首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> FRED,VirtualLab -> 使用特殊介质的光栅结构的配置 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2020-10-10 09:16

使用特殊介质的光栅结构的配置

摘要 NwD*EuPF:  
Q#urx^aw  
光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 !Qjpj KRy  
U}MU>kzb  
}lML..((1  
>pO[ S[  
该用例展示了… Ud^+a H  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: (' /S~  
倾斜光栅介质 {}N*e"<O  
体光栅介质 @jN!j*Y H  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 HB{w:  
LPb43  
k7>*fQ89@  
] $$ciFM  
光栅工具箱初始化 JVwYV5-O<0  
 N~EM`d  
3ypB~bNw  
 初始化 - 4'yp  
开始-> hUSr1jlA  
光栅-> rl'YyO}2  
通用光栅光路图 RZjTUMAz4  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 /$\yAOA'y  
光栅结构设置 6S])IA&VJ  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 .Di+G-#aEs  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 63UAN0K%  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 LT!.M m  
 3Fo,F  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 +Nv&Qu%  
Au#(guvm  
堆栈编辑器 jbpnCUzi  
.=3Sm%  
Ag }hyIl  
YUfuS3sX}  
堆栈编辑器 j^llO1i/  
7XT2d=)"  
!ceuljd]  
涂层倾斜光栅介质 9Vxsv*OR,  
xVuGean Cv  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。  ,@R~y  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 g v&xC 6>  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 D2E~ c? V  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) 1& YcCN\k  
,aV89"}  
\s`'3y  
#AyM!   
涂层倾斜光栅介质 [Rs5hO  
yb*SD!  
Os*,@N3t  
DvF`KHsy  
涂层倾斜光栅介质 cm%QV?  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 }=^YLu=  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 *^=`HE89S  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 64#~p)  
 6?+bi\6  
5Jp@n .  
8~ .r/!wfy  
涂层倾斜光栅介质参数  X4BDl  
x/~V ZO  
|08tQ  
N12K*P[!  
涂层倾斜光栅介质参数 Q6_!I42Y`  
UB|Nx(V s  
ZUQ1\Iw  
6>%)qc$i  
高级选项&信息 UN`-;!  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 )U>q><  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 m qPWCFP  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 1e'-rm F  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 P{)&#HXUVb  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 wS%I.  
x(hUQu 6  
-F4CHpua  
<& 8cq@<  
高级选项&信息 @_FL,AC&m  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 - tF5$pb'  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 \'GX^0yK  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 !z{bqPlFGG  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 @H@&B`Kd  
I=D`:u\H  
ti`z:8n7  
~fAdOh  
高级选项&信息 |C=^:@}ri?  
C&NoEtL>s  
PP[{ c  
XsQ<ye un  
高级选项&信息 NqkRR$O  
6}L[7~1  
ah"2^x  
.o:Pe2C  
体光栅介质 >LgV[D#=&o  
y`mEsj  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 QD+dP nZu  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 [uc;M6o}?  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 =Q.2:*d.  
`;hsOfo  
>>(2ZJ  
w/d9S(  
体光栅介质参数 yHCQY4/  
T d4/3k  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ok-sm~bp  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 h}q+Dw.i  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 8s?;<6  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) O(~`fN?n  
(4$lB{%  
!g=,O6  
~)tMR9=wX  
体光栅介质参数 fR5 NiH  
l"IBt:  
$Fc*^8$ryC  
p % 3B^  
高级选项&信息 viD+~j18  
}C2I9Cl  
_UjAct]6  
15iCJ p  
高级选项&信息 RNRMw;cT  
.Z8 x!!Q*  
 Ca@[]-_H  
QMy;?,  
在探测器位置处的备注 @`wBe#+\  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 y"cK@sOo  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 S N?jxQ  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 dvyE._/v  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) Hi,_qlc+  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 TkWS-=lNH0  
ujmW {()  
|]+m<Dpyr2  
?F AsV&y  
文件信息 =ub&@~E  
KOhy)h+ h  
Z:O24{ro5  
ef f6=DP  
/y@$|DI1  
QQ:2987619807 |A'8'z&q  
查看本帖完整版本: [-- 使用特殊介质的光栅结构的配置 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计