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探针台 2019-08-07 10:45

双束聚焦离子束(Dual Beam FIB)

7p&%0'BO1z  
Dual Beam FIB(双束聚焦离子束) jb8v3L  
双束聚焦离子束是一种多用途的分析技术，可以用于样品定位切割并将隐藏在各种基底材料中的缺陷揭露出来。最常见的用途之一就是制备TEM样品。双束FIB可以通过切断/连接芯片线路来进行芯片线路修改。
优势局限
m!s/L,iJJ  
- 横截面缺陷 :] Jwcp  
- TEM快速样品制备 ~Rx[~a  
- 线路修改 X8Px  
- 借助EDX配件进行元素定量分析    		 lH/d#MT   
- 晶片尺寸需要小于150mm AD4KoT&  
- 瀑布效应有时会给分析造成不便
2HBYReQ  
N^A&DrMF  
 KTd,^h  
L型横截面分析 IiV:bHUE}0  
PuAcsYQhN  
锡须生长机理分析
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