| xunjigd |
2019-11-25 17:04 |
VirtualLab:分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要 |
fAt[e _E RsJj*REO 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Zfyr&]" ,5" vzGLJ [attachment=96956] rf"%D<bb k36%n
*4 建模任务 /[YH
W] AY['!&T [attachment=96957] 9.R)iA 概述 7_ g}t!b` 2F(zHa •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 S/CT;M@W •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 oXG,8NOdC *9}2Bmojv [attachment=96958] 7MreBs(M *h Ph01 光线追迹仿真 HVzG }r(J <7TE[M' •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 nfck3h •单击go! '|n-w\
>Wv •获得了3D光线追迹结果。 2ul!f7#E Wd'wL"6De [attachment=96959] Gu Msw*{> SesJg~8 光线追迹仿真 c #+JG `As.1@ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 e"^* ~'mJ •单击go! uUb[Dqn •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 AZ cWf8 UPgjf [attachment=96960] RrSo`q-h+ \MM(w& 场追迹仿真 +^hFs7je) X"<t3l(+ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 a?%X9 +1A •单击go! H"f%\' rJK3;d? E [attachment=96961] weC$\st:D D^P_3
B+ 场追迹仿真(相机探测器) E7^r3#s
iF2/:iP •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 X<J
NwjM% •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 |)QE+|?P ,6?L.L [attachment=96962] hp6S *d
gl-O"%rMcL 场追迹仿真(电磁场探测器) 'VCF{0{H~ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 XPE{]4 g XEMi~L+ [attachment=96963] x]6OE]]8L nE)?P*$3 Z 场追迹仿真(电磁场探测器) Fn4i[|W42 H
`Fe|6I& •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ,o\vumx [9NzvC 9I [attachment=96964] & D4'hL3 %c)^8k;I 文件信息 HjUs}#</ 9r!psRA:`) [attachment=96965] ^.y}2 ve_TpP 更多阅读 W\gu"g`u #WlIH7J8Tc -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer JX@/rXFY} -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination AjB-&Z !Z2?dhS
(来源:讯技光电)
|
|