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infotek 2020-10-09 11:52

斜光栅的高级配置

摘要 (lWKy9eTy`  
<|dj^.^  
VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 %((cFQ9  
P59uALi  
4i96UvkZ  
%rFllb7  
介质目录中的斜光栅介质 ,QL(i\  
j5A\y^Kv  
Q5T(nEA  
+9}' s{  
 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 o7QK8#  
 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 PJ6$);9}6  
fcn_<Yh0W  
斜光栅介质的编辑对话框 L]a|vp  
L`JY4JM"  
2q$X>ImI$  
6z`8cI+LRw  
 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 x6~Fb~aP  
 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 u4xA'X'~R  
 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。
3_@G{O)e  
斜光栅介质的编辑对话框 B4 <_"0  
J b|mXNcL  
$$/S8LmmK  
H;X~<WN&AW  
 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 _]Z$YM  
 以下参数可用: vkh;qPD  
- 填充率(定义光栅的上部分和下部分) hXBqz9  
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) \J\vp0[nO}  
- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) Q9nu"x %  
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 2voNgY  
gZ ~y}@L y  
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
W|FNDP0  
*Y^5M"AB_  
斜光栅介质的编辑对话框 CVi<~7Am\  
MEDskvBG  
/}[zA@  
ta2z  
 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 7?*~oVZW  
 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 pvI&-D #}  
w2s,  
斜光栅介质的编辑对话框 N n:m+ZDo^  
9n-RXVL+  
Q9SPb6O2  
`<bCq\+`  
vBV"i9n   
 首先,必须选择涂层材料。 ?m`R%>X"  
 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 %Tk}sfx  
 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 5Xla_@WLW  
;o&_:]S  
斜光栅的编辑对话框 P2s^=J0@  
!<JG&9ODP  
O7E;W| ]  
^S>!kt7io  
^2(";.m  
 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 tauP1&%oH{  
 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 tVK?VNW  
]g>T9,)l  
堆栈使用的评论 Yf%[6Y{  
k B$lkl\C  
47$-5k30  
a2 IV!0x  
OqUE4. vIP  
 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 -uS7~Ww.a  
 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 mk$Yoz  
 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 >V77X+!  
 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 zcbA)  
+X4ttv  
斜光栅介质的采样配置 J:k@U42  
xQcMQ{&;  
斜光栅介质采样 C:TuC5Sr  
ZnxOa  
\Mh4X`<e  
 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 7zi^{]  
 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 Ji)a%j1V9  
 在右边,显示了介质的预览。 A_8`YN"Xk  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 bDcWb2 lqs  
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@vDgpb@TM  
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采样斜光栅#1  $Adp  
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采样斜光栅#2 ~gcst;  
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采样斜光栅#3 +"fM &F]  
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采样斜光栅#4 |M0,%~Kt  
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文档信息 oVxV,oH(  
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