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2019-05-20 22:08 |
VirtualLab:二维周期光栅结构的配置
摘要 A2B&X}K|U a+Q)~13 复杂光学光栅结构被广泛用于多种应用,如光谱仪、近眼显示系统等。利用傅里叶模态法(FMM,或称RCWA) VirtualLab Fusion 提供了一种用于任意光栅结构严格分析的简单方法。利用图形用户界面,用户可以设置堆栈的几何形状,从而产生复杂的光栅结构。本案例主要集中于具有二维周期光栅结构的配置。 {MIs%w.G [attachment=93359] [ML4<Eb+x 1. 本案例主要说明: f6DPah# 如何在光栅工具箱中配置二维光栅结构,通过: 3T_-_5[c - 基于介质的定义类型 mCg 5-E~; - 基于表面的定义类型 X[VQ 1 计算前如何改变高级选型并检查定义的结构。 "zr%Q'Ky 注意:在VirtualLab中,具有二维周期性的光栅结构称作3D光栅。因此,层状光栅(一维光栅)被称为2D光栅。 fd(>[RP? 1[!Idl ?m 2. 光栅工具箱初始化 bO-8<IjC_3 初始化 BKN]DxJ6 - 开始→ pPh$Jvo] 光栅→ rt"\\sOlMB 一般光栅光路图(3D光栅) 7m1*Q@D #x'C [attachment=93360] -2f0CAh~ 注意:对于特殊类型的光栅,如柱状光栅,可以直接选择特定的光路图。 Z#9{1sHEP 7bTs+C_;7 3. 光栅结构配置 o'W &gkb9 首先,必须先定义基底的厚度与材料 8,%y`tUn>u 在VirtualLab中,光栅结构有一个所谓的堆栈进行定义 q+SDJ?v 堆栈可以附属在基底的一侧或两侧。 %e3lb<sv6 例如,堆栈选择附属在第一表面。 Wkf)4! [attachment=93361] y1P ?A]v 基于介质的定义类型 <n0-zCf (例如:柱状光栅) ?vvjwys@ 1. 堆栈编辑器 <;=X7l+ 在堆栈编辑器中,可以从库中增加和插入界面和介质。 T1D7H~\lG 为了以特殊材料定义光栅,必须添加两个平面界面作为边界。 64[j:t=N eE1w<] Eg [attachment=93362] eGZIdv1 w)hJ0k 两个平面界面间的介质可以使均匀的,也可以是调制的。 lQoa[#q 通过使用后者,可以非常有效地描述复杂的光栅结构,如柱状光栅。、 d!,V"*S [attachment=93363] mz>"4-] F+9|D 2. 柱状光栅介质 $lUZm\R|k 在库目录“LightTrans Defined”中,在柱状介质库中可以找到铬柱。 ;5oY)1 这种类型的介质可以模拟柱状结构以及衬底上的销孔。 -Ndd6O[ a5 [attachment=93364] O(CUwk 在本例中,由铬组成的矩形柱位于熔融石英基底上 ^lbOv}C* 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 he
9qWL&^G 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 %]d^B| 请注意:界面的顺序总是从基板的表面开始计算。 cLX~NPD/ 选中的界面以红色高亮显示。 i_ I`Y 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 UtY<R [attachment=93365] ]l`?"X|^ 可以在光学设置编辑器中更改此材料。 3xbA]u;gp D{\hPv [attachment=93366] i $#bg^ 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 s!uewS. 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 KK/~W 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 h2K1|PUKl[ [attachment=93367] DL<r2h 3. 柱状光栅介质参数 dfO84Z}
5 通过以下参数定义柱状光栅: SkVW8n*s [attachment=93368] 'd'*4 )]k 基材(凹槽的介质) ,C!MHn^$ 柱状材料(脊的材料) Ig*!0(v5$ 柱的形状(矩形或椭圆形) N(6|TE2 x方向(水平方向)柱距 nTp? y方向(垂直方向)柱距 r C$ckug 行移(允许行位移) 7hY~ 光栅周期在x和y方向 ?tg(X[h{S [attachment=93369] 67%o83\ 根据柱栅的尺寸和距离自动计算柱栅的周期。 HS>Z6|uLY 因此,它不能单独设置,框显示为灰色。 9Iy>oV [attachment=93370] |'Z6M];8t Tgc)'8A;BN 4. 高级选项&信息 !Zlvz%X 在传播菜单中有几个高级选项可用。 /a(xUm @. propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 Gd%KBb 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。 ESL(Mf' 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。 `gSqwN<x% [attachment=93371] -}4<P}.5T 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。 VYMs`d[ Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。 ~;9B\fE` 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。 H<Ed"-n$I< [attachment=93372] u#ag|b/C: 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。 R 6ca; 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。 cEhwv0f!qS 定义的柱栅分解预览(俯视图)。 ix [aS •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。 [2WJ>2r}6 ej4xW~_ [attachment=93373] @OV\raUO&V 基于界面的定义类型 +Gg6h=u (例如:截锥光栅) 8%@7G* 1. 堆栈编辑器 LhUrVydL [attachment=93374] R bM`"wrZ 2. 截锥光栅 z|x0s0q? 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。 t6W$t 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。
:RBp 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。 p;,Cvw{.;% [attachment=93375] n3da@ClBt 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 MR} GxI 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 Lp`q[Z* 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。 Tky\W%Ag 选中的界面以红色高亮显示。 +vY8HQ|v 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 /{gCf 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。 /=).)<&|R [attachment=93376] sL[&y'+ 此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。 _VFl.U, 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。 dj3}Tjt 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。 Y&6vTU 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。 tF}Vs} 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 B{hP#bYK 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 !vH7vq 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。 87.b7 b. 对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 QVA)&k'T, 3. 截锥光栅参数 <xe=G]v 柱栅是一个可编程接口,由以下参数定义: Yw&{.<sL [attachment=93377] 2K0HN 锥高度 aY& | |