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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 lf!FTm7  
]Qe{e3p;  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。  &CG*)bE  
q=9`06  
eVM/uDD  
{je-I9%OK  
建模任务 g{P%s'%*  
&zuG81F6  
E{n:J3_X^d  
概观 +a*^{l}AST  
!0dNQ[$82  
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光线追迹仿真 /-i !;!  
kWrp1`  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 q]\g,a  
s\P2Bp_{  
•点击Go! v%RP0%%{s  
•获得3D光线追迹结果。 g=e71DXG2  
 ]$,UPR/3  
fks)+L'  
1Zi,b  
光线追迹仿真 \~5C7^_  
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s|NjT  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 O/!bG~\Y  
•单击Go! !S_^94b@  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 5j-]EJb  
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1NcCy! +  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 U. @*`Fg  
•单击Go!
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SM^-Z|d?  
场追迹结果(摄像机探测器) a:_I  
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TET`b7G  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 .%82P(  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 X~xd/M=9^  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 `~W-Xx  
U`]T~9I  
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场追迹结果(电磁场探测器) .E@|D6$D  
3bNIZ#`|MB  
.WQ+AE8Q  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 ILic.@st  
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QQ:2987619807 3.)b4T  
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