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infotek 2020-10-10 09:16

使用特殊介质的光栅结构的配置

摘要 #+PbcL  
SXz([Z{)  
光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 3p W MS&  
wS0bk<(  
\AzcW;03g[  
1[`<JCFClc  
该用例展示了… #Vigu,zY  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 8w[EyVHA  
倾斜光栅介质 3raA^d3!?  
体光栅介质 >NA7,Z2.  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 8|NJ(D-$  
oLMi vy4  
,P@-DDJ  
3rg^R"&  
光栅工具箱初始化 zpqNmxmF  
a?~csP^?}  
vqi$}=%n?W  
 初始化 MjC%6%HI  
开始-> l|em E ^  
光栅-> veg!mY2&  
通用光栅光路图 ok2~B._+;  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 H`lD@q'S  
光栅结构设置  ja- ~`  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 A]%t0>EL<  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 Ef!p:HBJ  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 O f@#VZ  
uE`|0  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 lkg*AAR?'  
_i@eOqoC  
堆栈编辑器 zN)\2  
.{ a2z*o  
{WeXURp&nF  
ko2j|*D6@~  
堆栈编辑器 F(~_L.  
A=d$ir K[  
kseJm+Hc  
涂层倾斜光栅介质 "IS^a jaq  
6oh@$.ThG  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 Y*cJ4hQ  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 `Uj?PcS_  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 ]~S+nl yd<  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) `{lAhZ5  
,]_(-tyN|  
G? gXK W  
(e3Gs+;  
涂层倾斜光栅介质 6.h   
<-B"|u  
!aw#',r8m  
=Z .V+4+  
涂层倾斜光栅介质 O& %"F8B  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 N46$EsO!h  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 9_WPWFO  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 K}E7|gdG  
795Jwv  
EH*ym#Y  
14n="-9  
涂层倾斜光栅介质参数 WCmNibj  
 /E{dM2  
Gk"L%Zt)  
H]$=*(aje  
涂层倾斜光栅介质参数 AOlt,MNpQ  
vo6[2.HS  
n~)HfY  
SU%rWH  
高级选项&信息 d9-mWz(V+  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 ?(/j<,m^  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 O(D5A?tv!  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 iQ|,&K0d]  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 leES YSY:  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 k'ZUBTRq!  
N`<4:v[P  
x #tu  
!q$&JZY  
高级选项&信息 {nQ)4.e6  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 MO~~=]Y'  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 5Hwo)S]r  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 \%Ah^U)gS  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 v=*Bb3dt  
FS`vK`'  
|ON&._`LH  
h-La'}>?  
高级选项&信息 i'Y'HI  
50`iCD  
Ac[|MBaF  
j(%gMVu  
高级选项&信息 m +Q5vkW  
HCJ8@nki  
$K?T=a;z  
ke}Y 2sB  
体光栅介质 e|b~[|;*=  
{}g %"mi#  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 rmPne8D=c(  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 i!Dh &XT  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 coF T2Pq  
oI_oz0nHk  
DIG0:)4R.  
'T)Or,d  
体光栅介质参数 1iNsX\M  
qukjS#>+  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 kRN|TDx(  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 )@Zc?Da  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 Jt2,LL:G  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) rb:<N%*t  
v}F4R $  
+X:J]- 1)  
qnq%mwDeD  
体光栅介质参数 Hs"% S  
a[1sA12  
]{IR&{EI-  
&GdL 9!hH  
高级选项&信息 1mJbQ#5  
jDlA<1  
 2Vp>"  
[3j$ 4rP  
高级选项&信息 L!;^ #g  
\npz .g^c_  
j|VXC(6 P,  
L]k*QIn:h  
在探测器位置处的备注 9?uqQ  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 |Du,UY/  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 'FShNY5  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 ?SC3Vzr  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) ow2M,KU6Z  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 XnBm`vk?V!  
w$gS j/  
$brKl8P  
JAc@S20v\  
文件信息 IWAj Mwo  
89zuL18V  
U r^YG4(  
MWBXs7 5I  
'sj9[o@]  
QQ:2987619807 ]{YN{  
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