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2019-11-25 17:04 |
VirtualLab:分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要 +Kxe ymwr2 8}Fw%;Cb 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 9Ilfv B?$S~5
} [attachment=96956] L[`R8n1C vx({N? 建模任务 z4 GN8:~x er&uC4Y]a [attachment=96957] 7qCJ]%)b6 概述 rhlW Oex{:dO "F •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 tI/mE[W •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 "`gf y G1`mn$`kq [attachment=96958] o[5=S,' s!8J.hD'I 光线追迹仿真 4d{"S02h eO|^Lu]+ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 8:3oH!n •单击go! 4~]8N@Bii •获得了3D光线追迹结果。 y9l#;<b
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{$ [attachment=96959] $sd3h\P&R orcZyYU 光线追迹仿真 |!jYv'% `? 9]' •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 |k['wqn" •单击go! +O.&64( •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 7gZVg@ H3UX{|[ [attachment=96960] Pq[0vZ_}dN e"v[)b++Y 场追迹仿真 4z-,M7iP M2zos(8g •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 &2<&X( ) •单击go! OI]K_ m3 _x,-d|9bd [attachment=96961] m_r@t* buCm @@o 场追迹仿真(相机探测器) Nw3I VFO&)E/- •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ZB_16&2Ow •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 cc2 oFn yG4LQE [attachment=96962] *k@0:a(> NZ%~n:/V# 场追迹仿真(电磁场探测器) '7O{*=`oj •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 J?n)FgxS ^*?B)D =, [attachment=96963] .olPm3MC >m_p\$_ 场追迹仿真(电磁场探测器) G|6 |; &"H<+>` •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 jFPE>F7-M hiK[!9r [attachment=96964] yK>0[6l 5S-o
2a 文件信息 5(MZ%-~l c[d'1=Qiy [attachment=96965] zQ6
-2 A g%q?2Nv 更多阅读 Dxa)7dA| p`l[cVQ< -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer {+UNjKQC -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination k.%W8C<Pa
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(来源:讯技光电)
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