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2019-11-25 17:04 |
VirtualLab:分析高数值孔径物镜的聚焦特性
摘要 @a3v[}c* V!tBipX% 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ,B>b9,~3a <R%6L& [attachment=96956] YQsc(6 [`dipLkr 建模任务 q9]L!V9Rv 6MQ:C'8T&= [attachment=96957] Oj\mkg 概述 @x
]^blq @y&,e,3! •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 J, >PLQAa •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 4u7>NQUDu bd;f@)X [attachment=96958] K0a
50@B] SXF_)1QO\W 光线追迹仿真 h(up1(x =%G[vm/-) •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 'mR+W{r •单击go! {Oszq(A •获得了3D光线追迹结果。 ' "
yl>" Uwa1)Lwn [attachment=96959] POs~xaZ`H Rj=Om 光线追迹仿真 W}3vY] g+*[CKO{ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 6[7k}9`alz •单击go! >*CK@"o •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 {mGWMv >Sah\u` [attachment=96960] !7?wd^C'f @U5>w\ 场追迹仿真 4tWI)}+ak ywte\} •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 f
d5~'2 •单击go! (DAJ(r~ !~v>&bCG>9 [attachment=96961] [hbIv X:/t>0e 场追迹仿真(相机探测器) ?yK\L-ad >^N:A •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 "
z{w^k •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 M+:wa@Kl TaG-^bX8B [attachment=96962] HbVLL`06* X.<R['U&\ 场追迹仿真(电磁场探测器) pT tX[CE •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 9f`Pi:*+/ U)8]pUI+/P [attachment=96963] ]+P&Y: Zlo,#q 场追迹仿真(电磁场探测器) pM3BBF% @( l`_Wx •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 UtN>6$u
= ;d<Ikj [attachment=96964] #J_i 5KmXJ >Z%`&D~u 文件信息 =@o} 566Qikw2 [attachment=96965] qZe"'"3M M5uN1* 更多阅读 g=Di2j{A v!Z 9T -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer #C^m>o~R -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination eHR<(8c'f {,=,0NQKn
(来源:讯技光电)
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