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【官方培训】2019年 Zemax成像与高级成像培训_04月北京站
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zemax官方
2019-01-30 13:06
【官方培训】2019年 Zemax成像与高级成像培训_04月北京站
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程
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Zemax 中国将于 2019 年 04 月在北京举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!
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主办:Zemax China
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时间:成像设计:2019年04月22~24日 | 高级成像设计:2019年04月25~26日
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地点:北京
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课程安排:
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成像设计
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本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
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上课时间
第1天
第2天
第3天
9:00-10:30
OpticStudio 软件功能介绍;
ELG{xN=o
材料库、镜头库介绍;
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如何定义新材料;
)abH//Pps.
如何使用镜头库;
MTF;
b!QRD'31'j
双高斯镜头设计及优化;
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像质评价与图像模拟;
分析工具应用;
S=L#8CID
寻找最佳非球面;
blG?("0!
曲率套样板;
vPZ0?r_5W
镜头匹配工具;
10:30-10:45
茶歇
茶歇
茶歇
10:45-12:00
像差理论介绍;
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Zemax 像差分析图谱;
坐标变换;
, P1m#
坐标断点面的使用技巧;
_=[pW2p
序列模式棱镜建模;
0ly6 |:
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能;
2nFr?Y3g,
加工误差、装配误差;
e=tM=i"
灵敏度分析;
!t)uRJ
反灵敏度分析;
h^."wv
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30
午餐
午餐
午餐
13:30-15:00
优化;
5M>SrZH
局部优化;
q` |E9
全局优化;
D+BflI~9mP
锤形优化;
!}eq~3
优化函数架构技巧;
vl`St$$|
单透镜优化实例;
][\ uH|
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例;
|c$*Fa"A
投影系统设计;
H]dN'c-
集光系统设计;
公差评价标准;
*rm[\
公差操作数;
!*wd d8
补偿变量的使用;
+,ld;NM{
单透镜公差分析;
:h0!giqoQ
库克镜头公差分析;
<qoPBm])
分析报告查看说明;
15:00-15:15
茶歇
茶歇
茶歇
15:15-17:00
热分析及衍射光学元件的使用;
5 "x1Pln
实例设计及分析;
-|czhO)R
小结及答疑;
暗盒系统介绍;
M;z )c|Z
小结及答疑;
公差脚本的使用;
wxG*mOw
镜头出图、CAD出图;
Ko0T[TNkh
小结及答疑
高级成像设计
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