| 探针台 |
2020-04-13 11:53 |
聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX技术指标
聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX FEI Scios 2 DualBeam技术指标 HN=V"a 一、技术指标 I&}L*Z?` 1、电子束电流范围:1 pA - 400 nA; TC!Yb_H}gN 2、电子束电压:200eV-30 keV,具有减速模式 ZSjMH .Ij" 3、电子束分辨率:0.7 nm (30 keV)、1.4 nm(1 keV) WA)yfo0A 4、大束流Sidewinder离子镜筒; 3er nTD*` 5、离子束加速电压500V-30kV(分辨率:3.0 nm); Rdvk
ml@@ 6、离子束束流1.5pA-65nA,15孔光阑。 e6@=wnoX u b6nsg| 二、配置情况 -]/I73!b 1、GIS气体注入:Pt沉积 PRu 6xsyA 2、ETD SE、T1(筒内低位)、T(高位)探头 (eI5_`'VC 3、Nav-camTM:样品室内光学导航相机 i2E)P x 4、AutoTEM4、Autoslice、Map for3D自动拼图、NanoBuilder纳米加工软件。 !=;+%C&8y *"?l ]d 三、适用样品 Jj!vh{ 半导体、金属、陶瓷材料微纳加工及观察分析,成分分析 7Ri46Tkt '&x#rjo# 四、检测内容 1O/+8yw 1、IC芯片电路修改 @e(o129 2、Cross-Section 截面分析 Ixb=L(V 3、Probing Pad b LlKe50 4、FIB微纳加工 K0-ypU*P 5、材料鉴定 "+kL)] 6、EDX成分分析 6G1@smP
)j9SGLo 五、设备简介 =
s>T;| FEI Scios 2 DualBeam系统在Scios系统的基础上进行了升级,更加适用于金属、复合材料和涂层,特点是适用磁性样品、借助漂移抑制对不导电的样品可以进行操作、Trinity检测套件可同步检测材料、形态和边缘对比对度,大大提高效率、软件可以实现三维数据立方体分析金属中夹杂物大小和分布、独有的工作流模式,可以设定程序,降低操作员的难度。在超大样品仓中集成了大尺寸的五轴电动样品台,XY轴具有110mm移动范围,Z方向具有85mm升降空间。
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