@`&7 至少1个点的间隔(每边)。
NaF(\j 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 _$8{;1$T? y86)) 采样要求: m*`cuSU|o 同样,至少1个点的间隔。 GYd]5`ri 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 -/zp&*0gcx 随填充因子的增大,采样迅速增加。 pL! a <.}Ua( 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ujx@@N 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 &-=K:;x 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 t}VwVf<K 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Qo.Uqz.C yQ'eu;+] *!Y-! eHUg-\dy
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 iTu0T!4F 7. 指定区域填充因子的仿真 #Mg lHQO+ ocwE_dR{ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 %&tb9_T)d 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Ew]<jF|.# 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 q4k.f_{ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 p-,Iio+ 3 "Yif x/xb1" 8. 总结 ~r&D6Y 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 L<=) @7 ddoFaQ8 第1步 [x5mPjgw 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 LWD#a~ x,\!DLq:p 第2步 )|MJnx9 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 &\^rQi/tf 扩展阅读 w12}Rn8 扩展阅读 +ubnx{VC 开始视频 \2>?6zs - 光路图介绍 hVM2/j 该应用示例相关文件: Xk,>l6vc - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 |1Hc& - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 B.*"Xfr8 _*E!gPO n=o_1M| QQ:2987619807 'M N1A;IJ
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