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2020-09-01 09:59 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 0/K NXz v!`M=0k 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 w#b~R^U <E\BKC%M ;pB?8Z 概述 FpRK^MEkG %n}]$
d G>_ZUHdI •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 SyYa_=En •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 U |4%ydG •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 mI`dZ3h F37,u| 7SqsVq`[~ x@k9]6/zs 衍射级次的效率和偏振 A`r&"i OKA f:utw T Ta[}k/zW •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 P7Y[?='v •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 lMO0d_:b1 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 /r?X33D! •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 zR<jZwo]# •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 (8ymQ!aY yz+r@I5 ja>T nfu 光栅结构参数 \dc`}}Lc Y.C*|p# G/`_$ c •此处探讨的是矩形光栅结构。 iCEX|Tj; •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 ?NwFpSB2 •因此,选择以下光栅参数: O>>8%=5Q - 光栅周期:250 nm A=3U4L - 填充系数:0.5 W.CIyGK - 光栅高度:200 nm 7v:;`6Jb - 材料n1:熔融石英 n_+Iw,a'm - 材料n2:TiO2(来自目录) [,e_2< @)0gXg "{:*fI;! HU'E}8%t6 偏振状态分析 l:[=M:#p R`<E3J\* qj/P4 *6E •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 e'?(`yW> •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 GS^4tmc •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 d8K^`k+x }$UFc1He\J 2]'ozs$|v jW*A(bK8: 产生的极化状态 _8`|KY T<?;:MO88 ~& l`" HvngjP{> 0j yokER 其他例子 s0h)~z 8;5/_BwMu Yl f4q/- •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 WV% KoM,% •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Xgm7>=l 8,=$>@u -Z@p
prWid3} 光栅结构参数 g=%&p?1@E 83n: h08 0Nfj}sXCWE •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 h
Na<LZ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 rx"zqm9 }u •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 K$Ph$P@ •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Zry>s0 kmS8>O QJ/SP 光栅#1 6IX!9I\sT We ->d |= fS~.K9 ,y >Na{@Y P8jK
yo •仅考虑此光栅。 40<&0nn •假设侧壁表现出线性斜率。 2*|]#W •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 cm]]9z_< •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 %L/=heBBd u62sq: GjH g U?) 假设光栅参数: piP8ObGjy •光栅周期:250 nm ~JXHBX •光栅高度:660 nm J-}NFWR;t •填充系数:0.75(底部) =T-w.}27O •侧壁角度:±6° o;[oy#aWl_ •n1:1.46 nqBuC •n2:2.08 _(hwU>. 82X. 光栅#1结果 +@Y[i."^J j#& Trrh`@R •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。
q0~_D8e, •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ?@1'WD t •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 E(@;p%: -)oBh H[D/Sz5` asg>TOW 光栅#2 pd#/;LT fDd!Mt &f*d FUM]I |=LkV"_v K>[H@|k\k
•同样,只考虑此光栅。 W%1S:2+Kl •假设光栅有一个矩形的形状。 zjA/Z( •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 q8Dwu3D 假设光栅参数: V5B-S.i@ •光栅周期:250 nm ^aXBt •光栅高度:490 nm ZkW@ |v
•填充因子:0.5 {rT`*P~ •n1:1.46 U3}R^W~eb •n2:2.08 qedGBl& |Z ,G
光栅#2结果 Aq!['G WM"^#=+$ 5F"?]'*/ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 lQBM0|n •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 Rs`a@Fn •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 ~-5@- V u7?juI#Cl +,Az\aT/% 文件信息 opMUt,4 s3{s.55{m KeB4Pae|V P0xLx %v[Kk-d QQ:2987619807 |a{]P=<q
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