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infotek 2020-11-05 10:20

设计和分析GRIN扩散器

案例563(1.0) I>b!4?h  
MXSPD# gN  
1.建模任务 7L? ~;;L$  
L%U-MOS=  
 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 Fl<BCJY  
 设计包括两个步骤: /wH]OD{  
- 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ]rXRon='  
- 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 g}P.ksM  
 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 f9X*bEl9;`  
Mm+_>   
.)ZK42Qd  
照明光束参数 _{C:aIl[2  
ixE72bX  
Ql3hq.E  
 波长:632.8nm Y!Wz7 C  
 激光光束直径(1/e2):700um oCXBek?\  
9ZeTS~i  
理想输出场参数 4}gqtw:  
=Y?M#3P.I  
' DCrSa>  
m9a(f>C  
 直径:1° 7rbl+:y2  
 分辨率:≤0.03° M(0:>G  
 效率:>70% yL7a*C&  
 杂散光:<20% CAX|[  
{: T'2+OH>  
2. 设计相位函数 jDqe)uVvtV  
q6%jCt2'  
'Oyz/P(p  
 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp {%)bxk6  
 设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~(~fuDT~O  
jyb/aov  
3.计算折射率调制 :1PT`:Y  
4 B"tz!  
_qR1M):yJ  
F)z]QJOw  
 最大折射率调制 W}50E.\#  
△n=+0.05 ts<5%{M(  
 如果是GRIN层,那么厚度:12.656um 2bPrND\P=  
 折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 K|[[A)tt6  
 为得到细节请参见教程Tut565。 `$ql>k-6C  
 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 Q"h/o"-h  
3<88j&9  
4.模拟结果  {F+7> X  
WV]Si2pOZ  
角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
G&I\Za;   
5.结论 l&R~ I6^E  
 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 w4\b^iJz  
 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 n{s `XyH  
 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 zWb>y  
\tc 4DS  
a^ hDxeG  
QQ:2987619807 F4xYfbwY"]  
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