南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

作为半导体卡脖子的技术之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性，这个市场也是被日本及美国公司垄断，TOP5厂商占了全球85%的份额。国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中，能做到G 线（436nm）、I 线（365nm）水平，目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口，EUV光刻胶目前还没有公司能生产，基本上都控制在日本公司手中。

不过EUV光刻胶也不是急需的，因为国内目前还没有EUV工艺量产，193nm的ArF光刻胶更加重要，目前国内有多家公司正在攻关中，这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。

今天，南大光电在互动平台表示，公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试，这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破，从研发开始走向生产。

根据南大光电公司之前的消息，公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”，已获得国家“02 专项”的相关项目立项，公司计划通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨 193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，产品将满足集成电路行业需求标准。

（来源：雷锋网）

luobin2434	2020-05-22 23:42
感谢站长分享

tassy	2020-05-23 00:19
半导体卡脖子的技术之一

bairuizheng	2020-05-23 00:24
全面各种提升到顶尖最能不受限

likaihit	2020-05-23 00:25
半导体卡脖子的技术之一

redplum	2020-05-23 00:27
真的很厉害

te67f42	2020-05-23 06:32
支持国产，为国产助威。感谢站长提供的信息——南大光电Ar光刻胶。过了这么多年，竟然还是日本的科技比较先进耶！

刘明欢聪慧	2020-05-23 07:35
南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

从业者007	2020-05-23 08:32
真是在米国打压华为大背景下的振奋人心的消息！

不懂想问	2020-05-23 08:45
南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

tomryo	2020-05-23 11:24
南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

布丁007	2020-05-23 17:15
感谢站长分享，了解了

木子示羊	2020-05-23 20:20
南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

copland	2020-05-23 21:11
关键技术，打破封锁！

星空38	2020-05-23 21:23
作为半导体卡脖子的技术之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性，

光怪陆离	2020-05-24 21:47
优秀文章，支持！

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