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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 n+F-,=0  
XL&eJ  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 YT%SCaU  
t=pkYq5t8  
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F~@1n ,[  
建模任务 WSB|-Qj}W  
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Vx4pP$S  
概观 Jm1AJ4mw  
$O</akn;  
Ckl]fy@D}  
光线追迹仿真 g:e8i~  
@LMV?  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ^~1@HcJo  
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•点击Go! uKAHJ$%  
•获得3D光线追迹结果。 xg1r 3  
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m4.V$U,H]  
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光线追迹仿真 3z. >b  
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9NoPrR=x1  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 = Ow&UI  
•单击Go! *oJ>4S  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
owVUL~  
F-OZIo  
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场追迹仿真 7Sv5fLu2  
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2{tJ'3  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 a}]@o"  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) x,*t/nzR  
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'GO..m"G  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 IIEU{},}z  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 2Yf;b9-k  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ;+Kewi;<  
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cG"<*Xi<  
Y##P9^zH1  
场追迹结果(电磁场探测器) q&S.C9W  
H;te)km}  
13@| {H CB  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 W8rn8Rh  
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QQ:2987619807 5Rp2O4Z  
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