| xunjigd |
2019-11-25 17:04 |
VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要 8b(UqyV
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 )wpBxJ;dB}
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建模任务 WaN0$66[:
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概述 }^?dK3~q
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 5xLuu KG
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 7SXi#{
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光线追迹仿真 z.]t_`KuF9
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•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 z mrk`o~
•单击go！ C
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•获得了3D光线追迹结果。 r&1N8o
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光线追迹仿真 WsJ3zZc
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•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 )f(#Fn
•单击go！ n9t 8RcJS:
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 l x U}HM
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场追迹仿真 O#Xq0o
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•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Z\(+ awv
•单击go！ G:c)e ,pD
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场追迹仿真（相机探测器） ?%;7k'0"
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•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 UR1U; k
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 HR\yJt
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场追迹仿真（电磁场探测器） 'Xxt[Jy
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 `cy_@Z5A
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场追迹仿真（电磁场探测器） oq^#mJL
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 _+ oX9
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文件信息 #)GL%{Oa
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer &]ts*qCEL
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination c,!Ijn\;(
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（来源：讯技光电）
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