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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 %us#p|Ya  
`PT'Lakf;3  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 as(Zb*PdH  
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建模任务 :_h#A }8Xd  
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概观 lMgPwvs'  
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光线追迹仿真 iikMz|:7U  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 yG^pND>_df  
x->+w Jm@s  
•点击Go! S4pEBbV^n  
•获得3D光线追迹结果。 L9]d$ r"  
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m%b# B>J,n  
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光线追迹仿真 ^I{/j 'b&  
A6 RwLX  
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•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 nG-DtG^z  
•单击Go! 5z:#Bl-,L  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 F\jawoO9  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 P-DW@drxF  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) P&yB(M-z  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :? s{@7  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 wB:<ICm  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 Ro;I%j  
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13 %: 3W(  
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场追迹结果(电磁场探测器) p=\Q7<Z6d,  
<+<Nsza  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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T=RabKVYP  
S~R[*Gk_uT  
文件信息 li{!Jp5]1b  
Ug384RzHN  
Hv2[=elc  
@>8 {J6%\  
O<ybiPR  
QQ:2987619807 skU }BUK6  
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