| 飞跃小河 |
2020-04-27 17:46 |
光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod
Essential Macleod 是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包,可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行,并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求,从简单的单层膜到严格的分光膜;也能对波分复用(WDM)和密集波分复用(DWDM)滤波片进行测评;可以从头开始设计也可以优化已有的设计;可以勘测在设计中的误差,也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 `0!%jz= )e6sg]#
BW`;QF< Essential Macleod核心模块的功能 FP*kA_z$ &F Yv4J •计算给定膜系的特性 4Mt RI ,Tk53 " •对给定特性目标要求优化膜系设计 JeA_mtSQ| o=xMaA •维护材料的光学常数 {SRD\&J[ )p:+!sX( •对已有设计进行分析 'm-5 uss!E!_%, •膜系设计的合并分析 $&Z#2
X. xj3{Ke`6 Essential Macleod可扩展的功能 A:pD:}fm}D ez5>V7Y Runsheet K,*-Y)v2W \$F#bIjC 这个工具可设计镀膜制程,包含机器配置编辑器以及跑单生成器。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置,材料源以及制具因子(Tooling)以及监控系统。使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置,进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外,还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 *O)i)[" _u6MSRX[6$ Simulator 1\)lD(J\C %[azMlp< 对于公差问题, Simulator 通过蒙特卡罗(Monte Carlo)法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划, Simulator 可模拟薄膜淀积控制,引入随机和系统效应,例如信号噪声,加工因子的变动,封装密度误差等等,以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 K*4ib/'E a U%;E: | Monitorlink }"v#_vJfz7 yw89*:A6 Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接,而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 |Z+qaq{X VStack 7+hc?H[&' , E$f" VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时,初始为 p- 偏振态的光线最终会以 p - 偏振态从系统出射。同理,原本是 s - 偏振态光也会以 p - 偏振态出射,我们称此为 偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。 VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 [6/8O 2d
YU Function z92Xc DNyt_5j&: 一些法向反射﹑透射,或是相位的计算通常需要非常庞大的计算量才能求得结果。电子数据表并不是一种合适的解法,一方面因为它不方便进行插值操作,另一方面在处理不同数量的数据组字时会有困难。但 Function 可以完全自动计算,其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 [kqO6U %afF%y DWDM Assistant 6k<3,`VV| ~d ~oC$=TC DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片,以满足用户的不同规格,设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间等等规范排序。 d5R2J:dI Wvl'O'R s;]"LD@ sN5Mm8~ 购买与相关软件试用请联系QQ:1824712522 HsT6 #K If8
^
|
|