| 探针台 |
2020-04-13 11:53 |
聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX技术指标
聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX FEI Scios 2 DualBeam技术指标 2}hEBw68
一、技术指标 'Kc;~a
1、电子束电流范围：1 pA - 400 nA； @_0XK)pW
2、电子束电压：200eV-30 keV，具有减速模式 ql^n=+U
3、电子束分辨率：0.7 nm (30 keV)、1.4 nm(1 keV) PYW~x@]k%,
4、大束流Sidewinder离子镜筒；
NouT~K`'
5、离子束加速电压500V-30kV（分辨率：3.0 nm）； vr2t MD
6、离子束束流1.5pA-65nA，15孔光阑。 SmC91XO
<Y<%=`
二、配置情况 PC=b.H8P+W
1、GIS气体注入：Pt沉积 KN_3]-+B
2、ETD SE、T1（筒内低位）、T（高位）探头 )g+~"&Gcx
3、Nav-camTM：样品室内光学导航相机 Pv/$ ;R%
4、AutoTEM4、Autoslice、Map for3D自动拼图、NanoBuilder纳米加工软件。 rVkRU5
7'CdDB6&.
三、适用样品 S0du, A~
半导体、金属、陶瓷材料微纳加工及观察分析，成分分析 eY;XF. mF
_KLKa/3
四、检测内容 FL9 Dz4
1、IC芯片电路修改 p~BE z?e
2、Cross-Section 截面分析
c7,p5[
3、Probing Pad N-y[2]J90
4、FIB微纳加工 !C Y: XQm
5、材料鉴定 yIA- +# r[
6、EDX成分分析 X8"4)IZ3
V*}ft@GPD
五、设备简介 ?sk{(UN]
FEI Scios 2 DualBeam系统在Scios系统的基础上进行了升级，更加适用于金属、复合材料和涂层，特点是适用磁性样品、借助漂移抑制对不导电的样品可以进行操作、Trinity检测套件可同步检测材料、形态和边缘对比对度，大大提高效率、软件可以实现三维数据立方体分析金属中夹杂物大小和分布、独有的工作流模式，可以设定程序，降低操作员的难度。在超大样品仓中集成了大尺寸的五轴电动样品台，XY轴具有110mm移动范围，Z方向具有85mm升降空间。
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