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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 zKr\S |yE  
q@K;u[zFK  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 5[.Dlpa'7  
?;pw*s1Atz  
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C~PrIM?  
建模任务 GAONgz|ZI  
R=g~od[N_  
3.M<ATe^  
概观 lP*_dt9  
j(4BMk  
6 /^$SWd2  
光线追迹仿真 n?vw|'(}  
kwRXNE(k]_  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 |QwX  
2GNtO!B.  
•点击Go! !+tz<9BBY  
•获得3D光线追迹结果。 >e y.7YG  
|7Fe~TC  
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光线追迹仿真 #9aB3C  
[03$*BCq3  
T 9Jv  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 H)&6I33`  
•单击Go! %?K1X^52d  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 |=H*" (  
Ag1*.t|  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 1vlRzkd  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) ~B0L7}d  
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C2RR(n=N^  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 2_@vSwC  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 J [}8&sn  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 .a._WZF  
~A<1xszC  
l]Ozy@ Ib  
?n o.hf  
场追迹结果(电磁场探测器) !yAg!V KY  
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v'Y)~Kv@!  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 t}LV[bj1u  
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QQ:2987619807 bqEQP3t^  
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