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infotek 2020-09-01 09:59

衍射级次偏振状态的研究

摘要 kic/*v\6@  
jO!y_Y]B  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 no< ^f]33  
.=X}cJ]`[  
/f|X(docI  
概述 .6`9H 1  
bdQ_?S(  
4}4Pyjh  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 %F-ZN^R  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 m^GJuP LW  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 J"=vE=  
A?-oL='  
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衍射级次的效率和偏振
`Ye\p6v!+  
Y#u}tE d  
}j*KcB_  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 6^%68N1k  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 =jX8.K4]  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ]3KhgK%c8  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 }>VG~u8  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 c6X}2a'  
763v  
gG-BVl"59  
光栅结构参数 iVy7elT;R  
YN!>}  
-Xxqm%([71  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 `"&d a#N]  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 rzh#CnL3  
•因此,选择以下光栅参数: bpKZ3}U  
- 光栅周期:250 nm |aT| l^2R@  
- 填充系数:0.5 `<\1[HJ\  
- 光栅高度:200 nm +(C6#R<LI  
- 材料n1:熔融石英 G|( ]bvJ?  
- 材料n2:TiO2(来自目录) \Dd-Xn_b  
ds?v'|  
kX>f^U{j  
1#0{@35  
偏振状态分析 =y/8 ^^  
b#K:_ac5  
AO=h 23ZI  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 l)!n/x_ !  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 TW[_Ko86  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 /XhIx\40 l  
/)4I|"}R0I  
,:Lb7bFv>  
ad:&$  
产生的极化状态 OU/MiyP2  
qeL5D*  
*X, /7C   
m"o ;L3  
Qt/8r*Oe  
其他例子 }w1~K'ck}>  
sK7+Q  
rxy&spX  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 /ig:9R  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 T)Y=zIQ1]7  
2EfF=Fm>  
jSwf*u  
lhw ,J]0*  
光栅结构参数 CC@.MA@9N  
H<}^'#"p  
DBCK2PlJ  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 >&p0d0  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 vh*U]3@  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 uvV;Mlo]  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 RW}"2  
~Q>_uw}g#  
tWoh''@#  
光栅#1 |'{zri|A"  
|"9 #bU  
$.GOZqMs  
w );6K[+;  
]- 4QNc=  
•仅考虑此光栅。 ijdXU8  
•假设侧壁表现出线性斜率。 k:#P|z$UD  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 CJXg@\\/  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 K"[AxB'F  
{FG|\nPw  
TM|)Ljm  
假设光栅参数: 6'RrQc=q  
•光栅周期:250 nm aBw2f[mo  
•光栅高度:660 nm [w&$|h:;  
•填充系数:0.75(底部) EB_NK  
•侧壁角度:±6° NbGV1q']  
•n1:1.46 3Bx:Ntx<  
•n2:2.08 C,pJ`:P  
KhW;RD  
光栅#1结果 nE^Qy=iE  
ZU9c 5/J  
SY^dWLf  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Sf,R^9#|  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 )h8\u_U  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
U=o"32n+  
j`*#v  
Myq5b`z  
8-Hsgf.*  
光栅#2 \a=D  
p!<$vE  
nYt/U\n!  
QEu=-7@>  
h'$ 9C  
•同样,只考虑此光栅。 Xe^Cn R  
•假设光栅有一个矩形的形状。 %T[^D&9$,  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 H=\!2XS  
假设光栅参数: Q26qNn bK  
•光栅周期:250 nm %O<%UmR  
•光栅高度:490 nm , E$@=1)  
•填充因子:0.5 jh.@-  
•n1:1.46 !Y:0c#MPH  
•n2:2.08
KV*xApb9y  
j$7Xs"  
光栅#2结果 W(Uu@^  
@5[kcU>  
5&e<#"  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 [F[K^xYTlg  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 *\o/q[  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 bI y sl  
S#-tOj U*  
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文件信息 s-7RW  
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