| infotek |
2020-09-01 09:59 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 Y4 i-Pp? "8-]6p3u 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 k -SUp8}g UZ<!(g.
MPT[f 概述 5L4~7/kj `T-(g1:9 t+vn.X+& •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 sl)_HA7G •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 @]A4{ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 I3SLR K$rH{dUM
nGRF<2! }C) 衍射级次的效率和偏振 PPohpdd) =Y89X6 ^7(zoUn: •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 50CU| •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 r|&qXb x •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 qD%Jf4.0j •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 -tDmzuD6 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 gllXJM^ -
JK,k@RE y] T9u/|OP 光栅结构参数 W$,c]/u| Ij#?r2Z% 5^tL# •此处探讨的是矩形光栅结构。 27;*6/>, •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 S9mj/GpL3 •因此,选择以下光栅参数: 5HmX-+XpK - 光栅周期:250 nm Lx2.E1?@ - 填充系数:0.5 Nn%{Ka - 光栅高度:200 nm &C?]n.A - 材料n1:熔融石英 kRG-~'f%` - 材料n2:TiO2(来自目录) p7|~x@q+ _pW\F(+8
MvObx'+ ]{dg"J 偏振状态分析 mw.9cDf X1$0'usS i5|!MIY •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 2TY|)ltsF •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 xez~Yw2 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 {V8v
c^I_~OwaE
Uw4KdC MLaH("aen 产生的极化状态 M,:GMO:?a ]Y:|%rvVH
4K:p
s&z+j%;+o NfKi,^O 其他例子 8L.Y0_x oT.g@kf=H 2{g~6U. •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 H$WuT;cTE •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 KI#),~nS H7*/
&R>x;&Gj ,+%$vV
.g\ 光栅结构参数 HLa|ycB% #~ UG9@a r0}Z&>]66N •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Kp8!^os •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 z1_\P) M •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 $!ka8)
~ •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 G5?Dt-;I
}JoCk{<31 &.;t dT7 光栅#1 /N]?>[<NW O$LvHv!
UC3?XoT\ z^O>'9# m^% [ •仅考虑此光栅。 >kd&>)9v •假设侧壁表现出线性斜率。 &Nt4dp`qj •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 OcwD<Xy •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Mq8jPjL TnCN2#BO ^LX1&yT@ 假设光栅参数: D*I%=);B_ •光栅周期:250 nm N)WAzH •光栅高度:660 nm :"|}oKT%mP •填充系数:0.75(底部) hj4Kv •侧壁角度:±6° /9QI^6&SX •n1:1.46 Z>{3t/` •n2:2.08
/MO|q |ffM6W1: 光栅#1结果 ehPrxIyC ;3-5U&Axt ]=m
'| 0} •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Yw vXSA •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Wf +j/RxTi •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 mvyqCOp 0 D4?5% s
!
jm> Uo#%f+t 光栅#2 TLU^ad#9E k,LeBCqGcb
.;8T* b7^VWX% |X,T>{V?y •同样,只考虑此光栅。 S~.:B2=5K •假设光栅有一个矩形的形状。 PF+v[h;, •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 <O>1Y09C/ 假设光栅参数: A]id*RtY •光栅周期:250 nm >
SU2Jw •光栅高度:490 nm .^6"nnfA# •填充因子:0.5 ] cdKd ) •n1:1.46 VImcW;Xa •n2:2.08 t9685s q$ (@ 光栅#2结果 e
"5S; {7LO|E}7 T0J"Wr>WY •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 u=JI 1 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ]([:"j •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 E5(\/;[*` y w)q3zC
po~V{>fUm 文件信息 0!!b(X( I0trHrX9
fOs"\Y4 9tvLj5~ gDU~hv QQ:2987619807 'yu M=Pb
|
|