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2019-11-26 15:09 |
【Zemax 免费网络研讨会】OpticStudio 中的高良率优化功能
Zemax China 将于 2019 年 12 月 05 日(周四),上午 10:00-11:00,在线举办免费网络研讨会——OpticStudio 中的高良率优化功能,欢迎注册参加! Q;Q
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GF8a 注册后请注意查收您的邮箱,会有确认邮件发送至您的邮箱。 a$laRtId7 olHH9R9: IMw
"eV 简介:在对光学系统批量加工的背景下,生产良率往往直接关系到系统的加工成本。在以往的设计方式中,自动优化过程仅能为我们提供性能最佳的系统,而无暇考虑系统因为公差灵敏度引起的性能下降,使得最佳系统并不等于最佳可加工系统,导致整体良率下降。使用OpticStudio中全新的高良率优化后,您将可以在自动优化过程中考虑公差灵敏度的影响,使得优化得到的系统具有极高的生产装配性,达到提升加工良率的目的。 k>$FT` #%:`p9p.S ;7wwY$PBH 本次研讨会我们会主要介绍以下内容: $8EV,9^U }ty"fI3&iY · 高良率优化的意义 - a · 如何在OpticStudio中使用高良率优化 b-,]A2. · 常规优化 vs 高良率优化 @'@s*9Nr · 高良率优化的优势 W{L · 从技术层面了解高良率优化· 高良率优化的适用情景 <!$dp9y. 欢迎参加! ^l&nB | |