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2020-09-01 09:59 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 %/Bvy*X& Z~_8P 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 r
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.x>HA^4 概述 9N^+IZ@l VE*j*U
j fQP,= •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 @ R UP$ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 h mds(lv7 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 8!;$qVt <>n9'i1
<&6u]uKrW VjY<\WqbS 衍射级次的效率和偏振 ljuNs@q l^
Rm0t_ UP]1(S? •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 :pb67Al29 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 ~o i)Lf1 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 .$P|^Zx, •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 =},{8fZ4 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 zA,/@/'(
l=xt;c! *<xrp*O 光栅结构参数 _0.pvQ Fe5jdV< G0pBR]_5z$ •此处探讨的是矩形光栅结构。 C 0>=x{,v •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 L_k9g12 •因此,选择以下光栅参数: %Ci^*zb - 光栅周期:250 nm Qm; BUG] - 填充系数:0.5 JN|VPvjE - 光栅高度:200 nm >T QZk4$ - 材料n1:熔融石英 rd">JEK;; - 材料n2:TiO2(来自目录) yhwy>12,K v&r=-}z2!
VGB-h' *Q5x1!#z# 偏振状态分析 !)nD xM`p >D~w}z/fk =U
c$D* •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 -%H%m`wD •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 8kS~ENe?o •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 {@45?L(' ami09JHy
+6oG@ P5Dk63z] 产生的极化状态 8 URj1 W >(3'Tnu
vd(dNu&,<
kW+G1| lLMPw}r< 其他例子 C\A49q {xToz]YA H-2_j •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 '?8Tx&}U8 •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 N+J>7_k vhpvO>Q
8YKQItK X4'kZ'Sy< 光栅结构参数 N Bz%(?\ LABNj{=D! 'hF@><sqk •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ($SLb6 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 1eD.:_t4 •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 aq kix"J •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 n_9x"m$
;UpJ=?W )x[HuIRaa 光栅#1 J=9 #mOcg" T>F9Hs W
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73l o\goE^,aeR N5!&~~ •仅考虑此光栅。 c&m9)r~zP •假设侧壁表现出线性斜率。 ^/a*.cu •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 |!}wF}iLc) •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 :1MMa6 )8'jxiGs OD|1c6+X 假设光栅参数: N,|r1u 9X# •光栅周期:250 nm H#Q;"r 3 •光栅高度:660 nm hy!6g n •填充系数:0.75(底部) rN#\AN •侧壁角度:±6° agT7=hX]. •n1:1.46 j|(:I: ] •n2:2.08 Y&GuDLUF m8AAp1= 光栅#1结果 'HB~Dbq`V Xm@aYNV t7^D-l •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 "i%jQL'. •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 =~JfVozU •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 ,]q%/yxi L[]BzsIv
_-TOeP8#94 3+9
U1:1[. 光栅#2 ERC<Dd0 s.rT]
-)RJ\V^{9 N9`97;.X
iRs V#s •同样,只考虑此光栅。 !
Rvn'|! •假设光栅有一个矩形的形状。 1R^4C8*B •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 G#lg|# -# 假设光栅参数: I.a0[E/, •光栅周期:250 nm Hg whe=P •光栅高度:490 nm Ux_<d?p •填充因子:0.5 j+Zt.KXjT •n1:1.46 9wMEvX70 •n2:2.08 (I~\,[ 4E'|.tt( 光栅#2结果 @yKZRwg rKp1%S1 2d~LNy •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 bKUyBk,\# •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 O<`,,^4w/ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 .YC;zn^ )!a$#"'
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