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2019-10-14 17:45 |
【官方培训】2019年 Zemax成像与编程培训_11月上海站
Zemax成像设计培训课程 & 编程培训课程 )hZ}$P1 YI\Cs=T/ Zemax中国将于 2019 年 11 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! .T$9Q Ar5 [,szx1 主办:Zemax China j C1^>D 时间:成像设计:2019年11月18~20日 | OpticStudio 编程:2019年11月21~22日 !=Kay^J~. 地点:上海 +Tc(z{; l<MCmKuYp 课程安排: F>_lp,G *,*:6^t 成像设计 H1b%:KRVK 本课程为3 天的 OpticStudio 成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 F]&J%i
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