| xunjigd |
2019-11-25 17:04 |
VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要 AO|1m$xf
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 %e3E}m>
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建模任务 <r` ;$K
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概述 E)f9`][
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ysl#Rwt/2
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 z@pa;_
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光线追迹仿真 /c 7z[|
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•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 vyB{35p$
•单击go！ "#-iD
•获得了3D光线追迹结果。 )*{B_[
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光线追迹仿真 GKSF(Tnj
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•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 0GeL">v,:=
•单击go！ W*#5Sk
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Ip=QtNW3\
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场追迹仿真 9p3~WA/M@
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•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ;in-)`UC!
•单击go！ GEh( pJ
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场追迹仿真（相机探测器） ]?w z.
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•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 GiEt;8
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 %O" Whe
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场追迹仿真（电磁场探测器） nXoDI1<[
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Zl3e=sg=
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场追迹仿真（电磁场探测器） 9X;*GC;d
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 PuGs%{$(h
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文件信息 hCr,6nc C
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer k_wcol,W
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Xo~q}(ze^
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（来源：讯技光电）
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