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2020-09-01 09:59 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 T[,/5J :8 jhiB) 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ddfs8\ ?OE.O/~l
Xcrk;!IB? 概述 ({-GOw46 !).}u,*'no yz-,)GB6 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 {NPuu?& •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 <+^6}8- •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 "p/j; 6H e$u4vC~
3m>+-})d .s<*'B7& 衍射级次的效率和偏振 Yly@ww9t| S#-wl2z aWwPvd3 •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 R*oXmuOsYA •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 I=7Y]w= •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 t~e<z81p •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ,bM-I2BR •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 'zEI;v
bn(`O1r[( Q.9qImgN 光栅结构参数 1=|7mehL% WYIQE$SEv 3#vinz •此处探讨的是矩形光栅结构。 [97KBoSU •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 RrhT'':[ •因此,选择以下光栅参数: j
,)P9V - 光栅周期:250 nm SFb{o<0 = - 填充系数:0.5 kW`r= u - 光栅高度:200 nm .fi/I - 材料n1:熔融石英 >Jw6l0z - 材料n2:TiO2(来自目录) T"p(]@Ng zOHypazOTq
o7TN,([W WEa2E?* 偏振状态分析 @v}B6j b; k-E{d04-2 fQ'.8'>T •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 =(EI~N •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 O<jPGU •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 }C
/] ~"lJ'&J}
6cdMS[_SD( BR v+.(S 产生的极化状态 q8Nn%o=5V >tG+?Y'{
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TZ;p0^( (>=7ng^ 其他例子 >sD4R}\}) Olfn "o&HE@t •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ?(
=p<TUw •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 x|0:P sE b?Pj< tA
%d m-?` Eq^uKi 光栅结构参数 D-IR!js ] mPPk)qy 4KI [D{ •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 _Mc>W0'5@ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Ch_xyuJ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 CKlL~f EL •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 WlV
z,t'if
B|%tE{F b[@VYa 光栅#1 'R9g7,53R W~ULc9
~%ozgzr^ ;pJ2V2 g8 4ZC!SgJo •仅考虑此光栅。 m-V02's •假设侧壁表现出线性斜率。 @!Hr|k| •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 .wK1El{bf •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 k_GP>b\"k la$%H<,7 !EF(*~r!9L 假设光栅参数: OQ4c#V? •光栅周期:250 nm rrs"N3!aT •光栅高度:660 nm M R'o{?{e` •填充系数:0.75(底部) BF8"rq}r0 •侧壁角度:±6° Qbeeq6 •n1:1.46 5IqQ |/m<6 •n2:2.08
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$R^AEa7 光栅#1结果 -s__E :Gh~fm3} .~=HgOJ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 $v}<' •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Zv qn%K], •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 dl l%4Sd BH@b1}
xi'<y 6ri#Lw 光栅#2 h3Fo-]0 TYjA:d9YH
I__ 4I{nI We`'>'W0 8SnS~._9 •同样,只考虑此光栅。 [cU,!={ •假设光栅有一个矩形的形状。 }fIqH4bp •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 +nZRi3yu= 假设光栅参数: xRDiRj •光栅周期:250 nm `1p 8C% •光栅高度:490 nm EychR/s •填充因子:0.5 A%ywj'|z •n1:1.46 zTCP)x •n2:2.08 "S(X[Y' C|z%P}u#p 光栅#2结果 X<MpN5%|Wo f\ "`7 ~v:#zU •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 E`p'L!z •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 WOndE=(V •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 %my rS~qi}4X
izt^Wi| 文件信息 /jrY%C qj?2%mK`
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