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【官方培训】2019年 Zemax成像与高级成像培训_04月北京站
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zemax官方
2019-01-30 13:06
【官方培训】2019年 Zemax成像与高级成像培训_04月北京站
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程
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Zemax 中国将于 2019 年 04 月在北京举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!
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主办:Zemax China
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时间:成像设计:2019年04月22~24日 | 高级成像设计:2019年04月25~26日
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地点:北京
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课程安排:
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成像设计
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本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
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上课时间
第1天
第2天
第3天
9:00-10:30
OpticStudio 软件功能介绍;
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材料库、镜头库介绍;
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如何定义新材料;
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如何使用镜头库;
MTF;
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双高斯镜头设计及优化;
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像质评价与图像模拟;
分析工具应用;
E(%_aFx>/
寻找最佳非球面;
B}OM:0
曲率套样板;
0 Z{;sW
镜头匹配工具;
10:30-10:45
茶歇
茶歇
茶歇
10:45-12:00
像差理论介绍;
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Zemax 像差分析图谱;
坐标变换;
QV&yVH=Xs
坐标断点面的使用技巧;
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序列模式棱镜建模;
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扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能;
jPu m2U_
加工误差、装配误差;
3Ql77?&k
灵敏度分析;
4xYW?s(
反灵敏度分析;
g+:Go9k!F
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30
午餐
午餐
午餐
13:30-15:00
优化;
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局部优化;
j*7#1<T
全局优化;
1ha 8)L
锤形优化;
p]lZ4#3
优化函数架构技巧;
2*[Gm e
单透镜优化实例;
y'{*B(
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例;
k/lU]~PE
投影系统设计;
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集光系统设计;
公差评价标准;
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公差操作数;
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