| 飞跃小河 |
2020-03-06 11:32 |
促销倒计时!——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》
新书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 >@y5R^B` 0XXu_f@]9 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark uCUQxFp 译:讯技科技股份有限公司 {!6!z, 校:讯技科技股份有限公司 r7w&p.?
JH<q7Y6!y 书籍概况: qw"`NubX 6,s@>8n Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2r[Q$GPM< 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (x?A#o>% 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $IB@|n yfuvU2nVH 书籍目录 nm\n\j~ {-<h5_h@ 1 引言 &\c$s 2 光学薄膜基础 wm@1jLjrQ 2.1 一般规则 hDVD@b 2.2 正入射规则 k)y0V:ZY]O 2.3 斜入射规则 9[$g;}w 2.4 精确计算 }$m_):t@@ 2.5 相干性
`db++Z'C 3 Essential Macleod的快速预览 9{ciD
"!&V 4 Essential Macleod的特点 6RzTSb 4.1 容量和局限性 :
<m0
GG 4.2 程序在哪? B8[H><)o\y 4.3 数据文件 GytI_an8 4.4 设计规则 vxbO>c 4.5 材料数据库和目录库 d![EnkyL; 4.5.1 材料数据库及导入材料 ^B]M- XG 4.5.2 材料目录库 }$g5:k! 4.5.3 导出材料数据 W&Fa8 4.6 常用单位 zif()i
4.7 插值 [f-
#pew 4.8 材料数据的平滑 l2n>Wce9 4.9 一般文档编辑规则 ^@L 4.10 设计文档 qYbod+UX 4.10.1 公式 .Jou09+ 4.10.2 更多关于膜层厚度 #4~Ivj 4.10.3 沉积密度 i-tX5Md| 4.10.4 性能计算 V&\ZqgDF 4.10.5 保存设计和性能 :Wb+&|dU 4.10.6 默认设计 :/
"qNPJ 4.11 图表 lc[\S4 4.11.1 合并曲线图 Z>Sv[Ec 4.11.2 自适应绘制 ?WUu@Z 4.11.3 动态参数图 PJkEBdM. 4.11.4 3D绘图 > `z^AB 4.12导入和导出 >Q"eaJxE!l 4.12.1 剪贴板 NhpGa@[D 4.12.2 不通过剪贴板导入 Vf O0 z5& 4.12.3 不通过剪贴板导出 Yckl,g_ 4.13 背景(Context) V{c
n1Af 4.14 扩展公式 - 生成设计 .,tf[w 71 4.15 生成Rugate Pf(z0o& 4.16 参考文献 [&)9|EV 5 在Essential Macleod中建立一个Job :)mV-(+o 5.1 Jobs 'nW:2(J 5.2 创建一个新的Job Pu}r`
E_ 5.3 输入材料 ~e'FPVDn 5.4 设计数据文件夹 +O\6p 5.5 默认设计 LTFA2X&E= 6 细化和合成 ^\Jg
{9a 6.1 最优化导论 kj+AsQC, 6.2 细化 ;~xkT' 6.3 合成 E-Cj^#OY|N 6.4 目标和评价函数 zXp{9P\c 6.4.1 目标输入 O+z-6:` 6.4.2 目标关联 x!LUhX ' 6.4.3 特殊的评价函数 m!!uf/ 6.5 膜层锁定和关联 tXPS@4F 6.6 优化技术 2Ni2Gkf@
6.6.1 单纯形 h*d&2>"0m? 6.6.1.1单纯形参数 Rp9uUJ 6o 6.6.2 Optimac I,t 0X) 6.6.2.1 Optimac参数 T>W(Caelq 6.6.3 模拟退火算法 $6ITa }o 6.6.3.1退火参数 qdO^)uJJ 6.6.4 共轭梯度 N[r@Y{ 6.6.4.1共轭梯度参数 >(d+E\!A 6.6.5 拟牛顿法 .KK"KO5k 6.6.5.1 拟牛顿法参数: &/Tx@j^.C 6.6.6 针形合成 Q_M2!qj 6.7 我应该使用哪种技术? ezHj?@ 6.7.1 细化 /kNr5s 6.7.2 合成 pE15[fJ` 6.8 参考文献 `(Ei-$
>U& 7 导纳图和其他工具 W6~<7 7.1 介绍 Vv6xVX 7.2 导纳变换 sOVaQ&+y 7.2.1 四分之一波长规则 kD"dZQx 7.2.2 导纳轨迹图 0H;dA1 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 1AA(qE 7.4 全介质抗反射膜的应用 Y5Ey%Mm6 7.5 对称周期结构 WMl_$Fd6 7.6 参考文献 %Sxy!gGz%% 8.典型的镀膜实例 =a7m^e7 8.1 单层抗反射膜 | ql!@M(p 8.2 1/4-1/4抗反射膜 ,cgC_% 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 *1%=?:$(r6 8.4 W-膜层 4Mg09 8.5 V-膜层 p4(- 8.6 高折射基底V-膜层 x"U/M?l 8.7 高折射率基底b V-膜层 Gf]oRNP,N 8.8 1/4-1/4高折射率基底 mQ' ]0D S 8.9 四层抗反射膜 lL%7lO 8.10 Reichert抗反射膜 2yeq2v 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 m0/J3 8.12 宽波段6层抗反射膜 {zmo7~= 8.13 宽波段8层抗反射膜 r|0C G^:C 8.14 宽波段25层抗反射膜 iHQFieZ.E 8.15 四层2-1 增透膜 0qJ 3@d 8.16 1/4波长堆栈 (}]74Lc 8.17 陷波滤光器 Gs*ea'T) 8.18 Rugate ^k u~m5v 8.19 消偏振分光片1 _%<7!|" 8.20 消偏振分光片2 ki}Uw# 8.21 消偏振立体分光片 yf_<o 8.22 消偏振截止滤光片 xp><7{ 8.23 偏振立体分光片1 Ia>qVM0 8.24 偏振立体分光片2 BAqu@F\): 8.25 缓冲层 qWQJ> 8.26 红外截止滤光片 |(y6O5Y. 8.27 21层长波通过光片 {jlm]< | |