| 飞跃小河 |
2020-04-24 16:01 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》新书抢先看
书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 1G8,Eah y&(pt!I 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark 6w4HJZF~ 译:讯技科技股份有限公司 'Pe;Tp>` 校:讯技科技股份有限公司 * .g[vCy
xri(j,mU 书籍概况: .q<5OE(f 6x;!E&< Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 g?N^9B,$2 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 #$;}-* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 jJD*s/o ue*o>iohB 书籍目录 "fC>]iA8I ,AH2/^:%c 1 引言 `<-/e%8 2 光学薄膜基础 2(f-0or( 2.1 一般规则 +DaKP)H\: 2.2 正入射规则 +~"(Wooi 2.3 斜入射规则 aVZ/e^kk- 2.4 精确计算 ?}U?Q7vx@@ 2.5 相干性 0),fY(D2T 3 Essential Macleod的快速预览 $Lz!04 4 Essential Macleod的特点 (duR1Dz 4.1 容量和局限性 =>XjChM 4.2 程序在哪? @0V4$OoFl 4.3 数据文件 iB5q"hoZC 4.4 设计规则 2({|LQqk 4.5 材料数据库和目录库 .,f]'!5 4.5.1 材料数据库及导入材料 *M.,Yoj 4.5.2 材料目录库 Za]~[F 4.5.3 导出材料数据 [X7gP4 4.6 常用单位 ^VEaOKMr 4.7 插值 4K
]*bF44 4.8 材料数据的平滑 k t
|j]: 4.9 一般文档编辑规则 _WZ{ i, 4.10 设计文档 ~x^Ra8A 4.10.1 公式
#jsN 4.10.2 更多关于膜层厚度 h]vEXWpG ] 4.10.3 沉积密度 w3#0kl 4.10.4 性能计算 -qBdcbi|x) 4.10.5 保存设计和性能 Pif-uhOk% 4.10.6 默认设计 i-9W8A 4.11 图表 J50n
E~ 4.11.1 合并曲线图 qcC(#0A> 4.11.2 自适应绘制 Ezev
^O] 4.11.3 动态参数图 0oZZLi 4.11.4 3D绘图 Q.fUpa v 4.12导入和导出 }$[@* 4.12.1 剪贴板 Ta$55K0 4.12.2 不通过剪贴板导入 uAs!5h 4.12.3 不通过剪贴板导出 H^dw=kS 4.13 背景(Context) y\,,hs 4.14 扩展公式 - 生成设计 >
H&v 4.15 生成Rugate %{rPA3Xoy 4.16 参考文献 hl0\$ 5 在Essential Macleod中建立一个Job uzT+, 5.1 Jobs x3sX=jIW_ 5.2 创建一个新的Job rGrR; 5.3 输入材料 oF a,IA 5.4 设计数据文件夹 K{, '%| 5.5 默认设计 W.%p{wB| 6 细化和合成 3h$E^" 6.1 最优化导论 W)'*Dcd 6.2 细化 e.^?hwl 6.3 合成 xel|,|*Yq 6.4 目标和评价函数 5$Kd<ky 6.4.1 目标输入 `+0dz, 6.4.2 目标关联 @t0T+T3 6.4.3 特殊的评价函数 |!/+T^u 6.5 膜层锁定和关联 zhbSiw 6.6 优化技术 #;5Qd' 6.6.1 单纯形 $|@pY| f 6.6.1.1单纯形参数 ?:&2iW7z 6.6.2 Optimac _s<s14+od 6.6.2.1 Optimac参数 "?kDR1=7A 6.6.3 模拟退火算法 4GH &u, 6.6.3.1退火参数 mnBTZ/ZjS 6.6.4 共轭梯度 +SE \c 6.6.4.1共轭梯度参数 7yXJ\(6R_ 6.6.5 拟牛顿法 L8H:,} 2 6.6.5.1 拟牛顿法参数: P#Whh 6.6.6 针形合成 vexF|'!}0# 6.7 我应该使用哪种技术? O jNOvh&N 6.7.1 细化 |i~-,:/-Y 6.7.2 合成 3ZI:EZ5 6.8 参考文献 R]o0V*n 7 导纳图和其他工具 hS*&p0YV~M 7.1 介绍 KJv%t_4'F 7.2 导纳变换 m9\"B3sr 7.2.1 四分之一波长规则 cr|]\ 7.2.2 导纳轨迹图 f$9|qfW'$ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 *B\ @L 7.4 全介质抗反射膜的应用 V;^N:I\js 7.5 对称周期结构 8aC=k@YE 7.6 参考文献 hW9! 8.典型的镀膜实例 9[teG5wAa 8.1 单层抗反射膜 +IWf~|s 8.2 1/4-1/4抗反射膜 .t8hTlV?<B 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 Q`NdsS2 8.4 W-膜层 cNFHbMd 8.5 V-膜层 j%D{z5,nKm 8.6 高折射基底V-膜层 XT*/aa-1' 8.7 高折射率基底b V-膜层 E:k]Z 8.8 1/4-1/4高折射率基底 [b& | |