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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 dArg'Dc4  
2LiJ IO8N  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ~Z=Q+'Hu0  
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gH,^XZe  
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建模任务 quTM|>=_R  
4@u*#Bp`|  
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概观 d!D#:l3;  
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U,gg@!1GJo  
光线追迹仿真 ,gVA^]eDh  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 -v/1R1$e1  
c/jU+,_g  
•点击Go! J2f}{!b+I  
•获得3D光线追迹结果。 pV9$Vg?-H  
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yTm/P!1S  
光线追迹仿真 Bk_23ygO_  
AU -,  
h8&VaJ  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 <'>c`80@\*  
•单击Go! -,)&?S  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 0Dv r:]R  
A(V,qw8  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 2F%2K?$`Ej  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) O`j1~o<{  
Hb55RilC  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 !w2J*E\  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 uH="l.u  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ^SM>bJ1Z_  
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Q =9Ce@[  
场追迹结果(电磁场探测器) :d}I`)&  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 "'U+T:S  
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QQ:2987619807 u#!QIQW  
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