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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 ]rehW}  
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 p)aeH`;O  
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建模任务 ]\-^>!F#K  
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概观 +4;uF]T  
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光线追迹仿真 ^G&3sF}  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 N6K* d` o  
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•点击Go! o[oM8o<  
•获得3D光线追迹结果。 8Jf.ECQT  
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光线追迹仿真 F+R?a+e  
=_$Qtq+h  
4[Z\ ?[  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 1b=lpw 1}  
•单击Go! A.<H>=Z# O  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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Vk< LJ S  
场追迹仿真 QaUm1 i#  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 XE^)VLH:  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) ?X@fKAj  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 2,ECYie^  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 YK|bXSA[  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ^u 3V E  
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x.Q&$#  
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场追迹结果(电磁场探测器) V_plq6z  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 nUkaz*4qU  
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N !TW!  
QQ:2987619807 !w&kyW?e  
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