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infotek 2020-10-09 11:52

斜光栅的高级配置

摘要 GiM-8y~  
s$fX ;  
VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 pg7~%E4  
Me? I8:/  
@#N7M2/  
v{ohrpb0v  
介质目录中的斜光栅介质 F <6(Hw#>  
x*'H@!!G  
5psJv|Zo]  
;zo|. YD  
 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 [pm IQ228  
 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 u=W[ S)w  
_4L6  
斜光栅介质的编辑对话框 =. \hCgq  
b-#{O=B  
8UgogNR\  
i.Y2]1  
 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 sU*?H`U3d  
 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 %CvVu)tc  
 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。
'm6bfS^T  
斜光栅介质的编辑对话框 <&) hg:  
-2[4 @  
6.KEe^[-  
\ HUDZ2 s  
 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 1Hr1Ir<KR  
 以下参数可用: :n{{\SSIgX  
- 填充率(定义光栅的上部分和下部分) h6O'"  
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) RnRUJNlaG  
- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) Cx/J_Ro#  
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) _Y&.Nw  
2AhfQ%Y=  
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
9d/- +j'  
|X A0F\  
斜光栅介质的编辑对话框 &uO-h  
>FOCdlJ#  
1~~GF_l?  
k]r4b`x`  
 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 yc3/5]E&  
 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 -`\^_nVC  
&Lt$~}*&6  
斜光栅介质的编辑对话框 ?uL-qsU  
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Ym\<@[3+!  
^(C4Q?[2m  
LkzA_|8:D  
 首先,必须选择涂层材料。 8+gp"!E  
 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 I9+h-t  
 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 RDHK'PGA  
K.wRz/M& g  
斜光栅的编辑对话框 d1c+Ii%  
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SS`\_@ci  
W =Bw*o-  
XtZd% #2},  
 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 ,qp8Rg|3j  
 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 w{[^  
rL"]m_FK  
堆栈使用的评论 5&EBU l}  
g.`Ntsi$wI  
L7(FD v,?  
8VQ!&^9!U#  
#>:S&R?2t  
 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 1I69O6"  
 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 fm^`   
 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 +l)t5Mg\  
 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ub>:dNBN  
UTu~"uCR  
斜光栅介质的采样配置 Pm2LB<qS  
ai?J  
斜光栅介质采样 v8 =#1YB;  
9<3}zwJ  
__tA(uA  
 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 }qp)VF  
 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 j?o6>j  
 在右边,显示了介质的预览。 V 1d#7rP  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 "wZvr}xk  
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采样斜光栅#1 :qj^RcmVPL  
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采样斜光栅#2 ' #=n>  
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采样斜光栅#3 }[!=O+g O  
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采样斜光栅#4 cj GN=|`u  
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文档信息 lAo~w  
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