| 探针台 |
2020-02-19 14:44 |
扫描电镜发展简史
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扫描电镜发展简史 B "}GAk}V
1873 Abbe 和Helmholfz 分别提出解像力与照射光的波长成反比。奠定了显微镜的理论基础。 7,LT4wYH
1897 J.J. Thmson 发现电子 +V\NMW4d
1924 Louis de Broglie (1929 年诺贝尔物理奖得主） 提出电子本身具有波动的物理特性， 进一步提供电子显微镜的理论基础。 S"Zs'7dy`
1926 Busch 发现电子可像光线经过玻璃透镜偏折，一般由电磁场的改变而偏折。 aH$*Ue@Q
1931 德国物理学家Knoll 及Ruska 首先发展出穿透式电子显微镜原型机。 /3Gv 51'
1937 首部商业原型机制造成功（Metropolitan Vickers 牌）。 IweQB} d
1938 第一部扫描电子显微镜由Von Ardenne 发展成功。 +l3
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1938～39 穿透式电子显微镜正式上市（西门子公司，50KV~100KV，解像力20~30Å；）。 Wj*6}N/
1940～41 RCA 公司推出美国第一部穿透式电子显微镜（解像力50 nm）。 @o^s p|k !
1941～63 解像力提升至2~3 Å （穿透式） 及100Å （扫描式） j+ys&pDczm
1960 Everhart and Thornley 发明二次电子侦测器。 %r,2ZLZ
1965 第一部商用SEM出现（Cambridge) bFx?HM.AGW
1966 JEOL 发表第一部商用SEM(JSM-1) &
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1958年 中国科学院组织研制 "I i!)n,
1959年第一台100KV电子显微镜 1975年第一台扫描电子显微镜DX3 在中国科学院科学仪器厂（现北京中科科仪技术发展有限责任公司）研发成功 V+K.'
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1980年中科科仪引进美国技术，开发KYKY1000扫描电镜 E0h!%/+-L
芯片失效分析实验室介绍，能够依据国际、国内和行业标准实施检测工作，开展从底层芯片到实际产品，从物理到逻辑全面的检测工作，提供芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测服务，同时可开展模拟重现智能产品失效的现象，找出失效原因的失效分析检测服务，主要包括点针工作站（Probe Station）、反应离子刻蚀（RIE）、微漏电侦测系统（EMMI）、X-Ray检测，缺陷切割观察系统（FIB系统）等检测试验。实现对智能产品质量的评估及分析，为智能装备产品的芯片、嵌入式软件以及应用提供质量保证。 %yrP: fg/
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国家应用软件产品质量监督检验中心 T<=\5mn
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