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infotek 2020-10-09 11:52

斜光栅的高级配置

摘要 -7C=- \]  
AR[M8RA  
VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 {4V:[*3  
{kY`X[fvZ  
IAt+S-q0  
//4p1^%  
介质目录中的斜光栅介质 !Cv<>_N).  
0zq\ j  
:#"OCXr  
i >/@]2  
 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 MZhJ,km)  
 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 @Z1?t%1  
g'l7Jr3  
斜光栅介质的编辑对话框 vp9E}ga  
*< SU_dAh  
X~/ 9Vd g  
sjVl/t`l  
 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 =,} !Ns{k  
 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 hF{mm(qyv  
 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。
8)Bn?6.  
斜光栅介质的编辑对话框 fSb@7L  
{3 yws 4  
g]hn@{[  
7C 6BZ$(  
 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 nh_xbo5L[  
 以下参数可用: j(2tbWg9-  
- 填充率(定义光栅的上部分和下部分) epm8N /  
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ,19"[:WN  
- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) i\c^h;wX  
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) i OA3x 8J  
[E&"9%K  
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
1,sO =p)Yg  
aG&kl O>m  
斜光栅介质的编辑对话框 l'X?S(fiV  
;Q%19f3,6  
Ffqn|} gb  
/-} p7AM  
 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 @C6DOB  
 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 a>e 1jM[  
[;\< 2=H  
斜光栅介质的编辑对话框 Sv[_BP\^h  
O#ajoE  
{hp@j#  
<Ucfd G&Lp  
hB1iSm  
 首先,必须选择涂层材料。 "Kf~`0P  
 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 EwJn1Mvq  
 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 ZtZV:re=  
dJgOfg^  
斜光栅的编辑对话框 rAi!'vIE  
'48|f`8$  
st^N QL  
q>h+Ke  
vG=$UUh@~  
 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 gf8U &;  
 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 m(Xr5hw:6  
rY+1s^F  
堆栈使用的评论 Nd!=3W5?  
ymJw{&^am  
A ba%Gh  
JaN_[ou  
[WSIC *|;  
 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 mAERZ<I  
 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 U-N/Z\QD  
 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 4E94W,1%,Y  
 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 YZ+g<HXB  
E^ti !4{<  
斜光栅介质的采样配置 gDBQ\vM8  
_\6(4a`,  
斜光栅介质采样 qf{B  
,3[<C)'[  
3`!KndY1  
 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 c3BL2>c  
 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 YA8~O5  
 在右边,显示了介质的预览。 sM_e_e  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 6XU5T5+P^  
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^!tI+F{n{  
采样斜光栅#1 BS.6d}G4  
m^+ ~pC5  
U$Z}<8  
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采样斜光栅#2 G-<~I#k  
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采样斜光栅#3 `7ZJB$7D|*  
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采样斜光栅#4  p-kqX  
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文档信息 2D"/k'iA  
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