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探针台 2020-04-26 15:00

FEI Scios 2 DualBeam应用介绍

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聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX FEI Scios 2 DualBeam技术指标 j4fv-{=$  
技术指标 G7yR&x^  
1、电子束电流范围:1 pA - 400 nA; #@cOyxUt  
2、电子束电压:200eV-30 keV,具有减速模式 <8[y2|UBt  
3、电子束分辨率:0.7 nm (30 keV)、1.4 nm(1 keV) PAUepO_  
4、大束流Sidewinder离子镜筒; *=p[;V  
5、离子束加速电压500V-30kV(分辨率:3.0 nm); h jCkj(b  
6、离子束束流1.5pA-65nA,15孔光阑。 + yF._Ie=  
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配置情况 GqT 0SP  
1、GIS气体注入:Pt沉积 Oz: J8l%  
2ETD SE、T1(筒内低位)、T(高位)探头 \j$q';9p  
3Nav-camTM:样品室内光学导航相机 mTsl"A>  
4AutoTEM4、Autoslice、Map for3D自动拼图、NanoBuilder纳米加工软件。 A3Lfh6O  
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适用样品 # {'1\@q  
半导体、金属、陶瓷材料微纳加工及观察分析,成分分析 eInx\/  
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检测内容 G+$A|'<`z  
1IC芯片电路修改 6hvmp  
2Cross-Section 截面分析 d;-/F b{4  
3Probing Pad 0';U3:=i,  
4FIB微纳加工 L,<5l?u  
5材料鉴定 \>%.ktG  
6EDX成分分析 #go!"H L  
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设备简介 +F9)+wT~;q  
FEI Scios 2 DualBeam系统在Scios系统的基础上进行了升级,更加适用于金属、复合材料和涂层,特点是适用磁性样品、借助漂移抑制对不导电的样品可以进行操作、Trinity检测套件可同步检测材料、形态和边缘对比对度,大大提高效率、软件可以实现三维数据立方体分析金属中夹杂物大小和分布、独有的工作流模式,可以设定程序,降低操作员的难度。在超大样品仓中集成了大尺寸的五轴电动样品台,XY轴具有110mm移动范围,Z方向具有85mm升降空间。 j=Co  
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