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【官方培训】2019年 Zemax成像与激光培训_06月深圳站
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zemax官方
2019-05-07 15:50
【官方培训】2019年 Zemax成像与激光培训_06月深圳站
Zemax成像设计
培训
课程
&
激光
、
光纤
耦合设计培训课程
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Zemax中国将于 2019 年 6 月在深圳举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!
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主办:Zemax China
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时间:
成像
设计:2019年06月17~19日 | 激光、光纤耦合:2019年06月20~21日
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地点:深圳
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课程安排:
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成像设计
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本课程为3 天的 OpticStudio 成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
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上课时间
第1天
第2天
第3天
9:00-10:30
OpticStudio 软件功能介绍;
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材料库、镜头库介绍;
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如何定义新材料;
01[NX? qEa
如何使用镜头库;
MTF;
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双高斯镜头设计及优化;
U!T~!C^
像质评价与图像模拟;
分析工具应用;
%el"BSB
寻找最佳非球面;
U2$d%8G
曲率套样板;
AUeu1(
镜头匹配工具;
10:30-10:45
茶歇
茶歇
茶歇
10:45-12:00
像差理论介绍;
7}1~%:6
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换;
ODZ5IO}v
坐标断点面的使用技巧;
BNz 5lrfq
序列模式棱镜建模;
IOTR/anu
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能;
ckV`OaRw4
加工误差、装配误差;
8'n/?.7cX
灵敏度分析;
aF8fqu\
反灵敏度分析;
hhb?6]Z/
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30
午餐
午餐
午餐
13:30-15:00
优化;
!GOM5z,
局部优化;
=b38(\
全局优化;
jQk*8
锤形优化;
jATI&oX
优化函数架构技巧;
BeCWa>54i
单透镜优化实例;
%R1 tJ( /
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例;
"mX\&%i6\p
投影系统设计;
*Kyw^DI
集光系统设计;
公差评价标准;
Rfn9s(m
公差操作数;
6W@UJx}w5
补偿变量的使用;
-r#X~2tPzD
单透镜公差分析;
;_8#f%Y#R
库克镜头公差分析;
*ohL&