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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 ,9zjFI  
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 q_A!'sm@)  
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建模任务 $_"'&zQ'  
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概观 rWa2pO  
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光线追迹仿真 1 ySk;;3  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 I9_RlAd  
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•点击Go! gmw|H?]  
•获得3D光线追迹结果。 h-q3U%R4}@  
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光线追迹仿真 ,8U &?8l  
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•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 )~)J?l3 {  
•单击Go! _.tVSV p  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 3]}D`Qs6  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 3% #3iZ=_  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) 'f!8DGix  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 4[m`#  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 n4;.W#\  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 EH+"~-v)ae  
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场追迹结果(电磁场探测器) u%&`}g  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 9&-dTayIz  
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QQ:2987619807 dN$0OS`s[  
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