首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> FinFET晶体管发明人胡正明获IEEE荣誉奖章 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

cyqdesign 2020-05-16 10:19

FinFET晶体管发明人胡正明获IEEE荣誉奖章

日前IEEE电子电器工程师协会宣布,FinFET晶体管发明人胡正明(Chenming Hu)获得了2020年的IEEE 荣誉奖章,这是IEEE协会的最高奖励,这一技术使得摩尔定律延寿了数十年。自从1965年,Intel联合创始人戈登·摩尔提出“摩尔定律”以来,半导体工艺一直按照这个规律发展,2年提升一倍的晶体管密度。 noL<pkks~R  
a&y%|Gs^f  
不过摩尔定律原本应该终结了,因为按照之类的发展,传统硅基半导体工艺制造难度越来越大,特别是在28nm工艺之后。 6oJ~Jdn'  
4'X^YBm  
胡正明教授在这个问题上贡献很大,他于1999年发明了FinFET晶体管,也叫鳍式晶体管或者3D晶体管,就是因为晶体管的形状与鱼鳍的相似性。 (?J&Ar0  
-y$|EOi?  
[attachment=100665]
%Xp}d5-  
FinFET晶体管的设计可以改善电路控制并减少漏电流,缩短晶体管的闸长,FinFET闸长已可小于25nm,未来预期可以进一步缩小至9nm,约是人类头发宽度的1万分之1。 B-eYWt8s  
L TO1LAac  
Intel在2012年正式量产了3D晶体管技术,首发的是22nm工艺,当时台积电、三星还停留在28nm工艺上,之后在16/14nm节点上他们才进入了FinFET晶体管时代。 t@!oc"z}@  
V1"+4&R^T_  
从这一点上来说,胡正明教授发明的FinFET技术不仅拯救了摩尔定律,Intel、AMD、NVIDIA、苹果、华为、高通、三星等半导体行业的公司都受益于胡正明教授的发明。
查看本帖完整版本: [-- FinFET晶体管发明人胡正明获IEEE荣誉奖章 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计