探针台 |
2020-02-26 14:29 |
双束电镜介绍
主要优势 Q*#Lr4cm{ 使用 Sidewinder HT离子镜筒快速、简便地制备高质量、定位TEM 和原子探针样品 WMtFXkf6" Thermo Scientific NICol™ 电子镜筒可进行超高分辨率成像, 满足最广泛类型样品(包括磁性和不导电材料)的最佳成像需求 Q"FN"uQ}x 各类集成化镜筒内及极靴下探测器,采集优质、锐利、无荷电图像,提供最完整的样品信息 PxrT@.T$ 可选AS&V4软件,精确定位感兴趣区域,获取优质、多模态 内部和三维信息 S,:!H@~B 高度灵活的110 mm样品台和内置的Thermo Scientific Nav-Cam™相机实现精确样品导航 PdO"e 专用的DCFI、漂移抑制技术和Thermo Scientific SmartScan™等模式实现无伪影成像和图形加工 H I|a88
灵活的 DualBeam 配置,优化解决方案满足特定应用需求 qWr=Oiu y+iRZ%V^ 通用型高性能双束系统 =A6*;T"W QHO n?e
Scios 2 DualBeam 提供最佳的样品制备、内部及三维表征性能,可满足最广泛类型样品的应用需求。 <T[LugI _oc6=Z Thermo Scientifc™ Scios™ 2 DualBeam™ 系统是一款超高分辨率分析系统,可为最广泛类型的样品(包括磁性和不导电材料) 提供出色的样品制备和三维表征性能。 Scios 2 DualBeam 系统创新性的功能设计,优化了其样品处理能力、分析精度和易用性, 是满足科学家和工程师在学术、政府和工业研究环境中进行高级研究和分析的理想解决方案。该系统于2013年推出市场,MTBF>1500hr,深受广大半导体用户爱戴。 P
I"KY@>H jnp~ACN, 高质量 TEM 制样 V"4L=[le 科学家和工程师不断面临新的挑战,需要对具有更小特征的日益复杂的样品进行高度局部化表征。Scios 2 DualBeam 系统的最新技术创新,结合最易于使用、最全面的 Thermo Scientific jq)Bj#'7 AutoTEM™4软件(可选)和专业的应用知识,可快速轻松地定位制备各类材料的高分辨S/TEM样品。 为了获得高质量的结果, 需要使用低能离子进行精抛,以最大限度地减少样品的表面损伤。Thermo Scientific Sidewinder™HT聚焦离子束(FIB)镜筒不仅可以在高电压下提供高分辨率成像和刻蚀,而且具有良好的低电压性能,可以制备高质量的TEM薄片。 *]yrN` NHyUHFY 高质量内部和三维信息 X:Z3R0 内部或三维表征有助于更好地理解样品的结构和性质, Scios 2 :} =lE"2 DualBeam 系统配备 Thermo Scientific Auto Slice&View™4 )Q`Ycz- O"~[njwkE (AS&V4)软件,可以高质量、全自动地采集多种三维信息,其中,三维 BSE 图像提供最佳材料衬度,三维 EDS 提供成分信息, 而三维 EBSD 提供显微结构和晶体学信息。结合Thermo Scientific Avizo™软件,Scios 2 DualBeam 系统可为纳米尺度的高分辨、先进三维表征和分析提供独特的工作流程解决方案。 dM^EYW FA,n> 超高分辨成像并获取最全面的样品信息 72~L ? 创新的NICol电子镜筒为Scios 2 DualBeam 系统的高分辨率成像和检测功能奠定了基础。无论是在STEM模式下以30 keV来获取结构信息,还是在较低的能量下从样品表面获取无荷电信息, 系统可在最广泛的工作条件下提供出色的纳米级细节。系统独特的镜头内Thermo Scientific Trinity™检测技术可同时采集角度和能量选择性SE和BSE图像。无论是将样品竖直或倾斜放置进行观察,亦或者是观察样品截面,都可快速获取最详细的纳米级信 息。可选配的透镜下探测器和电子束减速模式可确保快速、轻松 地同时采集所有信号,以显示材料表面或截面中的最小特征。依托独特的NICol镜筒设计和全自动合轴功能,用户可获得快速、准确且可重复的结果。 tjThQ JR`$t~0t 帮助所有用户提高生产力 K9xvog Scios 2 DualBeam系统可帮助所有经验水平用户更快、更轻松 h!SsIy( 地获得高质量、可重复的结果。系统提供用户向导,使新手用户可以轻松、快速地提高工作效率。此外,诸如“撤消”和“重做”之类的功能鼓励用户开展更多类型的实验。 F;#$Q 真实环境条件的样品原位实验 e+BZoK ^ Scios 2 DualBeam系统专为材料科学中最具挑战性的材料微观 }F{s\qUt 表征需求而设计,配备了全集成化、极快速MEMS 热台μHeater, c9 EtUv~ 可在更接近真实环境的工作条件下进行样品表征。110毫米样品 台可倾斜至90˚,优中心工作距离更大,确保了系统极佳的灵活性。系统可选配低真空模式,可轻松兼容各种样品类型和数据采 集。同时,系统结合了扩展的沉积和蚀刻功能、优化的样品灵活 性和控制能力,成为最通用的高性能FIB / SEM 系统,所有这些都由赛默飞的专业应用和服务支持。 PR|z -T eowwN>-2C 电子光学 u=nd7:bv NICo非浸没式超高分辨率场发射扫描镜筒,配有: Wx-0Ip'9 · 高稳定性肖特基场发射电子枪,用于提供稳定的高分辨率 分析电流 hGD@v{/ · 60 度双物镜透镜,支持倾斜较大的样品 YNV,
dKB · 自动加热式光阑,可确保清洁和无接触式更换光阑孔 Y({
R\W| · 连续电子束电流控制和优化的光阑角度 e]1'D · 电子枪安装和维护简单 自动烘烤,自动启动,无需机械合轴 1]''@oh{6U · 两级扫描偏转 L3\#ufytb · 双物镜透镜,结合电磁透镜和静电透镜 \12G,tBH · 快速电子束闸* u4FD}nV · 用户向导和镜筒预设 ')q4d0B`" · 电子源寿命至少24个月 \ejHM}w3, 电子束分辨率 QErdjjgE 最佳工作距离下 $`GlXiV · 30keV 下 STEM 0.7nm jA9uB.I,"b · 1keV 下 1.4nm 15keV 下 1.2nm 8:c=h/fa
· 1keV下 电子束减速模式 0.99nm* & | |