空间光调制器像素处光衍射的仿真
空间光调制器(SLM.0002 v1.1) eI99itDQ qrdA4S 应用示例简述 <KB V F{,<6/ayRz 1. 系统细节 P)D2PVD
光源 3(&f!<Uy — 高斯光束 uUmkk 组件 }KFf — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 u_31Db< 探测器 ' 5tk0A — 视觉感知的仿真 ZH<:g6 — 电磁场分布 e 97Ll=> 建模/设计 *m$lAWB5D — 场追迹: dC,a~`%O 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 T- ~l2u|s Yf&P|Iiw 2. 系统说明 ^qR2 !fwm< *.F^`]yz H<N$z3k 3. 模拟 & 设计结果 {~*^jS']5 'aV/\a:* 4. 总结 [T}Lq~ t,P_&0X 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ZsnFuk#W -6KNMk 第1步 \mo NpKf 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 rg5ZxN|g PAYS~MnV@3 第2步 pHNo1-k\ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 uPhL?s{ ]wxjd
l 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Nv[MU@Tv sV']p#HK0 应用示例详细内容 f\+ E&p. C
9{8!fYp 系统参数 Py72:;wn NoAgZ{)) 1. 该应用实例的内容 w ag^Sk Vd&&GI(:?^ <@448,9& 2. 设计&仿真任务 :@~W$f\y _ J t 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 '((pW '73g~T%$^* 3. 参数:输入近乎平行的激光束 /}kG$~
=tS#t+2S :HiAjaA1pg 4. 参数:SLM像素阵列 cfZ$V^xM uyqu n@q wJAJ / 5. 参数:SLM像素阵列 F$6JzF$|F ~NV 8avZ je#OV,uHM 应用示例详细内容 ]I^b&N `uh+d 仿真&结果 oE.59dx FL|\D 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM fw3P?_4;* 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 6k9cvMs%H 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 \?_M_5Nb C{<H)?]*BF 2. VirtualLab的SLM模块 jY1^I26E $o%:ST4 ks|c'XQb 为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 nl)l:A+q8 必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 `EdZ I<+i87= 3. SLM的光学功能 =pk5'hBAi +5i~}Q! 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 {9Ug9e{
~ 为此,将区域填充因子设置为60%。 @>Bgld&vl 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 % B^BN|r 4.e0k<]N` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd xP7#`S6W {A`J0ol<B9 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 g-LMct8$ Liv.i;-qE 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd E=#
O|[= vq` M]1]FO 4. 对比:光栅的光学功能 Y/<`C 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 *Roqie 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 90Bn}@t=Q 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 }bZb8hiG 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 RRUv_sff 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 :*I='M9B ~?JNI8
snicVzvA 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd &V(;zy4(R [/Sk+ID 5. 有间隔SLM的光学功能 Ib(G!oO:E- 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 =&t]R?
F &dky_H 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 8pXqgIbmb I~F]e|Ehqr 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 gp<XTLJ@> J{U
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BZOB\Ym 6. 减少计算工作量 z'01V8e "lRxatM
]4onY> 采样要求: Q2 Dh( 至少1个点的间隔(每边)。 +z|@K=d#| 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 eb>jT: Oq*;GR(Q 采样要求: 7 MS-Gs| 同样,至少1个点的间隔。 e<$s~ UXv 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 7{lWg x 随填充因子的增大,采样迅速增加。 43,baeG WX*
uhR 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 : G'a"%x 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 VHm.uL_UW 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 1hY%ZsjC 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 d7G
DIYH< N4l}5(e 4I8QM&7 oU|_(p"e|
减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。 0TaN# 7. 指定区域填充因子的仿真 9]vy#a# t|m=X 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 .hRtQU 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 T3NH8nH9"z 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 &NX7 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 39~te%;C7 u7SC_3R /@64xrvIl= 8. 总结 c_T+T/O 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 EXsVZg"# 3BSZz%va 第1步 i9Eh1A3Y 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 lnGg1/ cB)tfS4) 第2步 M8R/a[ -A 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 \]0#jI/: 扩展阅读 PJT$9f~3;. 扩展阅读 #&b<D2d 开始视频 hU3sEOm> - 光路图介绍 `CRF E5 该应用示例相关文件: -"EPU]q - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 9iV9q]($0 - SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 LYr9a( JS/~6'uB E`Br# "/Bl QQ:2987619807 mV0u:ws
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