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高NA物镜聚焦的分析
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infotek
2020-08-27 09:30
高NA物镜聚焦的分析
摘要
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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建模任务
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概观
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光线追迹仿真
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
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•点击Go!
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•获得3D光线追迹结果。
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光线追迹仿真
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•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
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•单击Go!
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•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
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•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器)
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
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•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
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Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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场追迹结果(电磁场探测器)
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息
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