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infotek 2020-08-27 09:30

高NA物镜聚焦的分析

摘要 P* &0HbJ  
rf@47H  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 vuY X0&  
m(9I+`  
!Z\Gv1  
0n2H7}Uq  
建模任务 R(&3})VOa  
GLZ*5kw  
LdOme [C1  
概观 RkF^V(  
CC3 i@  
.nVY" C&  
光线追迹仿真 V*2 * 5hx  
/\mYXi \  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 u$5.GmKm  
C<9GdN  
•点击Go! <{;'0> ToM  
•获得3D光线追迹结果。 ,38M6yD  
v_U/0 0  
M,ybj5:6  
+IbV  
光线追迹仿真 F{Yr8(UHA  
<Dgf'Gr J  
ZQ`4'|"  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 $`\qY ^.(  
•单击Go! #tsP  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
(7! pc  
wexX|B^u  
<wFmfrx+v  
"'Gq4<&y  
场追迹仿真 ,/V~T<FI  
Uea2WJpX  
. bUmT!  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 IaRwPDj6  
•单击Go!
ft@#[Bkx  
dD39?K/  
jz;{,F  
Ho(}_Q&  
场追迹结果(摄像机探测器) Dt7z<1-)l  
Tyaqa0  
bYem0hzOe  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 V(LfFO{^>?  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 wi.E$R ckD  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 1TfFWlf[B  
D(|+z-}M  
$K\e Pfk  
Z vC?F=tH  
场追迹结果(电磁场探测器) JS\]|~Gd  
T 8 ]*bw  
ir\)Hz2P  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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$ Fc}K+  
T.;U~<  
文件信息 "B"ql-K  
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"9hD4R  
QQ:2987619807 G i(  
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