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2019-11-25 17:04 |
VirtualLab:分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要 vkan+~H 7>EjP&l 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 e!}R1 EAq/Yw2$ [attachment=96956] ,L&Ka|N0 %k#Q)zWJ 建模任务 Y7)YJI >G<AyS&z* [attachment=96957] 9 ="i'nYp 概述 emb~l{K $ mPGF Y •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 JMN1+:7i •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 8}m]XO b9HE #*d, [attachment=96958] @=)_PG :NHh`@0F 光线追迹仿真 +ib72j%A }9e4?7 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 o
Wg5-pMWZ •单击go! Nzz" w_# •获得了3D光线追迹结果。 Bsw5A7,- !8ub3oj) [attachment=96959] M")v ph^ 2a2C z'G 光线追迹仿真 E]6C1C&K *nD yB.( •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 HS| &[" •单击go! yB(^t`)}N •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 >:5/V0;, _I+#K M [attachment=96960] ;ej;<7+ %VsuGA 场追迹仿真 |/zE(ePc{ Zr'VA,v •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 M~;Ww-./ •单击go! ?f[#O&# mKynp [attachment=96961] H-?SlVsf 6w<jg/5t 场追迹仿真(相机探测器) $I!vQbi $zq`hI!1 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 {[o=df/ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 o6K\z+.{ d_Ll,*J9 [attachment=96962] |eWlB\ x8 -uenCWF\# 场追迹仿真(电磁场探测器) Ab
-uK|< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 draY/ Ra[{K@ [attachment=96963] JC}y{R8 SfQ,uD6 场追迹仿真(电磁场探测器) ?n>h/[/ &H;0N"Fn •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 pUZe.S>G 4dv+RRpGOv [attachment=96964] W1M<6T.{7 c&IIqT@Gb0 文件信息 z#GZvB/z) v7T05 [attachment=96965] Y<%$;fx$Sx rgdDkWLXC 更多阅读 2 Q,e1'= T?:Vw laE -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer l~Hs]*jm -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination V9NE kS Xa\{WM==;
(来源:讯技光电)
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