| 200713 |
2019-04-26 10:56 |
光学镀膜技术的新进展
在各种光学千涉应用和集成光学平面波导中,要求高质量的介质膜。很多无机化合物膜用普通镀膜方法沉积很难达到要求的附着力、密度、硬度和低成本等条件。现在正在研究用反应气体放电等离子体和荷能离子镀膜材料原子处理等方法对无机化合物膜进行综合研究。 Wn< 3|`c
在光学多层膜中，介质膜很重要，因此,在光学镀膜领域主要研究和制备用于各种滤光片、反射镜和光波导的最佳化学配比、低吸收和高稳定性光学膜的方法。已经研究一种特殊的反应沉积技术，改进了化学合成膜的光学和机械性质。本文主要阐述荷能离子和等离子体镀膜技术的进展。
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