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2020-10-10 09:16 |
使用特殊介质的光栅结构的配置
摘要 #+PbcL SXz([Z{) 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 3pW
MS& wS0bk<(
\AzcW;03g[ 1[`<JCFClc 该用例展示了… #Vigu,zY 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 8w[EyVHA 倾斜光栅介质 3raA^d3!? 体光栅介质 >NA7,Z2. 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 8|NJ(D-$ oLMi vy4
,P@-DDJ 3rg^R"& 光栅工具箱初始化 zpqNmxmF a?~csP^?}
vqi$}=%n?W 初始化 MjC%6%HI 开始-> l|em E
^ 光栅-> veg!mY2& 通用光栅光路图 ok2~B._+; 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 H`lD@q'S 光栅结构设置 ja- ~` 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 A]%t0>EL< 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 Ef!p:HBJ 堆栈可以固定到基底的一边或两边 O
f @#VZ
uE`|0 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 lkg*AAR?' _i@eOqoC 堆栈编辑器 zN)\2 .{a2z*o
{WeXURp&nF ko2j|*D6@~ 堆栈编辑器 F(~_L. A=d$ir
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kseJm+Hc 涂层倾斜光栅介质 "IS^ajaq 6oh@$.ThG 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 Y*cJ4hQ 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 `Uj?PcS_ 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 ]~S+nlyd< 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) `{lAhZ5 ,]_(-tyN|
G? gXK W (e3Gs+; 涂层倾斜光栅介质 6.h <-B"|u
!aw#',r8m =Z .V+ 4+ 涂层倾斜光栅介质 O& %"F8B 堆栈周期允许控制整个配置的周期 N46$EsO!h 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 9_WPWFO 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 K}E7|gdG 795Jwv
EH*ym#Y 14n="-9 涂层倾斜光栅介质参数 WCmNibj /E{dM2
G k"L%Zt) H]$=*(aje 涂层倾斜光栅介质参数 AOlt,MNpQ vo6[2.HS
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SU%rWH 高级选项&信息 d9-mWz(V+ 在传输菜单中,多个高级选项可用 ?(/j<,m^ 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 O(D5A?tv! 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 iQ|,&K0d] 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 leES YSY: 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 k'ZUBTRq! N`<4:v[P
x #tu !q$&JZY 高级选项&信息 {nQ)4.e6 高级选项标签提供了结构分解的信息 MO~~=]Y' 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 5Hwo)S]r 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 \%Ah^U)gS 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 v= *Bb3dt FS`vK`'
|ON&._`LH h-La'}>? 高级选项&信息 i'Y'HI 50`iCD
Ac[|MBaF j(%gMVu 高级选项&信息 m+Q5vkW HCJ8@nki
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ke}Y2sB 体光栅介质 e|b~[|;*= {}g %"mi# 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 rmPne8D=c( 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 i!Dh&XT 同时,两个平面界面作为介质的边界
coF T2Pq oI_oz0nHk
DIG0:)4R. 'T )Or,d 体光栅介质参数 1iNsX\M qukjS#>+ 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 kRN|TDx( 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 )@Zc?Da 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 Jt2,LL:G 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) rb:<N%*t v}F4R $
+X:J]-1) qnq%mwDeD 体光栅介质参数 Hs"%
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]{IR&{EI- &GdL 9!hH 高级选项&信息 1mJbQ#5 jDlA<1
2Vp>" [3j$ 4rP 高级选项&信息 L!;^#g \npz.g^c_
j|VXC(6P, L]k*QIn:h 在探测器位置处的备注 9?uqQ 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 |Du,UY/ 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 'FShNY5 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 ?SC3Vzr 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) ow2M,KU6Z 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 XnBm`vk?V! w$gSj/
$brKl8P JAc@S20v\ 文件信息 IWAj Mwo 89zuL18V
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MWBXs75I 'sj9[o@] QQ:2987619807 ]{YN{
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