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探针台 2020-02-19 14:35

扫描电镜SEM发展史

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扫描电镜SEM发展史 !jZXh1g%  
1873 Abbe 和Helmholfz 分别提出解像力与照射光的波长成反比。奠定了显微镜的理论基础。 ?[{_*qh  
1897 J.J. Thmson 发现电子 ^UTQcm  
1924 Louis de Broglie (1929 年诺贝尔物理奖得主) 提出电子本身具有波动的物理特性, 进一步提供电子显微镜的理论基础。 ], Xva`"  
1926 Busch 发现电子可像光线经过玻璃透镜偏折,一般由电磁场的改变而偏折。 0RmQfD>  
1931 德国物理学家Knoll 及Ruska 首先发展出穿透式电子显微镜原型机。 yv1Z*wTpO  
1937 首部商业原型机制造成功(Metropolitan Vickers 牌)。 hn]><kaA  
1938 第一部扫描电子显微镜由Von Ardenne 发展成功。 )1f8 H,q^  
1938~39 穿透式电子显微镜正式上市(西门子公司,50KV~100KV,解像力20~30Å;)。 6bj.z  
1940~41 RCA 公司推出美国第一部穿透式电子显微镜(解像力50 nm)。 0G@sj7)]  
1941~63 解像力提升至2~3 Å (穿透式) 及100Å (扫描式) AY3nQH   
1960 Everhart and Thornley 发明二次电子侦测器。 hS(}<B{x!  
1965 第一部商用SEM出现(Cambridge) #J&45  
1966 JEOL 发表第一部商用SEM(JSM-1) Y v22,|:  
1958年 中国科学院组织研制 rq=D[vX\N(  
1959年第一台100KV电子显微镜 1975年第一台扫描电子显微镜DX3 在中国科学院科学仪器厂(现北京中科科仪技术发展有限责任公司)研发成功 mc37Y.  
1980年中科科仪引进美国技术,开发KYKY1000扫描电镜 lU6?p")F1  
芯片失效分析实验室介绍,能够依据国际、国内和行业标准实施检测工作,开展从底层芯片到实际产品,从物理到逻辑全面的检测工作,提供芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测服务,同时可开展模拟重现智能产品失效的现象,找出失效原因的失效分析检测服务,主要包括点针工作站(Probe Station)、反应离子刻蚀(RIE)、微漏电侦测系统(EMMI)、X-Ray检测,缺陷切割观察系统(FIB系统)等检测试验。实现对智能产品质量的评估及分析,为智能装备产品的芯片、嵌入式软件以及应用提供质量保证。 rfj>/?8!@  
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国家应用软件产品质量监督检验中心 hbfTv;=z  
北京软件产品质量检测检验中心 VsLlPw{  
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