失效分析方法大全
失效分析(FA)是一门发展中的新兴学科,近年开始从军工向普通企业普及。它一般根据失效模式和现象,通过分析和验证,模拟重现失效的现象,找出失效的原因,挖掘出失效的机理的活动。在提高产品质量,技术开发、改进,产品修复及仲裁失效事故等方面具有很强的实际意义。其方法分为有损分析,无损分析,物理分析,化学分析等 4Kl{^2 $OGTHJA
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失效分析的意义:分析机械零器件失效原因,为事故责任认定、侦破刑事犯罪案件、裁定赔偿责任、保险业务、修改产品质量标准等提供科学依据;减少和预防同类机械零器件的失效现象重复发生,保障产品质量,提高产品竞争力;为企业技术开发、技术改造提供信息,增加企业产品技术含量,从而获得更大的经济效益 cI#! Y 5,vw%F-m 集成电路(integrated circuit)是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构。实验室主要对集成电路进行相关的检测分析服务。 Le,e,#hiY ?xX9o 集成电路的相关产业,如材料学,工程学,物理学等等,集成电路的发展与这些相关产业密不可分,对集成电路展开失效分析相关实验分析时势必要涉及这些相关产业。实验室也可以提供非集成电路样品的微区观测,元素鉴别,样品形貌处理,断层分析等相关服务。 .0=VQU U]Pl` =SL 失效分析主要项目: ais@|s; 7gxC
xfL$ 金相显微镜/体式显微镜: + 0DPhc 提供样品的显微图像观测,拍照和测量等服务,显微倍率从10倍~1000倍不等,并有明场和暗场切换功能,可根据样品实际情况和关注区域情况自由调节 $- 4 Zi
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RIE等离子反应刻蚀机: ^s.necg0 提供芯片的各向异性刻蚀功能,配备CF4辅助气体,可以在保护样品金属结构的前提下,快速刻蚀芯片表面封装的钨,钨化钛,二氧化硅,胶等材料,保护层结构,以辅助其他设备后续实验的进行 Aq3.%,X2H 北软检测RIE分析 u*w'.5l 自动研磨机: iCXKi7 提供样品的减薄,断面研磨,抛光,定点去层服务,自动研磨设备相比手动研磨而言,效率更高,受力更精准,使用原厂配套夹具加工样品无需进行注塑,方便后续其他实验的进行 sR;^7(f!m =hAH6C
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