设计和分析GRIN扩散器
案例563(1.0) I>b!4?h MXSPD#gN 1.建模任务 7L? ~;;L$ L%U-MOS= 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 Fl<BCJY 设计包括两个步骤: /wH]OD{ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ]rXRon=' - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 g}P.ksM 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 f9X*bEl9;` Mm+_> .)ZK42Qd 照明光束参数 _{C:aIl[2 ixE72bX Ql3hq.E 波长:632.8nm Y!Wz7
C 激光光束直径(1/e2):700um oCXBek?\ 9ZeTS~i 理想输出场参数 4}gqtw: =Y?M#3P.I '
DCrSa> m9a(f >C 直径:1° 7rbl+:y2 分辨率:≤0.03° M(0:>G 效率:>70% yL7a*C& 杂散光:<20% CAX|[ {: T'2+OH> 2. 设计相位函数 jDqe)uVvtV q 6%jCt2' 'Oyz/P(p 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp {%)bxk6 设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~(~fuDT~O jyb/aov 3.计算折射率调制 :1PT`:Y 4
B"tz! _qR1M):yJ F)z]QJOw 最大折射率调制 W}50E.\# △n=+0.05 ts<5%{M( 如果是GRIN层,那么厚度:12.656um 2bPrND\P= 折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 K|[[A)tt6 为得到细节请参见教程Tut565。 `$ql>k-6C 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 Q"h/o"-h 3<88j&9 4.模拟结果
{F+7> X WV]Si2pOZ
角强度分布 (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd) G&I\Za; 5.结论 l&R~I6^E VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 w4\b^iJz 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 n{s
`XyH 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 zWb>y \tc4DS a^hDxeG QQ:2987619807 F4xYfbwY"]
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