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使用特殊介质的光栅结构的配置
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infotek
2020-10-10 09:16
使用特殊介质的光栅结构的配置
摘要
NwD*EuPF :
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光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。
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该用例展示了…
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在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如:
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倾斜光栅介质
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体光栅介质
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如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构
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光栅工具箱初始化
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初始化
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开始->
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光栅->
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通用光栅光路图
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注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图
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光栅结构设置
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首先,需要定义基底(底座)材料和厚度
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在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义
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堆栈可以固定到基底的一边或两边
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这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中
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堆栈编辑器
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堆栈编辑器
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涂层倾斜光栅介质
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在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。
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这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构
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在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上
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在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高)
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涂层倾斜光栅介质
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涂层倾斜光栅介质
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堆栈周期允许控制整个配置的周期
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该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件
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在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率
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涂层倾斜光栅介质参数
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涂层倾斜光栅介质参数
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高级选项&信息
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在传输菜单中,多个高级选项可用
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传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置
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可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量
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这可能是有用的,如果考虑金属光栅
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相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够
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高级选项&信息
@_FL,AC&m
高级选项标签提供了结构分解的信息
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层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构
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更多地,提供了关于层数和过渡点的信息
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分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述
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高级选项&信息
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高级选项&信息
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体光栅介质
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另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
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界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生
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同时,两个平面界面作为介质的边界
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体光栅介质参数
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T d4 /3k
为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案
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首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率
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其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制
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更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件)
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体光栅介质参数
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高级选项&信息
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高级选项&信息
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在探测器位置处的备注
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在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面
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如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的
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然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生
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因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件)
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这避免了这些干涉效应的不必要的影响
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文件信息
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QQ:2987619807
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