| xunjigd |
2019-11-25 17:04 |
VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要 RXO5p d
Pup%lO`.0
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 VpED9l]y
;i ?R+T
[attachment=96956] ._&SS,I5VZ
V&lx0Dy
建模任务 Z55C4F5v
<s'0<e!./t
[attachment=96957] r<Q0zKW!jN
概述 gYmO4/c,
Z !l]v.S
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 H,LJ$
py
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 b]N&4t
akWOE}5#
[attachment=96958] p xW*kS
P5lk3Zg '
光线追迹仿真 F|8;Sw b5
@\a~5CLN
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Hv%$6,/ *v
•单击go！ SU jo%3R
•获得了3D光线追迹结果。 pB7^l|\]
v D(:?M
[attachment=96959] ; {v2s;
pv"s!q&
光线追迹仿真 .=9d3uWJ/
W mx3@] <
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 GH`y-Ul'K
•单击go！ buhbUmQ2
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 K'f2 S
rU 1Ri
[attachment=96960] DZ9^>`*
^@Z8 _PZo
场追迹仿真 ,,lR\!>8
{$ v^2K'C
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 2HF`}H)H
•单击go！ ?F*I2rt#
{xh5s<uOj
[attachment=96961] |f(*R _R
d$Y_vX<
场追迹仿真（相机探测器） e&!8UYP
J|<C;[du>
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 {u J"%
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 "{zqXM}:C
VCvf'$4(X
[attachment=96962] k(_OhV_
_'*(-K5&
场追迹仿真（电磁场探测器） }{Ra5-PY
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 >P//]n n
k$ p ND,Ws
[attachment=96963] N 7YCg
'%o^#gJ p
场追迹仿真（电磁场探测器） ln8es{q
.K`n;lVs
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 / vu]ch
>qmNT/
[attachment=96964] w^,Xa
[7 0 5[
文件信息 Y/T-q <ag8
)<qL8#["U
[attachment=96965] Z'Pe%}3
Ex
skd}
更多阅读 yB 'C9wEH
;'
H\s
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer O\)Kg2
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ^YB2E*
=%s6QFR
（来源：讯技光电）
|
|
