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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 q-o>yjT~  
g:6yvEu$ -  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ;`+RSr^8$  
KGWENX_U  
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I[`2MKh  
建模任务 X@Bpjg  
w2,T.3DT  
R] [M_ r  
概观 [!q&r(-K  
#,PAM.rH  
h@~X*yLKh  
光线追迹仿真 xh6x B|Z  
O1ha'@qID  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 P3yiJ|vP  
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•点击Go! <  t (Pw  
•获得3D光线追迹结果。 A{J1 n  
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光线追迹仿真 7qUtsDK  
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•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 }H#t( 9,U  
•单击Go! t(Zs*c(  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 iXm||?Rnx  
yK B[HpU-  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 1a$V{Eag  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) a-E-hX2  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 W #L"5pRg  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 U+"=  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 <VU4rk^=  
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场追迹结果(电磁场探测器) ^B5cNEO  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 M6'C3,y0  
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QQ:2987619807 .Sr:"SrT  
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