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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 'Rw] C[  
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ]arskmB]  
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L4Y3\4xXO  
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建模任务 WfO$q^'?DP  
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i_ TdI  
概观 (.+n1)L?  
'PbA/MN  
Z"T(8>c;g  
光线追迹仿真 ENjD~S  
~riw7"  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 mj|9x1U)  
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•点击Go! TvwIro  
•获得3D光线追迹结果。 dig76D_[e  
5~0;R`D  
ji=po;g=E  
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光线追迹仿真 _3[BS9  
FR"^?z?}p  
KVy5/A/8c  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 hh}EDnx  
•单击Go! zxdO3I  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
ZW%`G@d"H-  
f'U]Ik;Jy  
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场追迹仿真 :nEV/"#F  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 4iW 2hV@m  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) g2q=&eI"  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ~]W8NaQB(  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 6B{Awm@v}X  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 $ 1ZY Vw  
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CG;D(AWR;  
?#m5$CFp  
场追迹结果(电磁场探测器) 9n7d "XD2  
,L G&sa"  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 qT4s* kqr  
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L')zuI  
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QQ:2987619807 ,+&j/0U  
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