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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 (Qmpz  
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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 v^2q\A-?  
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建模任务 (xw)pR  
8'J"+TsOW  
Wkw.z  
概观 ?)<DEu:Y  
W0%cJ8~  
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光线追迹仿真 v-u53Fy  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 K?0f)@\nx  
4'JuK{/ A7  
•点击Go! P)x&9OHV  
•获得3D光线追迹结果。 -Z )j"J  
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M3- bFIt  
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光线追迹仿真 "HI&dC  
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"w}}q>P+sA  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 -_&"Q4FR;+  
•单击Go! .Bxv|dji  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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场追迹仿真 le1  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 `)e5pK  
•单击Go!
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场追迹结果(摄像机探测器) v eP)ElX  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 R5PXX&Q  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 /'KCW_Q  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 z|,YO6(L  
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场追迹结果(电磁场探测器) >2Z0XEe  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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文件信息 Mf'T\^-!  
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QQ:2987619807 2% ],0,o  
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