| zemax官方 | 2019-01-07 15:17 |
Zemax OpticStudio 新增功能介绍Zemax OpticStudio 强大的建模分析能力可以帮助您快速完成光学系统的原型机设计并分析实际加工对系统的影响。在本次 OpticStudio 18.9 版本更新中主要完善升级的功能有： 增强的NSC转换工具 在光学产品原型机设计中分别在序列和非序列模式下进行光线追迹可以确保原型机的可加工性。在新版本中，序列模式下使用衍射光栅、二元面2和菲涅耳表面的光学系统现在可以自动转换为非序列系统，以支持进行后续的光机设计及杂散光分析。  增强的锁定设计工具 现在对具有多重结构的系统使用锁定设计工具时镜头数据编辑器中的所有参数求解类型都将自动转换为多重结构操作数。此外您还可以选择在锁定设计时将系统中的模型玻璃替换为为当前玻璃库中最接近的材料。 优化曲率半径公差的定义方式 现在您可以轻松将表面曲率半径的公差以百分比进行定义。当使用距离测量干涉仪测量公差数据时，在公差分析过程中使用百分比作为曲率半径公差的定义方式能够提高测量数据的准确性。 公差分析结果可视化 您可以利用公差数据可视化功能访问灵敏度分析和蒙特卡洛分析过程中的所有数据，并对其进行可视化。该功能目前处于实验阶段，您可以在Zemax实验室中使用，欢迎您对该功能提出改进意见。 此外，新版本还优化了全视场像差分析功能、扩展了编程分析功能并增强了系统分析优化的稳定性。 如需了解详情，请访问 OpticStudio 18.9 版本说明 （https://www.zemax.cn.com/ZMXLLC/media/PDFLibrary/OpticStudio18-9ReleaseNotes_CN.pdf?ext=.pdf） |
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