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探针台 2020-03-09 15:06

芯片失效分析方式总结

R5MY\^H/A  
芯片失效分析方式总结,因为技术,经验,设备缺乏等原因,我们经常会遇到需要委托第三方实验室测试的情况,那么第三方实验室测试都是怎么进行的?有哪些分析项目呢?下面小编为大家总结,有没说到的地方,欢迎留言补充,小编会及时加上去,希望能帮到大家。 rfhvdwwD  
^I6GH?19>e  
一、聚焦离子束,Focused Ion beam W> rx:O+  
服务介绍:FIB(聚焦离子束,Focused Ion beam)是将液态金属离子源产生的离子束经过离子枪加速,聚焦后照射于样品表面产生二次电子信号取得电子像,此功能与SEM(扫描电子显微镜)相似,或用强电流离子束对表面原子进行剥离,以完成微、纳米级表面形貌加工。 6#1:2ZHKG  
服务范围:工业和理论材料研究,半导体,数据存储,自然资源等领域 gR8vF  
服务内容:1.芯片电路修改和布局验证               *\F,?yU  
          2.Cross-Section截面分析                 ;.b^A  
          3.Probing Pad                                 xi"Ug41)  
          4.定点切割     G>0 hi1  
x|<89o L  
- x]gp5  
二、扫描电镜(SEM) q<w Q/m  
服务介绍:SEM/EDX(形貌观测、成分分析)扫描电镜(SEM)可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。EDX是借助于分析试样发出的元素特征X射线波长和强度实现的,根据不同元素特征X射线波长的不同来测定试样所含的元素。通过对比不同元素谱线的强度可以测定试样中元素的含量。通常EDX结合电子显微镜(SEM)使用,可以对样品进行微区成分分析。 %B-m- =gz  
Y(P <9 m:  
服务范围:军工,航天,半导体,先进材料等 Q)}z$h55  
/&G )IY]g  
服务内容:1.材料表面形貌分析,微区形貌观察   pN7 v7rs  
          2.材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析 2V=bE-  
          3.薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析 )>rHM6-W  
          4.纳米尺寸量测及标示 kK$*,]iCp  
          5.微区成分定性及定量分析 L=5Fvm  
{Aq:Kh`&  
ajALca4  
三、X-Ray ^ l9NF  
服务介绍:X-Ray是利用阴极射线管产生高能量电子与金属靶撞击,在撞击过程中,因电子突然减速,其损失的动能会以X-Ray形式放出。而对于样品无法以外观方式观测的位置,利用X-Ray穿透不同密度物质后其光强度的变化,产生的对比效果可形成影像,即可显示出待测物的内部结构,进而可在不破坏待测物的情况下观察待测物内部有问题的区域。 + +G %~)S:  
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服务范围:产品研发,样品试制,失效分析,过程监控和大批量产品观测 :]^FTnO  
RT+_e  
服务内容:1.观测DIP、SOP、QFP、QFN、BGA、Flipchip等不同封装的半导体、电阻、电容等电子元器件以及小型PCB印刷电路板 M[,G#GO  
          2.观测器件内部芯片大小、数量、叠die、绑线情况 /V)4B4  
          3.观测芯片crack、点胶不均、断线、搭线、内部气泡等封装缺陷,以及焊锡球冷焊、虚焊等焊接缺陷 $(eqZ<y  
b#E!wMClS  
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四、RIE iZDZ/hohv  
服务介绍:RIE是干蚀刻的一种,这种蚀刻的原理是,当在平板电极之间施加10~100MHZ的高频电压(RF,radio frequency)时会产生数百微米厚的离子层(ion sheath),在其中放入试样,离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻,此即为RIE(Reactive Ion Etching)。 ?tFsSU  
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服务范围:半导体,材料化学等       wQ/Z:  
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服务内容:1.用于对使用氟基化学的材料进行各向同性和各向异性蚀刻,其中包括碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、光阻剂、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨钛以及钨器件表面图形的刻蚀 c-hhA%@Wq  
YUsMq3^&  
'or8CGr^p  
五、探针台测试 ;#Pc^Yzc1  
服务介绍:探针台主要应用于半导体行业、光电行业。针对集成电路以及封装的测试。 广泛应用于复杂、高速器件的精密电气测量的研发,旨在确保质量及可靠性,并缩减研发时间和器件制造工艺的成本。  = ~^  
O\KSPy7YQ  
服务范围:8寸以内Wafer,IC测试,IC设计等 Q XV8][  
服务内容:1.微小连接点信号引出   _4#&!b6  
          2.失效分析失效确认 2rJeON  
          3.FIB电路修改后电学特性确认 Seb J}P1x  
          4.晶圆可靠性验证 I`8jJpGA  
B!zqvShF  
六、微光显微镜(Emission microscope, EMMI) AV*eGzz`  
服务介绍:对于故障分析而言,微光显微镜(Emission Microscope, EMMI)是一种相当有用且效率极高的分析工具。主要侦测IC内部所放出光子。在IC元件中,EHP(Electron Hole Pairs)Recombination会放出光子(Photon)。如在P-N结加偏压,此时N阱的电子很容易扩散到P阱,而P的空穴也容易扩散至N,然后与P端的空穴(或N端的电子)做EHP Recombination。 }g|)+V\A  
e3b|z.^8  
服务范围:故障点定位、寻找近红外波段发光点服务内容:1.P-N接面漏电;P-N接面崩溃 bem-T`>'  
          2.饱和区晶体管的热电子 hCKx%&[^7  
          3.氧化层漏电流产生的光子激发 mFXkrvOf,  
          4.Latch up、Gate Oxide Defect、Junction Leakage、Hot Carriers Effect、ESD等问题 t?:Q  
K]Onb{QY  
+1 j+%&).  
七、芯片开封decap A T'P=)F@  
服务介绍:Decap即开封,也称开盖,开帽,指给完整封装的IC做局部腐蚀,使得IC可以暴露出来,同时保持芯片功能的完整无损,保持 die,bond pads,bond wires乃至lead-frame不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备,方便观察或做其他测试(如FIB,EMMI), Decap后功能正常。 +Jv*u8T'  
,,KGcDBj  
服务范围:芯片开封,环氧树脂去除,IGBT硅胶去除,样品剪薄 =j{r95)|u  
服务内容:1.IC开封(正面/背面) QFP, QFN, SOT,TO, DIP,BGA,COB等 .a *^6TC.  
          2.样品减薄(陶瓷,金属除外) 0x/3Xz  
          3.激光打标 du k:: |{F  
Om=*b#k  
lYMNx|PF  
八、化学开封Acid Decap 4]/i0\Vbam  
服务介绍:Acid Decap,又叫化学开封,是用化学的方法,即浓硫酸及发烟硝酸将塑封料去除的设备。通过用酸腐蚀芯片表面覆盖的塑料能够暴露出任何一种塑料IC封装内的芯片。去除塑料的过程又快又安全,并且产生干净无腐蚀的芯片表面。 Jf{ M[ z  
服务范围:常规塑封器件的开帽分析包括铜线开封 hpVu   
服务内容:1.芯片开封(正面/背面)   ^#A[cY2eM  
          2.IC蚀刻,塑封体去除 .A2u7*h&  
芯片失效分析实验室介绍,能够依据国际、国内和行业标准实施检测工作,开展从底层芯片到实际产品,从物理到逻辑全面的检测工作,提供芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测服务,同时可开展模拟重现智能产品失效的现象,找出失效原因的失效分析检测服务,主要包括点针工作站(Probe Station)、反应离子刻蚀(RIE)、微漏电侦测系统(EMMI)、X-Ray检测,缺陷切割观察系统(FIB系统)等检测试验。实现对智能产品质量的评估及分析,为智能装备产品的芯片、嵌入式软件以及应用提供质量保证。 +)gXU Vwd  
}th^l*g  
U\\nSU  
九、自动研磨机 &`J?`l X  
服务介绍:适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM,ETC)样品的半自动准备加工研磨抛光,模块化制备研磨,平行抛光,精确角抛光,定址抛光或几种方式结合抛光。 <7%4=  
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服务范围:主要应用于半导体元器件失效分析,IC反向 q4rDAQyPO  
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服务内容:1.断面精细研磨及抛光   bG6<=^  
          2.芯片工艺分析 IAJYD/Y&?  
          3.失效点的查找               7berkU0P  
十、切割研磨机 4: <=%d  
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服务介绍:可以预置程序定位切割不同尺寸的各种材料,可以高速自动切割材料,提高样品生产量。其微处理系统可以根据材料的材质、厚度等调整步进电动机的切割距离、力度、样品输入比率和自动进刀比率。 6(X5n5C  
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服务范围:各种材料,各种厚度式样切割 hIr$^%  
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服务内容:1.通过样品冷埋注塑获得样品的标准切面   8{GRrwQ>  
          2.小型样品的精密切割 %VCfcM}5I  
Dxwv\+7]  
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十一、金相显微镜OM 3koXM_4_{)  
服务介绍:可用来进行器件外观及失效部位的表面形状,尺寸,结构,缺陷等观察。金相显微镜系统是将传统的光学显微镜与计算机(数码相机)通过光电转换有机的结合在一起,不仅可以在目镜上作显微观察,还能在计算机(数码相机)显示屏幕上观察实时动态图像,电脑型金相显微镜并能将所需要的图片进行编辑、保存和打印。 *!gj$GK@%  
Twj?SV  
服务范围:可供研究单位、冶金、机械制造工厂以及高等工业院校进行金 /<s $Am  
属学与热处理、金属物理学、炼钢与铸造过程等金相试验研究之用 MK<VjpP0(  
服务内容:1.样品外观、形貌检测   ;\ $P;-VY  
          2.制备样片的金相显微分析 p~sfd  
          3.各种缺陷的查找 r_kw "9  
|=frsf~?  
十二、体视显微镜OM <9s=K\-  
服务介绍:体视显微镜,亦称实体显微镜或解剖镜。是一种具有正像立体感的目视仪器,从不同角度观察物体,使双眼引起立体感觉的双目显微镜。对观察体无需加工制作,直接放入镜头下配合照明即可观察,成像是直立的,便于操作和解剖。视场直径大,但观察物要求放 Q l$t  
大倍率在200倍以下。 DJ9;{,gm  
O&:0mpRZ  
服务范围:电子精密部件装配检修,纺织业的品质控制、文物 、邮票的 GD$jP?  
辅助鉴别及各种物质表面观察 <}E^r_NvD  
p ]zYj >e  
服务内容:1.样品外观、形貌检测   A!kNqJ2  
          2.制备样片的观察分析 Iy}r'#N  
          3.封装开帽后的检查分析 3PonF4  
          4.晶体管点焊、检查 QS~;C&1Hl  
l}DCK  
Ohm>^N;  
十三、I/V Curve r]{fjw(~  
服务介绍:验证及量测半导体电子组件的电性、参数及特性。比如电压-电流。集成电路失效分析流程中,I/V Curve的量测往往是非破坏分析的第二步(外观检查排在第一步),可见Curve量测的重要性。 NS l$5E  
m\lSBy6  
服务范围:封装测试厂,SMT领域等 k"P2J}4eO  
服务内容:1.Open/Short Test   MGO.dRy_  
          2.I/V Curve Analysis lK^Q#td:`  
          3.Idd Measuring .'SXRrn&:C  
          4.Powered Leakage(漏电)Test t#y   
K;f'&9-+i,  
4M8AYh2)  
十四、高温、低温的可靠性试验 ;UgRm#  
服务介绍:适用于工业产品高温、低温的可靠性试验。对电子电工、汽车电子、航空航天、船舶兵器、高等院校、科研单位等相关产品的零部件及材料在高温、低温(交变)循环变化的情况下,检验其各项性能指标。 I`%=&l[v_5  
n;"4`6L~  
服务范围:电工、电子、仪器仪表及其它产品、零部件及材料 L!L/QG|wdf  
(%>Sln5hq  
服务内容:1.高温储存   (oxe\Qk  
          2.低温储存 SPV'0* Z  
          3.温湿度储存
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