| 飞跃小河 |
2020-03-06 11:32 |
促销倒计时!——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》
新书抢先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》 j<5R$^?U .
2Q/D?a 作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark 5jk4k c 译:讯技科技股份有限公司 t)+dW~g 校:讯技科技股份有限公司 hidweg*7
j+_75t`AZ 书籍概况: ]d(}b>gR~( XcneH jpR Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 (q7mzZY 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 2%H(a) 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 8h2?Q r}bKVne 书籍目录 9|DC<Zn&B# EpMEA1=& 1 引言 Grv|Wuli 2 光学薄膜基础 n&JP/P3Y 2.1 一般规则 4'*K\Ul).H 2.2 正入射规则 0^^i=iE-u 2.3 斜入射规则 &Gl&m@-j 2.4 精确计算 XCoOs<O:@ 2.5 相干性 @x4Dt&:" 3 Essential Macleod的快速预览 |+''d 4 Essential Macleod的特点 {F[Xe_=#" 4.1 容量和局限性 VVOt%d 4.2 程序在哪? R~([ 4.3 数据文件 a#=-Aj- 4.4 设计规则 Uk4">]oct 4.5 材料数据库和目录库 ozG:f*{T 4.5.1 材料数据库及导入材料 =uTV\) 4.5.2 材料目录库 1C{n\_hR 4.5.3 导出材料数据 gw^+[}U# 4.6 常用单位 Qa+gtGtJ 4.7 插值 =%`" 4.8 材料数据的平滑 on$a]zx'@ 4.9 一般文档编辑规则 ualtIHXK) 4.10 设计文档 O'(vs"eN 4.10.1 公式 4YC`dpO' 4.10.2 更多关于膜层厚度 DEhA8.v 4.10.3 沉积密度 |Rc#Q<Vh| 4.10.4 性能计算 )2S\:&x 4.10.5 保存设计和性能 "AVc^> 4.10.6 默认设计 2)YLs5>W% 4.11 图表 ai RNd~\ 4.11.1 合并曲线图 mLSAi2Y 4.11.2 自适应绘制 EQ -\tWY 4.11.3 动态参数图 *yx:nwmo 4.11.4 3D绘图 QNY{pk 4.12导入和导出 o-_a0j 4.12.1 剪贴板 P<~y$B 4.12.2 不通过剪贴板导入 kCV OeXv 4.12.3 不通过剪贴板导出 &V$R@~x 4.13 背景(Context) 5o*x?P!$ 4.14 扩展公式 - 生成设计 ececN{U/ 4.15 生成Rugate ;Xns 9 4.16 参考文献 %k_JLddlW 5 在Essential Macleod中建立一个Job n>'}tT)U 5.1 Jobs yI)2:Ca* 5.2 创建一个新的Job w# ['{GL 5.3 输入材料 [@czvPi 5.4 设计数据文件夹 3h&s=e! 5.5 默认设计 *zcH3a,9"x 6 细化和合成 $Fj7'@1( 6.1 最优化导论 &x3y.}1 6.2 细化 qM)^]2_- 6.3 合成 c<=1,TB"-_ 6.4 目标和评价函数 !TcjB;q' 6.4.1 目标输入 ?QgWW 6.4.2 目标关联 ?`xId;}J#7 6.4.3 特殊的评价函数 ofJ@\xS 6.5 膜层锁定和关联 ,aeFEsi 6.6 优化技术 WG,{:|!E 6.6.1 单纯形 %/7`G-a.B 6.6.1.1单纯形参数 j,Y=GjfGM 6.6.2 Optimac /D12N'VaE 6.6.2.1 Optimac参数 " 1Bn/Q 6.6.3 模拟退火算法 LS`Gg7]S 6.6.3.1退火参数 4s~o
6.6.4 共轭梯度 J
GdVSjNC 6.6.4.1共轭梯度参数 X!m/I
i$q 6.6.5 拟牛顿法 BmZd,}{ 6.6.5.1 拟牛顿法参数: f`Nu]#i 6.6.6 针形合成 OP@PB| 6.7 我应该使用哪种技术? Z`D#L[z$ 6.7.1 细化 ]du pU"VV 6.7.2 合成 lH[N*9G( 6.8 参考文献 OtJS5A 7 导纳图和其他工具 li'#< "R?' 7.1 介绍 F[lHG,g- 7.2 导纳变换 (Q@+W|~ 7.2.1 四分之一波长规则 I<$lpU_H 7.2.2 导纳轨迹图 _$\T;m>'A 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 n%Fa;!S 7.4 全介质抗反射膜的应用 X- zg 7.5 对称周期结构 JSM{|HJxh 7.6 参考文献 _+GCd8d 8.典型的镀膜实例 yuND0,e 8.1 单层抗反射膜 /)|*Vzu 8.2 1/4-1/4抗反射膜 ']V 2V)t 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 !cfn%+0 8.4 W-膜层 `O[M#y%*E 8.5 V-膜层 7w9) ^ 8.6 高折射基底V-膜层 LWY`J0/ 8.7 高折射率基底b V-膜层 ~
60J 8.8 1/4-1/4高折射率基底 '+$2<Ys 8.9 四层抗反射膜 DpA)Z?? 8.10 Reichert抗反射膜 :U~[%] 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 ]p~XTZgW 8.12 宽波段6层抗反射膜 J &c}z4 8.13 宽波段8层抗反射膜 r8mE 8.14 宽波段25层抗反射膜 $
_ gMJ\{ 8.15 四层2-1 增透膜 b747 eR 7E 8.16 1/4波长堆栈 aFLm, 8.17 陷波滤光器 zU(U^ 8.18 Rugate q*2ljcb5 5 8.19 消偏振分光片1 3]wV`mD 8.20 消偏振分光片2 &AW?!rH 8.21 消偏振立体分光片 6 ,k}v: 8.22 消偏振截止滤光片 >J4_/p>Qs 8.23 偏振立体分光片1 =!7yX;| 8.24 偏振立体分光片2 Zcc6E2 8.25 缓冲层 *'Ch(c:rtH 8.26 红外截止滤光片 bY#> 8.27 21层长波通过光片 -E.EI@" 8.28 49层长波通滤光片 <.Pr+g 8.29 55层长波通滤光片 1<lLE1fk 8.30 宽带通滤光片 X_XqT 8.31 诱导透射滤光片 KnlVZn[3t 8.32 诱导透射滤光片2 WO]dWO6Mm 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 )5B90[M|t 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 k*M1m'1 8.35 增益平坦滤光片 gCd9"n-e 8.36 啁啾反射镜1 GMFp,Df 8.37 啁啾反射镜2 y>|7'M*+ 8.38 啁啾反射镜3 R:11w#m7w 8.39 铝保护膜 -BR&b2 8.40 铝反射增强膜 Fe:0nr9; 8.41 参考文献 dw'%1g.113 9 多层膜 "",V\m 9.1 多层膜基本原理—堆栈 w+PbT6; 9.2 内透过率 O GSJR`yT 9.3 简单例子 2uz<n}IV 9.4 简单例子2 C5F}*]E[y 9.5 圆锥和带宽计算 y!!p:3 9.6 在Design中加入堆栈进行计算 K5b8lc 10 光学镀膜色彩 w+ bMDp 10.1 介绍 y2&G0 | |