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探针台 2020-03-09 15:06

芯片失效分析方式总结

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芯片失效分析方式总结,因为技术,经验,设备缺乏等原因,我们经常会遇到需要委托第三方实验室测试的情况,那么第三方实验室测试都是怎么进行的?有哪些分析项目呢?下面小编为大家总结,有没说到的地方,欢迎留言补充,小编会及时加上去,希望能帮到大家。 ^jha:d  
P% +or*  
一、聚焦离子束,Focused Ion beam MkW1FjdP  
服务介绍:FIB(聚焦离子束,Focused Ion beam)是将液态金属离子源产生的离子束经过离子枪加速,聚焦后照射于样品表面产生二次电子信号取得电子像,此功能与SEM(扫描电子显微镜)相似,或用强电流离子束对表面原子进行剥离,以完成微、纳米级表面形貌加工。 c@9Z&2)  
服务范围:工业和理论材料研究,半导体,数据存储,自然资源等领域 HIX=MprL<  
服务内容:1.芯片电路修改和布局验证               r*N~. tFo  
          2.Cross-Section截面分析                 ]bN&5.|  
          3.Probing Pad                                 G?-`>N-u  
          4.定点切割     A?Nn>xF9X  
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,V33v<|wc  
二、扫描电镜(SEM) 1rv$?=Z  
服务介绍:SEM/EDX(形貌观测、成分分析)扫描电镜(SEM)可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。EDX是借助于分析试样发出的元素特征X射线波长和强度实现的,根据不同元素特征X射线波长的不同来测定试样所含的元素。通过对比不同元素谱线的强度可以测定试样中元素的含量。通常EDX结合电子显微镜(SEM)使用,可以对样品进行微区成分分析。 !jAWNK6  
UOu6LD/|h  
服务范围:军工,航天,半导体,先进材料等 &*aer5?`  
dF{6>8D=5B  
服务内容:1.材料表面形貌分析,微区形貌观察   p584)"[*t  
          2.材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析 0n*rs=\VG  
          3.薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析 kQwm"Z  
          4.纳米尺寸量测及标示 0Q$~k  
          5.微区成分定性及定量分析 V9zywM  
2~M;L&9-  
]M~8 @K  
三、X-Ray mNx,L+ 3  
服务介绍:X-Ray是利用阴极射线管产生高能量电子与金属靶撞击,在撞击过程中,因电子突然减速,其损失的动能会以X-Ray形式放出。而对于样品无法以外观方式观测的位置,利用X-Ray穿透不同密度物质后其光强度的变化,产生的对比效果可形成影像,即可显示出待测物的内部结构,进而可在不破坏待测物的情况下观察待测物内部有问题的区域。 xHv|ca.E  
.>kccLr:z  
服务范围:产品研发,样品试制,失效分析,过程监控和大批量产品观测 2 {mY:\  
#juGD9e  
服务内容:1.观测DIP、SOP、QFP、QFN、BGA、Flipchip等不同封装的半导体、电阻、电容等电子元器件以及小型PCB印刷电路板 ,Um5S6 Z  
          2.观测器件内部芯片大小、数量、叠die、绑线情况 T/wM(pr'   
          3.观测芯片crack、点胶不均、断线、搭线、内部气泡等封装缺陷,以及焊锡球冷焊、虚焊等焊接缺陷 v~V;+S=gz  
|7QVMFZ  
{5QosC+o6Q  
四、RIE dd \bI_  
服务介绍:RIE是干蚀刻的一种,这种蚀刻的原理是,当在平板电极之间施加10~100MHZ的高频电压(RF,radio frequency)时会产生数百微米厚的离子层(ion sheath),在其中放入试样,离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻,此即为RIE(Reactive Ion Etching)。 66~e~F}z  
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服务范围:半导体,材料化学等       NV8]#b  
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服务内容:1.用于对使用氟基化学的材料进行各向同性和各向异性蚀刻,其中包括碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、光阻剂、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨钛以及钨器件表面图形的刻蚀 068WlF cWV  
WYwzo V-  
*|];f#^9  
五、探针台测试 X)Dqeb6  
服务介绍:探针台主要应用于半导体行业、光电行业。针对集成电路以及封装的测试。 广泛应用于复杂、高速器件的精密电气测量的研发,旨在确保质量及可靠性,并缩减研发时间和器件制造工艺的成本。 #Rin*HL##  
m\6SG' X  
服务范围:8寸以内Wafer,IC测试,IC设计等 v#<\:|XAg  
服务内容:1.微小连接点信号引出   {A]k%74-a  
          2.失效分析失效确认 M5']sdR(l  
          3.FIB电路修改后电学特性确认 R=\v3m  
          4.晶圆可靠性验证 n> MD\ZS  
6sYV7w,'@  
六、微光显微镜(Emission microscope, EMMI) 8?e   
服务介绍:对于故障分析而言,微光显微镜(Emission Microscope, EMMI)是一种相当有用且效率极高的分析工具。主要侦测IC内部所放出光子。在IC元件中,EHP(Electron Hole Pairs)Recombination会放出光子(Photon)。如在P-N结加偏压,此时N阱的电子很容易扩散到P阱,而P的空穴也容易扩散至N,然后与P端的空穴(或N端的电子)做EHP Recombination。  : cFF  
V.;:u#{@-Q  
服务范围:故障点定位、寻找近红外波段发光点服务内容:1.P-N接面漏电;P-N接面崩溃 /:#j ?c  
          2.饱和区晶体管的热电子 *he7BUO  
          3.氧化层漏电流产生的光子激发 EkRdpiLB  
          4.Latch up、Gate Oxide Defect、Junction Leakage、Hot Carriers Effect、ESD等问题 \ |4 Ca't  
k(zs>kiP  
968Ac}OA  
七、芯片开封decap B;eW/#`  
服务介绍:Decap即开封,也称开盖,开帽,指给完整封装的IC做局部腐蚀,使得IC可以暴露出来,同时保持芯片功能的完整无损,保持 die,bond pads,bond wires乃至lead-frame不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备,方便观察或做其他测试(如FIB,EMMI), Decap后功能正常。 rGTWcJ   
,3:QB_  
服务范围:芯片开封,环氧树脂去除,IGBT硅胶去除,样品剪薄 KU+( YF$1  
服务内容:1.IC开封(正面/背面) QFP, QFN, SOT,TO, DIP,BGA,COB等 6RH/V:YY  
          2.样品减薄(陶瓷,金属除外) X$BXT  
          3.激光打标 :~t<L%tYF  
}US7 N w  
]ddHA  
八、化学开封Acid Decap }l.KpdRT2  
服务介绍:Acid Decap,又叫化学开封,是用化学的方法,即浓硫酸及发烟硝酸将塑封料去除的设备。通过用酸腐蚀芯片表面覆盖的塑料能够暴露出任何一种塑料IC封装内的芯片。去除塑料的过程又快又安全,并且产生干净无腐蚀的芯片表面。 HS{P?~:=U  
服务范围:常规塑封器件的开帽分析包括铜线开封 {V[Ha~b%*  
服务内容:1.芯片开封(正面/背面)   k?^%hO>[  
          2.IC蚀刻,塑封体去除 jZrY=f  
芯片失效分析实验室介绍,能够依据国际、国内和行业标准实施检测工作,开展从底层芯片到实际产品,从物理到逻辑全面的检测工作,提供芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测服务,同时可开展模拟重现智能产品失效的现象,找出失效原因的失效分析检测服务,主要包括点针工作站(Probe Station)、反应离子刻蚀(RIE)、微漏电侦测系统(EMMI)、X-Ray检测,缺陷切割观察系统(FIB系统)等检测试验。实现对智能产品质量的评估及分析,为智能装备产品的芯片、嵌入式软件以及应用提供质量保证。 S\B5&W  
"YuZ fL`bb  
De;,=BSp  
九、自动研磨机 U8YO0}_z  
服务介绍:适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM,ETC)样品的半自动准备加工研磨抛光,模块化制备研磨,平行抛光,精确角抛光,定址抛光或几种方式结合抛光。 /r-8T>m  
DZJ eup?Z  
服务范围:主要应用于半导体元器件失效分析,IC反向 !\aV 0,  
7. %f01/i  
服务内容:1.断面精细研磨及抛光   rW[SU:  
          2.芯片工艺分析 c+1vqbqHG  
          3.失效点的查找               ?^U c=  
十、切割研磨机 u-lrTa""z  
wjuGq.qIu  
服务介绍:可以预置程序定位切割不同尺寸的各种材料,可以高速自动切割材料,提高样品生产量。其微处理系统可以根据材料的材质、厚度等调整步进电动机的切割距离、力度、样品输入比率和自动进刀比率。 y0;,dv]  
Y\.DQ  
服务范围:各种材料,各种厚度式样切割 aJI>FTdK  
7k>zuzRyF  
服务内容:1.通过样品冷埋注塑获得样品的标准切面   ;JYoW{2  
          2.小型样品的精密切割 ?3[tJreVj  
V R"8Di&)  
QS\Uq(Ja\  
十一、金相显微镜OM \ZqK\=  
服务介绍:可用来进行器件外观及失效部位的表面形状,尺寸,结构,缺陷等观察。金相显微镜系统是将传统的光学显微镜与计算机(数码相机)通过光电转换有机的结合在一起,不仅可以在目镜上作显微观察,还能在计算机(数码相机)显示屏幕上观察实时动态图像,电脑型金相显微镜并能将所需要的图片进行编辑、保存和打印。 *h2`^Z  
D^n xtuT*  
服务范围:可供研究单位、冶金、机械制造工厂以及高等工业院校进行金 [4Y[?)7  
属学与热处理、金属物理学、炼钢与铸造过程等金相试验研究之用 NNgK:YibD  
服务内容:1.样品外观、形貌检测   fc3 Fi'^  
          2.制备样片的金相显微分析 {h,_"g\V  
          3.各种缺陷的查找 j13riI3A  
$ cq!RgRn  
十二、体视显微镜OM dnix:'D1  
服务介绍:体视显微镜,亦称实体显微镜或解剖镜。是一种具有正像立体感的目视仪器,从不同角度观察物体,使双眼引起立体感觉的双目显微镜。对观察体无需加工制作,直接放入镜头下配合照明即可观察,成像是直立的,便于操作和解剖。视场直径大,但观察物要求放 N50fL  
大倍率在200倍以下。 `y'aH 'EEd  
HQl~Dh0DJ  
服务范围:电子精密部件装配检修,纺织业的品质控制、文物 、邮票的 rxs8De  
辅助鉴别及各种物质表面观察 uw_H:-J  
!Pw$48cg  
服务内容:1.样品外观、形貌检测   ]s _@n!  
          2.制备样片的观察分析 goB;EWz  
          3.封装开帽后的检查分析 A9t8`|1"%H  
          4.晶体管点焊、检查 .W$ sxVXB  
)'`CC>Q  
4HW;  
十三、I/V Curve qT$ )Rb&  
服务介绍:验证及量测半导体电子组件的电性、参数及特性。比如电压-电流。集成电路失效分析流程中,I/V Curve的量测往往是非破坏分析的第二步(外观检查排在第一步),可见Curve量测的重要性。 GJvp{U}y9I  
?;_H{/)m  
服务范围:封装测试厂,SMT领域等 n%*tMr9s  
服务内容:1.Open/Short Test   e^=NL>V6p  
          2.I/V Curve Analysis X CzXS.  
          3.Idd Measuring h<)yJh  
          4.Powered Leakage(漏电)Test bTiBmS  
5\&]J7(  
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十四、高温、低温的可靠性试验 zXjw nep  
服务介绍:适用于工业产品高温、低温的可靠性试验。对电子电工、汽车电子、航空航天、船舶兵器、高等院校、科研单位等相关产品的零部件及材料在高温、低温(交变)循环变化的情况下,检验其各项性能指标。 7u|%^Ao6  
.D!WO  
服务范围:电工、电子、仪器仪表及其它产品、零部件及材料 <}cZi4l'  
p=vV4C:  
服务内容:1.高温储存   -qfnUh  
          2.低温储存 2 ^oGwx @  
          3.温湿度储存
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