空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) MIwkFI8 1(WNrVm; 应用示例简述 %ck/ Z l&v&a!EU 1. 系统细节 3UQ~U 8 光源 >zB0+l — 高斯光束 j0[9Cj^%c 组件 t~FOaSt — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ,Mw;kevw 探测器 9~WjCa*,& — 视觉感知的仿真 QsH Fk5) — 电磁场分布 @60/IE{-v 建模/设计 a]_eSU@ — 场追迹: viR-h
iD 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 d512Y[ R 1]Gp\P} 2. 系统说明 S`GM#( t@_ w.\#!@kZ! 4
g^oy^~ 3. 模拟 & 设计结果 ?]u=5gqUU B":u5_B 4. 总结 8?&u5 ?AJE*=b 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 >D/+04w >R}p*=J 第1步 w"K;e (S 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 G8_|w6 9 ~$'? 第2步 }Ii5[nRN 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ,\n%e' \4|o5, +(@ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。
S^4T#/ |v%xOl 应用示例详细内容 )S6"I Ykd< }KE> 系统参数 ON<X1eU w*"h#^1z 1. 该应用实例的内容 JgY#W1> /DBldL7yi )w++cC4/5 2. 设计&仿真任务 )j>BvO 3fWL}]{<a 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 )mw&e}jRV c$HZvv 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Xi!`+N4 '+cPx\4 K-b'jP\ 4. 参数:SLM像素阵列 sAz]8(Fi0 @"=wn:O+ U}Aoz| 5. 参数:SLM像素阵列 k3wAbGp +Tw ]u`
<c&6M 应用示例详细内容 CsND:m +kK6G#c 仿真&结果 vCh/%7+ u9}k^W)E 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM Hs~u&c 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 1]<wZV}. 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 H(TY. y=)xo7( 2. VirtualLab的SLM模块 Ev7fvz = 5==}8<$ b\O%gg\p%! 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 8Ekk"h6 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 $h( B2 T1Q c?5K^ 3. SLM的光学功能 M@/Hd0$ oG_-a(N 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 i#%17} 为此,将区域填充因子设置为60%。 N=oWIK<;- 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 _v9P0W^.7 <8Zm}-U 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd "me
a*-XB 8T#tB,<fFW 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 nBA0LIb +$F_7Hx 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Lh(`9(tX *l[;g 4. 对比:光栅的光学功能 3bi,9 >% 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 0ThX1)SH 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Rn-RMD{dh 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 D^5bzZk
N 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 %fyah}= 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 R}-<ZJe XOe8(cXa9 2/c^3[ccR 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd C&QT-| 8JU9Qb]L'I 5. 有间隔SLM的光学功能 dSkW[r9Z%l 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 jxU z-U- h!L/ZeRaV 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd q)ns ui( s]"NqwIPK 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 B7fV_-p: G A80r@)i 5IPZ; 6. 减少计算工作量 uP-I7l0i1 QD}'2{M!
: ;nvqb d 采样要求: g (i_di 至少1个点的间隔(每边)。 &pCNOHi| 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 5)rMoYn25 12yr_ 采样要求: 'TF5CNX 同样,至少1个点的间隔。 NRM=0-16u$ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 8pQx6QE 随填充因子的增大,采样迅速增加。 /7nircXj@ bk-veJR 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 _i=431Z40 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 IwfJDJJ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 fR&;E 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ^11y8[[ tf VK pE<@ }W:Rg}v
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 nNCG*Vu 7. 指定区域填充因子的仿真
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J7 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 RZtY3:FBx| 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ,[
UqUEO 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 L*Gk1' 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 a,GOS:?O5 }, < dGmkx X#bK.WN$ 8. 总结 < )dqv0= 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 U.fLuKt *?2aIz" 第1步 y h
将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 \i*QKV< W:s>?(6? 第2步 T\(w} 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 &%@b;)]J 扩展阅读 ^/0c`JG!x 扩展阅读 B1x# 7>K 开始视频 w)#Lu/ - 光路图介绍 B<99-7x3 该应用示例相关文件: H{}Nr
4 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 X 5.%e&`
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 =RA8^wI I`$"6 Xy *{t]fds QQ:2987619807 ;;^OKrzWW
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