| bcpu215 |
2019-03-08 13:15 |
用splitter工具和diffuser设计任意光强的相位板有什么差别？
设计图案类的任意光强分布相位板一般推荐用diffuser工具里的“pattern generating diffuse”来设计，但也可以用splitter里的“arbitrary Array beam splitter"来设计，现在不清楚如何进行工具选择更合适？从我有限的两次试验看，splitter设计的元件衍射效率似乎比pattern要高一些，这是偶然的吗？ l kWID
请有经验的网友传授一下这方面的经验 +K3SAGm
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