| markborn |
2020-06-28 18:40 |
如何分析部分干涉成像系统 (光刻机成像系统)
如何分析部分干涉成像系统 (光刻机系统) |z(Ws 5|6z1{g8 在光刻应用中,所使用的光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模? _ pH6uuB 在这里给大家分享一个案例, 希望可以帮到大家。 YL9t3] g6@N PQ 7G>0,'XC
这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作:https://sot.com.sg/coherent-imaging/ VHgF#6' r_g\_y7ua 这里是案例的ZEMAX 文件: 备注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本过低,可能无法正常打开, 请谅解! I*vj26qvg <D;H}ef 如果不能打开文件, 请告知我, 我转发给你。 Wy^[4|6 FQ9csUjpB 回帖是对我分享的一个鼓励, 谢谢回帖!
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