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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 \bw71( Q  
Qw!cd-zc  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 8  k9(iS  
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建模任务 ,UopGlA ,  
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概观 ]:(>r&'  
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光线追迹仿真 oUIa/}}w5  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 -l+ &Bkf  
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•点击Go!  LKieOgX  
•获得3D光线追迹结果。 7}(wEC  
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光线追迹仿真 j*t>CB4  
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•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 \u ?z:mV  
•单击Go! UeV2`zIg`  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 'uBXSP#  
-BfZ P5  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ks< gSCB  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) y?GRxoCD"e  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 v^2K=f[nE  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 9#{?*c6  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 *X+T>SKL  
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场追迹结果(电磁场探测器) &?YbAo_K  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 Ar7vEa81  
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T V\21  
QQ:2987619807 EL$l . v  
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