| 飞跃小河 |
2020-03-06 11:32 |
促销倒计时!——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》
新书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 Kz~E"? 953GmNZ7 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark xs
1V?0 译:讯技科技股份有限公司 *""iXi[ 校:讯技科技股份有限公司 mX2X.ww(4
u+lNcyp"MW 书籍概况: <) cJz zK_Q^M` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ,NAwSmocVP 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _|r/*(hh 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 h3e
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UcQ$ 书籍目录 ?`=
<*{_o {K N7Y"AI 1 引言 Skl:~'W.&| 2 光学薄膜基础 RH9P$;.7 2.1 一般规则 8\F|{vt# 2.2 正入射规则 g-pEt# 2.3 斜入射规则 lT?Vt`==~M 2.4 精确计算 .PD_Vv>C/> 2.5 相干性 qP[_!C. 3 Essential Macleod的快速预览 |Ed?s 4 Essential Macleod的特点 FM=XoMP q 4.1 容量和局限性 i"0*)$
hW 4.2 程序在哪? v4]#Nc$~T 4.3 数据文件 ],
IQ~ 4.4 设计规则 /2Z7 4.5 材料数据库和目录库 W K(GR\@ 4.5.1 材料数据库及导入材料 C).+h7{nd 4.5.2 材料目录库 ^V~^[Yp 4.5.3 导出材料数据 >u\'k+= 4.6 常用单位 _b`/QSL 4.7 插值 z57q| 4.8 材料数据的平滑 n5 <B* 4.9 一般文档编辑规则 iu9+1+- 4.10 设计文档 dy ~M5,zn 4.10.1 公式 4~AY:
ib| 4.10.2 更多关于膜层厚度 -k
}LW4 4.10.3 沉积密度 _H@8qR 4.10.4 性能计算 }Ui)xi:8 4.10.5 保存设计和性能 )xL_jSyh 4.10.6 默认设计 _aU
:[v*!
4.11 图表 Y=i_2R2e2 4.11.1 合并曲线图 ewdcAF5 4.11.2 自适应绘制 BM9:|}\J65 4.11.3 动态参数图 qYPgn_ 4.11.4 3D绘图 >[N6_*K] 4.12导入和导出 V#B'm?aQ 4.12.1 剪贴板 iOk`_LG# 4.12.2 不通过剪贴板导入 Ax 4R$P.]u 4.12.3 不通过剪贴板导出 cpPS8V 4.13 背景(Context) N3V4Mpf 4.14 扩展公式 - 生成设计 ? <w[ZWytm 4.15 生成Rugate
)afH: 4.16 参考文献 S"fqE% 5 在Essential Macleod中建立一个Job E*yot[kj 5.1 Jobs _ t.E_K 5.2 创建一个新的Job wH\
K'/ 5.3 输入材料 ?es9j] 5.4 设计数据文件夹 /GO((v+J 5.5 默认设计 ! ?m8UE 6 细化和合成 vFGVz 6.1 最优化导论 D]Gt=2\NG9 6.2 细化 -axmfE?g0 6.3 合成 1<f,>BQ+ 6.4 目标和评价函数 ;7yt,b5&C 6.4.1 目标输入 V[">SiOg 6.4.2 目标关联 -KCQ!0\F 6.4.3 特殊的评价函数 ptpu
u=3" 6.5 膜层锁定和关联 W.<I:q`eO 6.6 优化技术 4Bq4d.0 6.6.1 单纯形 nIqmora 6.6.1.1单纯形参数 +|Qe/8Q 6.6.2 Optimac -MeO|HWm 6.6.2.1 Optimac参数 tP/R9Ezp 6.6.3 模拟退火算法 FuO'%3;c 6.6.3.1退火参数 @33-UP9o 6.6.4 共轭梯度 PciiDh~/ 6.6.4.1共轭梯度参数 C9cQ}
j: 6.6.5 拟牛顿法 B ? D|B 6.6.5.1 拟牛顿法参数: e@L7p, 6.6.6 针形合成 AY%Y,<a 6.7 我应该使用哪种技术? i9y&<^<W 6.7.1 细化 *mXs(u 6.7.2 合成 wz5*?[4 6.8 参考文献 )V*V 7 导纳图和其他工具 Qtn%h:i
S~ 7.1 介绍 WUqfY?5 7.2 导纳变换 0Bhf(5 7.2.1 四分之一波长规则 TfqQh!Y 7.2.2 导纳轨迹图 97(*-e= e 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 $F86Dwd 7.4 全介质抗反射膜的应用 . xdSUe 7.5 对称周期结构 $v+t~b 7.6 参考文献 ~@bh[o~rF 8.典型的镀膜实例 .TetN}w 8.1 单层抗反射膜 421ol 8.2 1/4-1/4抗反射膜 E:ocx2dp 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 khtSZ"8X 8.4 W-膜层 fP:g}Z 8.5 V-膜层 /0qLMlL$ 8.6 高折射基底V-膜层 [ !#<nY/C 8.7 高折射率基底b V-膜层 ;-X5# 8.8 1/4-1/4高折射率基底 V3$Yr"rZ; 8.9 四层抗反射膜 Q{+&3KXH 8.10 Reichert抗反射膜 weky
5(: 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 o Kfm=TbY 8.12 宽波段6层抗反射膜 ]\5?E }kd 8.13 宽波段8层抗反射膜 V0x;*)\PYm 8.14 宽波段25层抗反射膜 Ljjuf=] 8.15 四层2-1 增透膜 !z]2+ 8.16 1/4波长堆栈 d%: 8.17 陷波滤光器 F"Y.'my8 8.18 Rugate .d>TU bR; 8.19 消偏振分光片1 u4a(AB>S 8.20 消偏振分光片2 Q4,!N(>D 8.21 消偏振立体分光片 /2e&fxxD 8.22 消偏振截止滤光片 "?UBW5nM# 8.23 偏振立体分光片1 kKqb: 8.24 偏振立体分光片2 >ps=z$4j* 8.25 缓冲层 Th6xwMq
8.26 红外截止滤光片 .`3O4]N[ 8.27 21层长波通过光片 zg2}R4h 8.28 49层长波通滤光片 Y[ciT) 8.29 55层长波通滤光片 93*MY7j} 8.30 宽带通滤光片 j!:^+F/ 8.31 诱导透射滤光片 '-7rHx 8.32 诱导透射滤光片2 6RLYpQ$+ 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 * Jy'3o 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 k_hV.CV 8.35 增益平坦滤光片 YxUC.2V|7$ 8.36 啁啾反射镜1 )E.!jL:g 8.37 啁啾反射镜2 S_VZ^1X] 8.38 啁啾反射镜3 1]i{b/ 4 8.39 铝保护膜 V_T.#"C4=z 8.40 铝反射增强膜 i0y^b5@MOb 8.41 参考文献 Pu=,L#+F N 9 多层膜 L:ox$RU 9.1 多层膜基本原理—堆栈 0Y81B;/F 9.2 内透过率 tJ
NJS 9.3 简单例子 )oRF/Xx`g 9.4 简单例子2 0 xUw}T6 9.5 圆锥和带宽计算 x"9e eB, 9.6 在Design中加入堆栈进行计算 N:]71+ 10 光学镀膜色彩 M6 W{mek 10.1 介绍 < | |