ZEMAX多重结构编辑问题

大哥们，我正在用zemax仿真搭建一个干涉仪，用于子孔径拼接干涉测量大口径非球面。在分光镜处使用多重结构编辑后，测量光路的编辑同样出现在了参考光路中，请问要怎样使测量光路和参考光路分离开来，可以独立编辑。也是刚接触ZEMAX软件，各位大哥指点一哈！！

yczemax	2019-05-15 19:01
学习学习下

ydc258ttbaby	2019-05-18 10:14
我也想学习学习

ydc258ttbaby	2019-05-18 10:14
楼主解决问题了吗

帅的被人砍	2019-05-30 20:51
后续镜头全部由多重组态编辑。

献li2018	2019-05-31 23:39
我也想知道如何做

冰淇淋2019	2019-08-19 08:42
希望楼主早日解决问题 q CB9z

lxyfzb	2020-07-11 11:16
干涉仪做出来了嘛？ >~^##bIb

学会就睡觉	2022-07-31 19:57
帅的被人砍:后续镜头全部由多重组态编辑。 (2019-05-30 20:51) Pz"!8b-MN #+eV5%Si 请问具体应该怎么做呢 Q=9S?p M

byron77	2022-08-01 11:06
关注一下

jabil	2022-08-01 13:11
pay attention

咩咩

2022-09-16 21:33

学会就睡觉:请问具体应该怎么做呢 i$:CGUb
(2022-07-31 19:57) >o>'@)I?e6

我近期也在做这一方面的仿真，楼主说的意思我是这样理解的，一种情况是测量光路的编辑出现在了参考光路，想独立编辑，但按道理就是图1的方法，使用多重结构操作数分别设置（THIC）厚度、(CRVT)曲率等,但我看楼主这个图测量光路有些面（图中是标准镜组），比如待测面，参考光路并不需要这个面，所以这种情况可以考虑把不需要的那个面材料删掉，等于空气，或者参考IGNR这类操作数（忽略某个表面），对于我说的第二种情况可以参考ZEMAX自带的干涉仪案例。

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