Zemax与你相约CIOE 2019！

Zemax 将携最新版 OpticStudio 以及 LensMechanix 亮相第21届中国光博会 (CIOE)

展位号: 9E11 2019年9月4-7日

欢迎广大新老客户莅临！

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现场讲座

高良率优化技术讲座

9月4日下午2:00 - 2:30

传统上，我们会对光学设计先进行优化，之后再进行公差分析，这是两个单独的步骤。基于这样的流程，最终实际生产出的成品性能往往与设计性能存在一定的差异。将这两个步骤整合是否会改进成品性能？这正是高良率优化要解决的问题。欢迎莅临 Zemax CIOE 展位聆听我们的工程师为您带来相关的技术讲座。

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TrueFreeform 技术讲座
9月6日下午2:00-2:30
一些透镜设计软件使用参数函数来表征自由曲面，其中最常见的也许是泽尼克函数的线性组合。然而，使用参数函数有一个缺点，即优化参数通常会迫使整个表面随每个变量而发生变化。TrueFreeform 基于网格的表面，在矩形网格上指定矢高分布，使用这种方式对矢高进行优化，将只对表面的特定区域产生影响，而不会影响整个表面。我们的技术讲座将为您阐述对网格变量进行限制的重要性。
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此外，一年一度的 Zemax 杯光学镜头应用设计大赛也将如期在 CIOE 现场进行决赛路演与颁奖，欢迎于9月5日下午2:00-5:30前往8号展馆围观。

展会期间，我们还将提供最新版软件的现场试用，欢迎莅临现场体验。无论您是正在使用我们的产品，或是想要进一步了解Zemax，我们都非常乐意在展会现场为您介绍 Zemax 正在开发的革新工具。欢迎前往 Zemax 展台与我们的光学工程师交流。点击这里提交信息，可前往 Zemax 展台领取礼品一份，数量有限，先到先得。

期待在CIOE现场与您相遇！

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