| 探针台 |
2020-02-19 14:35 |
扫描电镜SEM发展史
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扫描电镜SEM发展史 H<<t^,E^.t
1873 Abbe 和Helmholfz 分别提出解像力与照射光的波长成反比。奠定了显微镜的理论基础。 4E2/?3 D
1897 J.J. Thmson 发现电子 %x Q'i4`
1924 Louis de Broglie (1929 年诺贝尔物理奖得主） 提出电子本身具有波动的物理特性， 进一步提供电子显微镜的理论基础。 Sf.OBU1rs
1926 Busch 发现电子可像光线经过玻璃透镜偏折，一般由电磁场的改变而偏折。 KfZb=v;-l
1931 德国物理学家Knoll 及Ruska 首先发展出穿透式电子显微镜原型机。 4e AMb
1937 首部商业原型机制造成功（Metropolitan Vickers 牌）。 Wwg<-
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1938 第一部扫描电子显微镜由Von Ardenne 发展成功。 Qo^(r$ BD
1938～39 穿透式电子显微镜正式上市（西门子公司，50KV~100KV，解像力20~30Å；）。 kTI5CoXzq
1940～41 RCA 公司推出美国第一部穿透式电子显微镜（解像力50 nm）。 $0un`&W
1941～63 解像力提升至2~3 Å （穿透式） 及100Å （扫描式） `zw %
1960 Everhart and Thornley 发明二次电子侦测器。 p8@&(+z
1965 第一部商用SEM出现（Cambridge) BKb#\(95*
1966 JEOL 发表第一部商用SEM(JSM-1) 6<QC|>p
1958年 中国科学院组织研制 }S?"mg& V
1959年第一台100KV电子显微镜 1975年第一台扫描电子显微镜DX3 在中国科学院科学仪器厂（现北京中科科仪技术发展有限责任公司）研发成功 zF>;7'\x
1980年中科科仪引进美国技术，开发KYKY1000扫描电镜 w3sU& |N
芯片失效分析实验室介绍，能够依据国际、国内和行业标准实施检测工作，开展从底层芯片到实际产品，从物理到逻辑全面的检测工作，提供芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测服务，同时可开展模拟重现智能产品失效的现象，找出失效原因的失效分析检测服务，主要包括点针工作站（Probe Station）、反应离子刻蚀（RIE）、微漏电侦测系统（EMMI）、X-Ray检测，缺陷切割观察系统（FIB系统）等检测试验。实现对智能产品质量的评估及分析，为智能装备产品的芯片、嵌入式软件以及应用提供质量保证。 |j9aTv[`
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国家应用软件产品质量监督检验中心 W cY_w`*L
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