| 飞跃小河 |
2020-04-24 16:01 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》新书抢先看
书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 5Ml=<^ Xi&J%N' 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark p:4jY|q 译:讯技科技股份有限公司 ]P?<2, 校:讯技科技股份有限公司 5Kg'&B (
$6"(t= %{ 书籍概况: \~5|~|9< ]Btkoad Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 +Y%6y]8 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 B ?VTIq> 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 6z 9
'|;,4
_>-
D*l 书籍目录 Rg?6e N >pU9}2fpT 1 引言 Op'a=4x] 2 光学薄膜基础 _M^.4H2 2.1 一般规则 rpT.n-H>%A 2.2 正入射规则 &N7ji 2.3 斜入射规则 79h~w{IT@ 2.4 精确计算 L!fTYX#K] 2.5 相干性 ]i*ucW4 3 Essential Macleod的快速预览
po*G`b;v 4 Essential Macleod的特点 i5 rkP`)j 4.1 容量和局限性 \/NF??k,jk 4.2 程序在哪? c2npma]DZ 4.3 数据文件 Mkz_.;3 4.4 设计规则 3 t,_{9 4.5 材料数据库和目录库 ywa*?3?c 4.5.1 材料数据库及导入材料 "%-Vrb=:Y 4.5.2 材料目录库 6CY&pbR 4.5.3 导出材料数据 3P
cVE\GN 4.6 常用单位 Z?axrGmg0 4.7 插值 oh9
;_~ 4.8 材料数据的平滑 Aedf (L7\ 4.9 一般文档编辑规则 WK>F0xMs1 4.10 设计文档 qLN\%}69/ 4.10.1 公式 Y %JQ 4.10.2 更多关于膜层厚度 fvkcJwkc 4.10.3 沉积密度 P-@MLIC{ 4.10.4 性能计算 @]=40Yj~w 4.10.5 保存设计和性能 4%(Ji 4.10.6 默认设计 [?!I*=*b 4.11 图表 r\Nfq(w 4.11.1 合并曲线图 A6&*VD 4.11.2 自适应绘制 `3+i.wR 4.11.3 动态参数图 PMzPj, 4.11.4 3D绘图
yayhL
DL 4.12导入和导出
cw Obq\ 4.12.1 剪贴板 @R[{ 4.12.2 不通过剪贴板导入 m#7(<# 4.12.3 不通过剪贴板导出 l:85 _E 4.13 背景(Context) F/>_PH57 4.14 扩展公式 - 生成设计 COrk (V 4.15 生成Rugate FwCb$yE#M 4.16 参考文献 [,zq 5 在Essential Macleod中建立一个Job !|cg= 5.1 Jobs ~Z\:Nx 5.2 创建一个新的Job )g0fN+Mb 5.3 输入材料 }r,\0Wm 5.4 设计数据文件夹 1\.$=N 5.5 默认设计 V`V\/s gj 6 细化和合成 J!I)G&: 6.1 最优化导论 @AsJnf$y 6.2 细化 ]\$/:f-2 6.3 合成 a)qan 6.4 目标和评价函数 M([#Py9h 6.4.1 目标输入 #+I'V\[ 6.4.2 目标关联 P15
H[<:Fz 6.4.3 特殊的评价函数 [M?2axOC 6.5 膜层锁定和关联 tXD$HeBB? 6.6 优化技术 ?^}30V:E 6.6.1 单纯形 }U_
'7_JT 6.6.1.1单纯形参数 7>vm?a^D2& 6.6.2 Optimac 2eT?qCxqc 6.6.2.1 Optimac参数 1yy?1&88S 6.6.3 模拟退火算法 ~wc:/UM| 6.6.3.1退火参数 (i1JRn-f 6.6.4 共轭梯度 !vnQ;g5 6.6.4.1共轭梯度参数 Cs'LrUB?=U 6.6.5 拟牛顿法 'rQ"Dc1D 6.6.5.1 拟牛顿法参数: B/?
L$m 6.6.6 针形合成 MK$u}G 6.7 我应该使用哪种技术? gq?:n.;TY 6.7.1 细化 M>8J_{r^ 6.7.2 合成 c8RJOc4X 6.8 参考文献 y8Va>ul"U 7 导纳图和其他工具 =YO ]m< 7.1 介绍 mkl{Tp* 7.2 导纳变换 g?C;b>4 7.2.1 四分之一波长规则 ny={OhP- 7.2.2 导纳轨迹图 s\ IKSoE 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 *{o7G a 7.4 全介质抗反射膜的应用 eim +oms 7.5 对称周期结构 C@rGa7 7.6 参考文献 Yo-}uTkw 8.典型的镀膜实例
Ucj?$= 8.1 单层抗反射膜 ^)VwxH:s 8.2 1/4-1/4抗反射膜 pl[J!d.c 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 IgT`on3Y 8.4 W-膜层 K|& f5w 8.5 V-膜层 gT+/nSrLV 8.6 高折射基底V-膜层 ?GhyVXS y. 8.7 高折射率基底b V-膜层 5En6f`nR{ 8.8 1/4-1/4高折射率基底 &hCbXs= 8.9 四层抗反射膜 }x8!{Y#cF 8.10 Reichert抗反射膜 z\YIwrq3* 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 6|TSH$w_ 8.12 宽波段6层抗反射膜 ~MpikBf 8.13 宽波段8层抗反射膜 J
3!~e+wn 8.14 宽波段25层抗反射膜 l,ENMKA^D 8.15 四层2-1 增透膜 XQ}Zr/f6 8.16 1/4波长堆栈 2wf&jGHs 8.17 陷波滤光器 8HF^^Cva 8.18 Rugate L9x-90'q, 8.19 消偏振分光片1 5J5si<v25 8.20 消偏振分光片2 %+7]/_JO& | |