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2019-02-26 11:43 |
失效分析常用方法及设备
失效分析常用方法及设备 Dht,!LVb; 'aLTiF+ 一般来说,集成电路在研制、生产和使用过程中失效不可避免,随着人们对产品质量和可靠性要求的不断提高,芯片失效分析工作也显得越来越重要,通过芯片失效分析,可以帮助集成电路设计人员找到设计上的缺陷、工艺参数的不匹配或设计与操作中的不当等问题。 h 3.6<vM 1$A7BP ;ty08D/ P&3Z,f0 失效分析的意义主要表现具体来说,失效分析的意义主要表现在以下几个方面: 失效分析是确定芯片失效机理的必要手段。 失效分析为有效的故障诊断提供了必要的信息。 失效分析为设计工程师不断改进或者修复芯片的设计,使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息。 失效分析可以评估不同测试向量的有效性,为生产测试提供必要的补充,为验证测试流程优化提供必要的信息基础。 Qv v~nGq$ OE{PP9eh cN]e{| m+3U[KKvG 失效分析主要步骤和内容: -FxE!K f`^\v
d q.'[ J~"h&>T @'D ,T^I ZKk*2EK]2z J.t tJOP :3oLGiL 1,芯片开封也成开帽,开盖decap去除IC封胶,同时保持芯片功能的完整无损,保持 die,bond pads,bond wires乃至lead-frame不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备。所用设备仪准科技 ADVANCED PST-2000 j B.ZF7q F4o)6+YM ;XUiV$ szZ8-Y @_:Jm
tH< MPS{MGVjbJ Zo12F**{ q8Z,XfF^S 2, SEM 扫描电镜/EDX成分分析:包括材料结构分析/缺陷观察、元素组成常规微区分析、精确测量元器件尺寸等等。提供服务实验室 仪准科技北京失效分析实验室 x{|`q9V~ N rzk]{W K4.GAGd JsDugn ,B W)OoHpdw 8i?Hh?Mf} D
on8xk Q,AM<\S SniKCqmC] >}?4;:.= 3, 探针测试:以微探针快捷方便地获取IC内部电信号。镭射切割:以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。所用设备 仪准科技ADVANCED PW-800 jdEqa$CXG $h)VKW^\ 8Ev,9 u djahI<{ Q*GJREC d^.@~ n#.~XNbxv 8B|qNf `Yi 4,EMMI侦测:EMMI微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具,提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式,可侦测和定位非常微弱的发光(可见光及近红外光),由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光。所用设备 仪准科技ADVANCED p-100 {&qB!axj
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d Gl@-RLo 83|7#L `g~T #U\>d DjK 5,OBIRCH应用(镭射光束诱发阻抗值变化测试):OBIRCH常用于芯片内部高阻抗及低阻抗分析,线路漏电路径分析。利用OBIRCH方法,可以有效地对电路中缺陷定位,如线条中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高阻区等,也能有效的检测短路或漏电,是发光显微技术的有力补充。提供服务实验室 仪准科技北京失效分析实验室 W/?\ 8AE bq}hj Cy
_$f XK hj<h]dhp i#RT4}l"a U`-]U2" xGU~FU -$Ad#Eu]M 6,X-Ray 无损侦测:检测IC封装中的各种缺陷如层剥离、爆裂、空洞以及打线的完整性,PCB制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接,开路、短路或不正常连接的缺陷,封装中的锡球完整性。提供服务实验室 仪准科技北京失效分析实验室。 <-3_tu>l 5|pPzEA> ~Wox"h}( REaU=-m- *It`<F| +)cjW"9 chQCl3&e^ I8%2tLVY [!Jd.zm 8rXQK|A 半导体失效分析测试交流欢迎留言 mh8{`W & );~JyoDo ;<?mMi@<E $vQ#ah/k
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