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2020-09-01 09:59 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 k$:|-_(w &_8947 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 {R{=+2K!|k a(ZcmYzXU
j3ls3H& 概述 +:/%3}` b"
[|:F>P HTTCTR •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 {?7Uj •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 -yNlyHv9 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 %mgE;~"& Q22 GIr
ba9?(+i$h es0hm2HT3 衍射级次的效率和偏振 Ab;.5O$y #,'kXj Lu%b9Jk •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 @IZnFHN •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 m.0*NW •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 [mueZQyI?0 •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ql~J8G9 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ;q>ah!"k
>=w)x,0yX i,VMd 光栅结构参数 {id4:^u&; @>7%qS _,*r_D61S •此处探讨的是矩形光栅结构。 <%mRSv •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 ;qV>L=a •因此,选择以下光栅参数: G^@5H/) - 光栅周期:250 nm RPbZ(. - 填充系数:0.5 h;'~,xA - 光栅高度:200 nm +
>!;i6| - 材料n1:熔融石英 Vi|#@tC' - 材料n2:TiO2(来自目录) 3PF_H$`oJ qmP].sA
b7ZSPXV ?gXp*>Kg[ 偏振状态分析 b#o|6HkW gnHbb-<i, ksm~<;td •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 iU:cW=W|M\ •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 y|jq?M<A •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 tQ601H>o yIE!j%u
IAyp 2 ]I6 J7A[ 产生的极化状态 .jK4?}] 3__-nV
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dQG=G%W ,/U6[P_C5 其他例子 rSNi@; >.D4co> G KeU%x •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 {\\Tgs •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 O33`+UV"W 4I(Xy]wm
&,)&%Sg[ 7x8
yxE 光栅结构参数 o;RI*I ,tRj4mx DIUjn;>k8 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ;O#>Y •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 rW#T
vUn •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 @KUWxFak •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 M'l ;:
#|``ca54B o<!?7g{ 光栅#1 .o}v#W+st {7pli{`
%xt^698&X #Rr%:\* ]]Ufas9 •仅考虑此光栅。 !1b;F*H •假设侧壁表现出线性斜率。 9MqGIOQ${j •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 8a"%0d# •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 S`]k>'
l Dum9lj -D~%|).' 假设光栅参数: ]J]h#ZHx •光栅周期:250 nm M"To&?OI •光栅高度:660 nm e@YK@?^#N •填充系数:0.75(底部) +qdEq_m •侧壁角度:±6° Uoix •n1:1.46 Ef{Vp;] •n2:2.08 '/%H3A#L Yu`~U,m 光栅#1结果 [opGZ`>)j" pI<f) r _h1mF<\ X^ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 _u9Jxw?F@Y •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 [=`q>|;pOv •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 |! "eWTJ 11;zNjD|
MnW+25=N FML(4BY, 光栅#2 P0jtp7)7 8*a&Jl
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.qUBPKX Q=yg8CQ jZrq{Z< •同样,只考虑此光栅。 Eu04e N •假设光栅有一个矩形的形状。 eh#(eua0/ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 IMONgFBS 假设光栅参数: 0+b1vhQ •光栅周期:250 nm K!l5coM •光栅高度:490 nm 2^yU ~`# •填充因子:0.5 3"\l u?-E •n1:1.46 8DaL,bi*. •n2:2.08 Q#zmf24W mpJ#:}n 光栅#2结果 d m%8K6| ^pk7"l4Xm Aq7osU1B •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 ufT`"i •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 X!g#T9kG •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 qJUK_6|3 @U}1EC{A
Pk)1WK7E 文件信息 K@hw.Xq" [j'X;tVX{
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