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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 ^#_gk uyd!  
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 IK -vcG  
Ik:G5m<ta  
"hyfo,r  
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建模任务 =Vg~ VD   
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概观 n_QuuUB  
3qWrSziD  
5U?O1}P  
光线追迹仿真 uX7L1~s-  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 a ,mgM&yD  
(PpY*jKR  
•点击Go!  Q6 *n'6  
•获得3D光线追迹结果。 nDrRK  
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光线追迹仿真 #aqnj+  
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( fFrX_K]  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 *"^X)Y{c+l  
•单击Go! ]TrJ*~  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 r`"_D%kc  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 }w f8y  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) AG >D,6Y  
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Gr({30"8  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 <(E)M@2  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 q;SD+%tI  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 Q}&'1J  
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场追迹结果(电磁场探测器) Pr>$m{ Z  
R655@|RT  
Qe~C}j%  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 d^'_H>x  
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QQ:2987619807 _~Lu%   
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